【技术实现步骤摘要】
一种离子注入机中断后恢复注入状态的方法
本专利技术应用于离子注入机，可以在离子注入机注入过程中，出现人为或异常的中断，导致晶片未能正常完成注入时，对未完成注入晶片按照中断之前的状态，进行续打。
技术介绍
离子注入机作为一种大型的半导体加工设备，有复杂的水路、电气、气路及辅助系统，有着众多的运动部件。上千个部件之间需要紧密的配合，各个电源、磁极以及电机需要进行精密的控制。这对整体的稳定性要求极高。离子注入机在注入过程中，诸多系统及运动部件互相配合，很难避免产生运行错误，而且错误可能产生在注入的各个注入步骤。当发生了错误之后，注入机如何处理错误及恢复生产，在注入单元中进行注入的晶片如何进行后续处理，都是需要考虑的问题。针对上面的问题，可以考虑通过提高机台各个部分及整体的稳定性来进行缓解，但是不可能避免问题的发生，所以需要一种能够在发生问题时进行处理，并恢复机台状态的方法。
技术实现思路
本专利技术公开了一种离子注入机中断后恢复注入状态的方法，主要用于离子注入机的问题处理及状态恢复，在离子注入机出现必须中断注入的情况下，能够及时保存离子注入机状态，并在注入机恢复正常后，重新按原状态进行注入。本专利技术通过以下技术方案实现：续打界面程序(1)、数据库(2)、调度逻辑程序(3)、注入逻辑程序(4)。其特征在于：在发生故障时，注入逻辑程序(4)会向数据库(2)中产生故障产生时机台的关键状态，实现注入机中断时状态保存。当状态恢复后，通过续打界面程序(1)从数据库(2)中读取需要恢...
【技术保护点】
1.一种离子注入机中断后恢复注入状态的方法包括：续打界面程序(1)、数据库(2)、调度逻辑程序(3)、注入逻辑程序(4)。其特征在于：续打界面程序(1)、数据库(2)为自主开发的部分，其中数据库(2)存储需要恢复的每个状态的详细信息，该信息会通过续打界面程序(1)显示，并提供给操作者选择，操作者选定之后，可以通过续打界面程序(1)给调度逻辑程序(3)下指令，进行续打。/n
【技术特征摘要】
1.一种离子注入机中断后恢复注入状态的方法包括：续打界面程序(1)、数据库(2)、调度逻辑程序(3)、注入逻辑程序(4)。其特征在于：续打界面程序(1)、数据库(2)为自主开发的部分，其中数据库(2)存储需要恢复的每个状态的详细信息，该信息会通过续打界面程序(1)显示，并提供给操作者选择，操作者选定之后，可以通过续打界面程序(1)给调度逻辑程序(3)下指令，进行续打。
2.如权利要求1所示的一种离子注入机中断后恢复注入状态的方法，在续打界面程序(1)选定某个要恢复的数据后，会将该条件的部分特征量发送给注入逻辑程序(4)，并通过变量告知注入逻辑...
【专利技术属性】
技术研发人员：周杨森，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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