半导体台面二极管芯片及其制作方法技术

本发明专利技术属于二极管加工应用技术领域，涉及台面二极管芯片，尤其涉及一种半导体台面二极管芯片及其制作方法。包括硅片衬底层、设置在硅片衬底层底部的N+阴极层以及设置在硅片衬底层顶部的P+阳极层，所述硅片衬底层和P+阳极层呈台面状设置，所述硅片衬底层的底部还设置有P+场限圈，所述P+场限圈包裹在P+阳极层外设置，所述P+场限圈和P+阳极层之间间隔设置，本发明专利技术通过在硅片衬底层的上表面加设P+场限圈，使P+场限圈与硅片衬底层之间形成一个PN结，进而拓宽PN结终端空间电荷区宽度，同时P+场限圈与P+阳极层之间间隔设置，进而避免器件体内漏电流不受P+场限圈影响，从而使半导体台面二极管芯片击穿电压高，漏电流小，耐压能力强且可靠性强。

Semiconductor mesa diode chip and its fabrication method

【技术实现步骤摘要】
半导体台面二极管芯片及其制作方法
本专利技术属于二极管加工应用
，涉及台面二极管芯片，尤其涉及一种半导体台面二极管芯片及其制作方法。
技术介绍
随着半导体工艺技术的进步和发展，半导体器件性能要求越来越高，半导体器件的最基础单位是PN结无可厚非，研究PN结的性能对研究其他复杂器件，比如三极管、IC都具有比较重要的意义。而二极管就是一个PN结，就其结构、大功率以及制作整流桥的便利性而言，使用最多的是台面型二极管。台面型二极管，顾名思义，就是具有台阶结构的二极管，是将扩散好的晶片通过刻蚀方法制作出台阶，将PN结暴露出来，然后通过清洗、钝化等方式将暴露的PN结保护起来，以提升器件的可靠性。二极管的参数里面其中有一项叫做反向击穿电压VB，一般而言，扩散结束后，PN结的反向击穿电压就已经固定，但是通过后工序的刻蚀制作台阶、钝化等工序后，PN结表面电场会发生改变，从而导致PN结表面击穿电压低于体内击穿电压问题，一般情况下，台面二极管的内部被击穿后是可以恢复的，而其表面(侧面)被击穿往往会导致二极管永久性失效，所以降低PN结表面电场，提高表面击穿电压具有重要的意义。目前，现有针对PN结表面电场的主要方式是芯片的不同区域相应地掺杂不同浓度的三价或者五价杂质，使芯片表面的击穿电压高于管芯内部的击穿电压，比如，在N区增加N+区或在P区增加P+区的方式，来提高芯片的击穿电压，以达到提高使用寿命的问题。上述技术方案虽然在一定程度上提高了表面击穿电压，但其扔漏电流大，耐压能力有限的技术问题。专利技术内容本专利技术针对上述的台面二极管芯片所存在的技术问题，提出一种设计合理、结构简单、加工方便且击穿电压高，漏电流小，耐压能力强，可靠性强的一种半导体台面二极管芯片及其制作方法。为了达到上述目的，本专利技术采用的技术方案为，本专利技术提供一种半导体台面二极管芯片，包括硅片衬底层、设置在硅片衬底层底部的N+阴极层以及设置在硅片衬底层顶部的P+阳极层，所述硅片衬底层和P+阳极层呈台面状设置，所述硅片衬底层的底部还设置有P+场限圈，所述P+场限圈包裹在P+阳极层外设置，所述P+场限圈和P+阳极层之间间隔设置，所述硅片衬底层的顶部设置有用于放置P+场限圈的凹槽，所述P+场限圈的顶部与硅片衬底层的顶部水平设置。作为优选，所述P+场限圈靠近硅片衬底层的外壁设置。作为优选，所述P+场限圈的杂质浓度不低于1018设置。本专利技术还提供了制备上述半导体台面二极管芯片的方法，包括以下有效步骤：a、原片清洗：用酸洗或碱洗方式将硅片衬底层的表面清洗干净；b、阴极扩散：利用高温物理扩散原理将五族元素杂质原子扩散进入硅片衬底层，形成N+阴极层，得到扩散后硅片；c、吹砂：将扩散后硅片表面的氧化层和杂质用金刚砂去除，以确保后续便于清洗扩散后硅片；d、清洗：用酸洗或碱洗方式将扩散后硅片表面的金刚砂和其他杂质清洗干净；e、氧化：在扩散后硅片表面生长一层氧化层；f、一次光刻：在扩散后硅片远离N+阴极层的表面涂布一层光刻胶，通过曝光、显影、定影和坚膜，将掩膜版上的设计图形转移至扩散后硅片远离N+阴极层表面；g、场限圈扩散：利用高温物理扩散原理将三族元素杂质原子扩散进入扩散后硅片，形成P+场限圈；h、氧化：待P+场限圈制作完成后，继续在扩散后硅片的表层生长一层氧化层；i、二次光刻：在扩散后硅片表面涂布一层光刻胶，通过曝光、显影、定影和坚膜，将掩膜版上的设计图形转移至硅片表面；j、阳极扩散：用高温物理扩散原理将三族元素杂质原子扩散进入扩散后硅片，形成P+阳极层，同时将P+场限圈推进；k、三次光刻：在扩散后硅片表面涂布一层光刻胶，通过曝光、显影、定影和坚膜，将掩膜版上的设计图形转移至扩散后硅片的表面；l、台阶腐蚀：使用混合酸将未被光刻胶覆盖部分腐蚀出沟槽，并将PN结暴露于沟槽表面；m、清洗：使用酸洗和碱洗相结合，将扩散后硅片表面清洗干净；n、钝化：使用绝缘层将暴露的PN结钝化保护；o、四次光刻：将设计的金属化窗口图形转移至扩散后硅片表面，并进行金属化处理，得到分布在硅片上的芯片；p、电性测试：按照电性设计要求将电性失效的芯片做上标记；q、划片：将制作在硅片上的芯片按设计尺寸划开，分离成单个的半导体芯片，即得到半导体台面二极管芯片。与现有技术相比，本专利技术的优点和积极效果在于，1、本专利技术提供一种半导体台面二极管芯片及其制作方法，通过在硅片衬底层的上表面加设P+场限圈，使P+场限圈与硅片衬底层之间形成一个PN结，进而拓宽PN结终端空间电荷区宽度，同时P+场限圈与P+阳极层之间间隔设置，进而避免器件体内漏电流不受P+场限圈影响，从而使本专利技术提供的半导体台面二极管芯片击穿电压高，漏电流小，耐压能力强且可靠性强。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为实施例1提供的半导体台面二极管芯片的主视图；图2为实施例1提供的半导体台面二极管芯片的俯视图；图3为实施例2提供的半导体台面二极管芯片的主视图；图4为实施例2提供的半导体台面二极管芯片的俯视图；以上各图中，1、硅片衬底层；2、N+阴极层；3、P+阳极层；4、P+场限圈。具体实施方式为了能够更清楚地理解本专利技术的上述目的、特征和优点，下面结合附图和实施例对本专利技术做进一步说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术，但是，本专利技术还可以采用不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本专利技术并不限于下面公开说明书的具体实施例的限制。实施例1，如图1、图2所示，本实施例提供一种半导体台面二极管芯片为了解决现有半导体台面二极管芯片在提高表面击穿电压所存在的技术问题，为此，本实施例提供的半导体台面二极管芯片，包括硅片衬底层、设置在硅片衬底层底部的N+阴极层以及设置在硅片衬底层顶部的P+阳极层，N+阴极层其实就是现有常见的磷扩散层，而P+阳极层则是现有常见的硼扩散层，硅片衬底层和P+阳极层呈台面状设置，以上结构为现有常见的结构，故在本实施例中，不加详细描述。本实施例重点改进的地方在于，在硅片衬底层的底部还设置有P+场限圈，P+场限圈实际是在硅片衬底层设置了一圈将P+阳极层包裹在内的硼扩散圈，众所周知，PN结面积越大，其结电容也越大，结电容在通电时储存的电荷就越多，因此，PN结反向截止时形成一个耗尽层，相当于一个中间绝缘层的一个小电容，因此当电压频率升高后，高频信号会通过这个小电容穿过，也就是反向信号也可以穿过二极管，就失去单向导电性了。为此，在本实施例中，通过设置P+场限圈，使PN结面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体台面二极管芯片，包括硅片衬底层、设置在硅片衬底层底部的N+阴极层以及设置在硅片衬底层顶部的P+阳极层，所述硅片衬底层和P+阳极层呈台面状设置，其特征在于，所述硅片衬底层的底部还设置有P+场限圈，所述P+场限圈包裹在P+阳极层外设置，所述P+场限圈和P+阳极层之间间隔设置，所述硅片衬底层的顶部设置有用于放置P+场限圈的凹槽，所述P+场限圈的顶部与硅片衬底层的顶部水平设置。/n

