手持式等离子处理设备制造技术

本发明专利技术公开了一种手持式等离子处理设备，包括壳体和基座组件，还包括气体混合箱、导流板组件、陶瓷介质管和电极柱，所述壳体和基座组件之间围成容纳腔，所述气体混合箱、导流板组件、陶瓷介质管和电极柱均设置于所述容纳腔内，所述电极柱设置于所述陶瓷介质管内；所述基座组件上设有开槽，所述导流板组件架设于所述开槽上，所述陶瓷介质管设置于所述导流板组件的底部，且所述陶瓷介质管与所述开槽之间设有缝隙，所述导流板组件上设有导流孔，所述导流孔分别与所述气体混合箱和缝隙连通，所述开槽的底部设有出焰孔。其结构简单，整体体积小，便于携带和安装，且处理效果好。

Handheld plasma processing equipment

【技术实现步骤摘要】
手持式等离子处理设备
本专利技术涉及等离子处理
，尤其涉及一种手持式等离子处理设备。
技术介绍
等离子体是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质，尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体，其运动主要受电磁力支配，并表现出显著的集体行为。它广泛存在于宇宙中，常被视为是除去固、液、气外，物质存在的第四态。等离子体是一种很好的导电体，利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。等离子体物理的发展为材料、能源、信息、环境空间、空间物理、地球物理等科学的进一步发展提供了新的技术和工艺。等离子体是不同于固体、液体和气体的物质第四态。物质由分子构成，分子由原子构成，原子由带正电的原子核和围绕它的、带负电的电子构成。当被加热到足够高的温度或其他原因，外层电子摆脱原子核的束缚成为自由电子。电子离开原子核，这个过程就叫做“电离”。这时，物质就变成了由带正电的原子核和带负电的电子组成的、一团均匀的“浆糊”，因此人们戏称它为离子浆，这些离子浆中正负电荷总量相等，因此它是近似电中性的。所以等离子体的应用非常的广泛，包括数码行业、电子行业、汽车行业及印刷包装行业等。现有的等离子处理设备主要是旋转喷枪、直流喷枪和宽幅等离子机为主。直流喷枪等离子火焰只能处理小范围产品，最大6～8mm宽的幅度；旋转喷枪喷嘴虽然可以扩大范围，但处理范围越大，处理效果越差，等离子利用率越低；宽幅等离子机由于尺寸面积太大而不利于处理一些中小型产品，安装不方便，并且等离子火焰的长度有限，不利于处理多样化的产品。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：提供一种手持式等离子处理设备，其处理效果好且便于携带安装。为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案为：一种手持式等离子处理设备，包括壳体和基座组件，还包括气体混合箱、导流板组件、陶瓷介质管和电极柱，所述壳体和基座组件之间围成容纳腔，所述气体混合箱、导流板组件、陶瓷介质管和电极柱均设置于所述容纳腔内，所述电极柱设置于所述陶瓷介质管内；所述基座组件上设有开槽，所述导流板组件架设于所述开槽上，所述陶瓷介质管设置于所述导流板组件的底部，且所述陶瓷介质管与所述开槽之间设有缝隙，所述导流板组件上设有导流孔，所述导流孔分别与所述气体混合箱和缝隙连通，所述开槽的底部设有出焰孔。进一步的，所述开槽的底部设有两列的出焰孔，且每一列的出焰孔沿所述陶瓷介质管的长度方向设置。进一步的，所述陶瓷介质管靠近所述出焰孔的一侧面为平面。进一步的，所述导流板组件包括第一导流板和第二导流板，所述开槽的形状为Y字形，所述第一导流板位于所述开槽内，所述第二导流板设置于所述第一导流板上，所述气体混合箱设置于所述第二导流板远离第一导流板的一侧，所述第一导流板和第二导流板上均设有所述导流孔，且所述第一导流板与第二导流板之间设有混合空间。进一步的，所述第一导流板上的导流孔相对于所述第二导流板上的导流孔错位设置。进一步的，所述第二导流板的形状为T字形。进一步的，所述电极柱的材质为铜。进一步的，所述基座组件包括第一基座和第二基座，所述第一基座设置于所述第二基座上，所述第一基座靠近第二基座的一侧面上设有密封槽，所述密封槽内设有密封条。进一步的，所述陶瓷介质管与所述开槽的两侧壁之间的缝隙的最小宽度为0.5～1mm。进一步的，所述壳体上设有两个间隔设置的进气口，所述两个的所述进气口分别与所述气体混合箱连通。进一步的，所述基座组件上还设有高压输入端口和冷却水进水口，所述高压输入端口与所述电极柱电气连接，且所述高压输入端口与所述冷却水进水口之间的距离大于10mm。本专利技术的有益效果在于：工作气体经气体混合箱混合后通过导流孔进入陶瓷介质管与开槽之间的缝隙内，以陶瓷介质管为介质层与工作气体发生反应产生等离子体，产生的等离子体通过出焰孔到达待处理产品的表面，出焰孔的位置可以根据需要设置成线型以提高处理效果。本专利技术的等离子处理设备的结构简单，整体体积小，可以手持，便于携带和安装，且处理效果好。附图说明图1为本专利技术实施例一的手持式等离子处理设备的整体结构示意图；图2为本专利技术实施例一的手持式等离子处理设备的结构爆炸图；图3为本专利技术实施例一的手持式等离子处理设备的剖视图。标号说明：1、壳体；11、进气口；2、基座组件；21、高压输入端口；22、冷却水口；23、第一基座；231、密封槽；24、第二基座；3、气体混合箱；4、陶瓷介质管；5、电极柱；6、缝隙；7、第一导流板；8、第二导流板；9、导流孔；10、混合空间。具体实施方式为详细说明本专利技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。请参照图1至图3，一种手持式等离子处理设备，包括壳体1和基座组件2，还包括气体混合箱3、导流板组件、陶瓷介质管4和电极柱5，所述壳体1和基座组件2之间围成容纳腔，所述气体混合箱3、导流板组件、陶瓷介质管4和电极柱5均设置于所述容纳腔内，所述电极柱5设置于所述陶瓷介质管4内；所述基座组件2上设有开槽，所述导流板组件架设于所述开槽上，所述陶瓷介质管4设置于所述导流板组件的底部，且所述陶瓷介质管4与所述开槽之间设有缝隙6，所述导流板组件上设有导流孔9，所述导流孔9分别与所述气体混合箱3和缝隙6连通，所述开槽的底部设有出焰孔。从上述描述可知，本专利技术的有益效果在于：工作气体经气体混合箱混合后通过导流孔进入陶瓷介质管与开槽之间的缝隙内，以陶瓷介质管为介质层与工作气体发生反应产生等离子体，产生的等离子体通过出焰孔到达待处理产品的表面，出焰孔的位置可以根据需要设置成线型以提高处理效果。本专利技术的等离子处理设备的结构简单，整体体积小，可以手持，便于携带和安装，且处理效果好。进一步的，所述开槽的底部设有两列的出焰孔，且每一列的出焰孔沿所述陶瓷介质管4的长度方向设置。由上述描述可知，设置两列出焰孔可以增大处理面积，提高处理效率。进一步的，所述陶瓷介质管4靠近所述出焰孔的一侧面为平面。由上述描述可知，设置为平面可以使产生的等离子体更加均匀。进一步的，所述导流板组件包括第一导流板7和第二导流板8，所述开槽的形状为Y字形，所述第一导流板7位于所述开槽内，所述第二导流板8设置于所述第一导流板7上，所述气体混合箱3设置于所述第二导流板8远离第一导流板7的一侧，所述第一导流板7和第二导流板8上均设有所述导流孔9，且所述第一导流板7与第二导流板8之间设有混合空间10。由上述描述可知，设置两个导流板可以延长气体路径，且第一导流板与第二导流板之间设有混合空间，可以使气体混合更加均匀。进一步的，所述第一导流板7上的导流孔9相对于所述第二导流板8上的导流孔9错位设置。由上述描述可知，当气体从气体混合箱进入腔体内部之后，首先气压会作用在第二导流板的表面，使得气体扩散开来，然后通过第二导流板上的导流孔进入第一导流板所在的空间，由于导流孔错位设置，气体将本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种手持式等离子处理设备，包括壳体和基座组件，其特征在于，还包括气体混合箱、导流板组件、陶瓷介质管和电极柱，所述壳体和基座组件之间围成容纳腔，所述气体混合箱、导流板组件、陶瓷介质管和电极柱均设置于所述容纳腔内，所述电极柱设置于所述陶瓷介质管内；所述基座组件上设有开槽，所述导流板组件架设于所述开槽上，所述陶瓷介质管设置于所述导流板组件的底部，且所述陶瓷介质管与所述开槽之间设有缝隙，所述导流板组件上设有导流孔，所述导流孔分别与所述气体混合箱和缝隙连通，所述开槽的底部设有出焰孔。/n

