一种磁共溅射法制备的金属过滤膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种磁共溅射法制备的金属过滤膜及其制备方法，该方法包含：步骤1，采用磁控溅射镀膜机，打开设备电源，并打开冷却水、空压机，打开放气阀，待无气压声时打开真空室门，将玻璃样品安放在靶台，关闭真空室门，关闭放气阀，打开机械泵控制电源，打开旁抽阀抽真空；步骤2，关闭旁抽阀，打开前级泵，打开分子泵电源，逐渐打开翻板阀，抽真空；步骤3，打开氩气瓶和控制阀，调节流量，调节真空室气压，打靶台挡板开直流电源开关，调节功率后出现辉光，打开样品板开始溅射；步骤4，溅射一段时间后，停止溅射，逐项关闭各处阀门，取出金属薄膜。本发明专利技术制备的金属过滤膜能够去除空气中的PM2.5及水中重金属等杂质，保护人体健康。

【技术实现步骤摘要】
一种磁共溅射法制备的金属过滤膜及其制备方法
本专利技术涉及一种金属过滤膜及其制备方法，具体地，涉及一种磁共溅射法制备的金属过滤膜及其制备方法。
技术介绍
过滤膜根据微孔孔径的大小分为微滤膜(MF)、超滤膜(UF)、纳滤膜(NF)和反渗透膜(RO)四种形式，根据成膜材料分为无机膜和有机高分子膜，有机高分子膜又分为天然高分子膜和合成高分子膜，无机膜又分为陶瓷膜和金属膜。磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极(柱状靶或平面靶)和阳极(镀膜室壁)之间施加一定的直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间，便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。磁控溅射法具有镀膜层致密、均匀等优点。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种用于空气及水环境净化的金属过滤膜及其制备方法，采用磁共溅射法，制备的金属过滤膜能够去除空气中的PM2.5及水中重金属等杂质，保护人体健康。为了达到上述目的，本专利技术提供了一种通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，其中，所述的方法包含：步骤1，采用磁控溅射镀膜机，打开设备电源，并打开冷却水、空压机，打开放气阀，待无气压声时打开真空室门，将玻璃样品安放在靶台适当位置，关闭真空室门，关闭放气阀，打开机械泵控制电源，打开旁抽阀抽真空；步骤2，关闭旁抽阀，打开前级泵，打开分子泵电源，逐渐打开翻板阀，抽真空；步骤3，打开氩气瓶和MCF控制阀，调节流量，调节真空室气压，打靶台挡板开直流电源开关，调节功率后出现辉光，打开样品板开始溅射；步骤4，溅射一段时间后，停止溅射，逐项关闭设备各处阀门，取出金属薄膜。上述的通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，其中，所述的步骤1中，打开旁抽阀抽真空，使真空度低于5Pa。上述的通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，其中，所述的步骤2中，分子泵转速为8000～9000r/s，频率为130～140Hz，当真空度为3×10-3Pa时，分子泵转速为2000～3000r/s，频率为400～500Hz，电压50～60V，电流3.0～3.5A。上述的通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，其中，所述的步骤3中，打开氩气瓶和MCF控制阀，调节流量20ml/min，调节真空室气压至1～2Pa，打靶台挡板开直流电源开关，调节功率为8～12W时，出现辉光，打开样品板开始溅射。上述的通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，其中，所述的步骤4中，溅射时间为5～30min，停止溅射，逐项关闭设备各处阀门，取出金属薄膜，金属薄膜厚度为5～15nm。上述的通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，其中，所述的步骤4中，通过调整溅射时间、电压等数据，制备出不同厚度的金属薄膜。本专利技术还提供了上述的磁共溅射法制备的金属过滤膜，其中，所述的金属过滤膜通过使用磁控溅射镀膜机、阴极靶、氩气来制备。上述的磁共溅射法制备的金属过滤膜，其中，所述的阴极靶采用金属、合金、低价金属化合物、半导体材料中的任意一种或多种。本专利技术提供的磁共溅射法制备的金属过滤膜及其制备方法具有以下优点：本专利技术基于磁共溅射法制备的金属过滤膜，结构更为致密，性能均匀，能够更好地用于空气及水的过滤，更好去处空气中的PM2.5及水中杂质，用更好地产品保护人体健康。本方法磁共溅射法制备的金属过滤膜，工艺简单易操作，成本低廉，经济效益高，适合大规模工业化生产。具体实施方式以下对本专利技术的具体实施方式作进一步地说明。本专利技术提供的通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，该方法包含：步骤1，采用磁控溅射镀膜机，打开设备电源，并打开冷却水、空压机，打开放气阀，待无气压声时打开真空室门，将玻璃样品安放在靶台适当位置，关闭真空室门，关闭放气阀，打开机械泵控制电源，打开旁抽阀抽真空；步骤2，关闭旁抽阀，打开前级泵，打开分子泵电源，逐渐打开翻板阀，抽真空；步骤3，打开氩气瓶和MCF控制阀(即MCF系列脉冲电磁阀)，调节流量，调节真空室气压，打靶台挡板开直流电源开关，调节功率后出现辉光，打开样品板开始溅射；步骤4，溅射一段时间后，停止溅射，逐项关闭设备各处阀门，取出金属薄膜。步骤1中，打开旁抽阀抽真空，使真空度低于5Pa。步骤2中，分子泵转速为8000～9000r/s，频率为130～140Hz，当真空度为3×10-3Pa时，分子泵转速为2000～3000r/s，频率为400～500Hz，电压50～60V，电流3.0～3.5A。步骤3中，打开氩气瓶和MCF控制阀，调节流量20ml/min，调节真空室气压至1～2Pa，打靶台挡板开直流电源开关，调节功率为8～12W时，出现辉光，打开样品板开始溅射。步骤4中，溅射时间为5～30min，停止溅射，逐项关闭设备各处阀门，取出金属薄膜，金属薄膜厚度约为5～15nm。步骤4中，通过调整溅射时间、电压等数据，制备出不同厚度的金属薄膜。本专利技术还提供了该磁共溅射法制备的金属过滤膜，该金属过滤膜通过使用磁控溅射镀膜机、阴极靶、氩气来制备。优选地，阴极靶采用金属、合金、低价金属化合物、半导体材料等中的任意一种或多种。下面结合实施例对本专利技术提供的磁共溅射法制备的金属过滤膜及其制备方法做更进一步描述。实施例1一种通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，该方法包含：步骤1，采用磁控溅射镀膜机，打开设备电源，并打开冷却水、空压机，打开放气阀，待无气压声时打开真空室门，将玻璃样品安放在靶台适当位置，关闭真空室门，关闭放气阀，打开机械泵控制电源，打开旁抽阀抽真空；使真空度低于5Pa。步骤2，关闭旁抽阀，打开前级泵，打开分子泵电源，逐渐打开翻板阀，抽真空；分子泵转速为8000～9000r/s，频率为130～140Hz，当真空度为3×10-3Pa时，分子泵转速为2000～3000r/s，频率为400～500Hz，电压50～60V，电流3.0～3.5A。步骤3，打开氩气瓶和MCF控制阀，调节流量20ml/min，调节真空室气压至1～2Pa，打靶台挡板开直流电源开关，调节功率为8～12W时，出现辉光，打开样品板开始溅射。步骤4，溅射时间为5min，停止溅射，逐项关闭设备各处阀门，取出金属薄膜，金属薄膜厚度约为5～15nm。通过调整溅射时间、电压等数据，制备出不同厚度的金属薄膜。本实施例还提供了该磁共溅射法制备的金属过滤膜，该金属过滤膜通过使用磁控溅射镀膜机、阴极靶、氩气来制备。优选地，阴极靶采用金属。实施例2一种通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，该方法包含：步骤1，采用磁控溅射镀膜机，打开设备电源，并打开冷却水、空压机，打开放气阀，待无气压声时打开真空室门，将玻璃样品安放在靶台适当位置，关闭真空室门，关闭放气阀，打开机械泵控制电源，打开旁抽阀抽真空；使真空度低于5Pa。...