【技术特征摘要】
1.一种半导体台面二极管芯片，包括硅片衬底层、设置在硅片衬底层底部的N+阴极层以及设置在硅片衬底层顶部的P+阳极层，所述硅片衬底层和P+阳极层呈台面状设置，其特征在于，所述硅片衬底层的底部还设置有P+场限圈，所述P+场限圈包裹在P+阳极层外设置，所述P+场限圈和P+阳极层之间间隔设置，所述硅片衬底层的顶部设置有用于放置P+场限圈的凹槽，所述P+场限圈的顶部与硅片衬底层的顶部水平设置。


2.根据权利要求1所述的半导体台面二极管芯片，其特征在于，所述P+场限圈靠近硅片衬底层的外壁设置。


3.根据权利要求1或2所述的半导体台面二极管芯片，其特征在于，所述P+场限圈的杂质浓度不低于1018设置。


4.制备权利要求3所述的半导体台面二极管芯片的方法，其特征在于，包括以下有效步骤：
a、原片清洗：用酸洗或碱洗方式将硅片衬底层的表面清洗干净；
b、阴极扩散：利用高温物理扩散原理将五族元素杂质原子扩散进入硅片衬底层，形成N+阴极层，得到扩散后硅片；
c、吹砂：将扩散后硅片表面的氧化层和杂质用金刚砂去除，以确保后续便于清洗扩散后硅片；
d、清洗：用酸洗或碱洗方式将扩散后硅片表面的金刚砂和其他杂质清洗干净；
e、氧化：在扩散后硅片表面生长一层氧化层；
f、一次光...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏兴政，李浩，
申请(专利权)人：济南兰星电子有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37