【技术特征摘要】
1.一种手持式等离子处理设备，包括壳体和基座组件，其特征在于，还包括气体混合箱、导流板组件、陶瓷介质管和电极柱，所述壳体和基座组件之间围成容纳腔，所述气体混合箱、导流板组件、陶瓷介质管和电极柱均设置于所述容纳腔内，所述电极柱设置于所述陶瓷介质管内；所述基座组件上设有开槽，所述导流板组件架设于所述开槽上，所述陶瓷介质管设置于所述导流板组件的底部，且所述陶瓷介质管与所述开槽之间设有缝隙，所述导流板组件上设有导流孔，所述导流孔分别与所述气体混合箱和缝隙连通，所述开槽的底部设有出焰孔。


2.根据权利要求1所述的手持式等离子处理设备，其特征在于，所述开槽的底部设有两列的出焰孔，且每一列的出焰孔沿所述陶瓷介质管的长度方向设置。


3.根据权利要求2所述的手持式等离子处理设备，其特征在于，所述陶瓷介质管靠近所述出焰孔的一侧面为平面。


4.根据权利要求1所述的手持式等离子处理设备，其特征在于，所述导流板组件包括第一导流板和第二导流板，所述开槽的形状为Y字形，所述第一导流板位于所述开槽内，所述第二导流板设置于所述第一导流板上，所述气体混合箱设置于所述第二导流板远离第一导流板的一侧，所述第一导流板和第二导流板上均设有所...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗弦，
申请(专利权)人：深圳市诚峰智造有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44