【技术保护点】
1.一种通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，其特征在于，所述的方法包含：/n步骤1，采用磁控溅射镀膜机，打开设备电源，并打开冷却水、空压机，打开放气阀，待无气压声时打开真空室门，将玻璃样品安放在靶台适当位置，关闭真空室门，关闭放气阀，打开机械泵控制电源，打开旁抽阀抽真空；/n步骤2，关闭旁抽阀，打开前级泵，打开分子泵电源，逐渐打开翻板阀，抽真空；/n步骤3，打开氩气瓶和控制阀，调节流量，调节真空室气压，打靶台挡板开直流电源开关，调节功率后出现辉光，打开样品板开始溅射；/n步骤4，溅射一段时间后，停止溅射，逐项关闭设备各处阀门，取出金属薄膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，其特征在于，所述的方法包含：
步骤1，采用磁控溅射镀膜机，打开设备电源，并打开冷却水、空压机，打开放气阀，待无气压声时打开真空室门，将玻璃样品安放在靶台适当位置，关闭真空室门，关闭放气阀，打开机械泵控制电源，打开旁抽阀抽真空；
步骤2，关闭旁抽阀，打开前级泵，打开分子泵电源，逐渐打开翻板阀，抽真空；
步骤3，打开氩气瓶和控制阀，调节流量，调节真空室气压，打靶台挡板开直流电源开关，调节功率后出现辉光，打开样品板开始溅射；
步骤4，溅射一段时间后，停止溅射，逐项关闭设备各处阀门，取出金属薄膜。


2.如权利要求1所述的通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，其特征在于，所述的步骤1中，打开旁抽阀抽真空，使真空度低于5Pa。


3.如权利要求1所述的通过磁共溅射法制备金属过滤膜的制备方法，其特征在于，所述的步骤2中，分子泵转速为8000～9000r/s，频率为130～140Hz，当真空度为3×10-3Pa时，分子泵转速为2000～3000r/s，频率为400～500Hz，电压50～6...

【专利技术属性】
技术研发人员：王强，刘少华，
申请(专利权)人：广州康滤净化科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44