本实用新型专利技术公开了一种大型反应釜伸缩抛光打磨装置,包括轨道,所述轨道的上方设置有架体,所述架体的下方安装有轮子,所述架体的内侧设置有上横杆和下横杆,所述上横杆和下横杆上套有转筒,所述上横杆的转筒与下横杆的转筒之间设置有支撑柱,所述支撑柱的侧面设置有齿条,所述支撑柱的另一端上方固定焊接有固定板,所述固定板的下方通过螺栓固定安装有打磨机构,该大型反应釜伸缩抛光打磨装置,主要用于大型反应釜抛光打磨使用,抛光打磨装置底部设有一个轨道,使抛光打磨装置可以在轨道上进行前后平移,极大的提高抛光打磨装置覆盖范围,极大的提高了整体的打磨效率,保证大型反应釜抛光打磨质量。
A kind of large-scale reaction kettle stretching polishing and polishing device
【技术实现步骤摘要】
一种大型反应釜伸缩抛光打磨装置
本技术涉及打磨装置
,具体为一种大型反应釜伸缩抛光打磨装置。
技术介绍
大型反应釜在生产制造的过程中需要对大型反应釜的外表面进行抛光打磨,但是现在一般采用人工进行打磨,打磨效率慢,而且耗费体力,因此,专利技术一种大型反应釜伸缩抛光打磨装置来解决上述问题很有必要。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种大型反应釜伸缩抛光打磨装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种大型反应釜伸缩抛光打磨装置,包括轨道,所述轨道的上方设置有架体,设置的架体用以支撑整个装置,所述架体的下方安装有轮子,所述轮子放置在架体,且架体可以在轨道上移动,所述架体的内侧设置有上横杆和下横杆,所述上横杆和下横杆上通过轴承连接有转筒,设置的转筒可以旋转,所述上横杆的转筒与下横杆的转筒之间设置有支撑柱,设置的支撑柱可以在转筒之间移动,减少摩擦阻力,所述支撑柱的侧面设置有齿条,所述架体的侧面通过螺栓固定安装有驱动装置,所述驱动装置包括支撑板,所述支撑板上固定安装有驱动电机,所述驱动电机的输出端上通过联轴器连接有齿轮,所述齿轮与齿条之间啮合连接,设置的驱动电机可以带动齿轮的旋转,齿轮在与齿条之间啮合,齿轮的旋转可以带动支撑柱的移动前后移动,驱动电机为正反转电机,所述支撑柱的另一端上方固定焊接有固定板,所述固定板的下方通过螺栓固定安装有打磨机构,设置的打磨机构可以对大型反应釜进行打磨。优选的,所述打磨机构包括电机,所述电机固定在固定板上,所述电机的输出端上连接有减速器,所述减速器的输出端上连接有打磨片,所述减速器固定在固定板上。优选的,所述转筒的中部设置有弧形槽,所述转筒的外表面上设置有一层橡胶层,设置的弧形槽,方便将支撑柱卡住。优选的,所述支撑柱在转筒之间滑动设置,可以减少摩擦阻力,方便支撑柱的移动。优选的,所述架体的上方设置有配重块。优选的,所述架体的一侧固定焊接有推拉把手,设置的推拉把手用于当驱动装置损坏时,可以人工推拉进行打磨。与现有技术相比,本技术的有益效果如下:该技术,驱动电机可以带动齿轮的旋转,齿轮在与齿条之间啮合,齿轮的旋转可以带动支撑柱的移动前后移动,设置的支撑柱可以在转筒之间移动,减少摩擦阻力,设置的打磨机构可以对大型反应釜进行打磨,设置的推拉把手用于当驱动装置损坏时,可以人工推拉进行打磨,该大型反应釜伸缩抛光打磨装置,主要用于大型反应釜抛光打磨使用,抛光打磨装置底部设有一个轨道,使抛光打磨装置可以在轨道上进行前后平移,极大的提高抛光打磨装置覆盖范围,极大的提高了整体的打磨效率,保证大型反应釜抛光打磨质量。附图说明图1为本技术的结构示意图;图2为本技术的架体结构示意图;图3为本技术的转筒结构示意图。图中:1、轨道;2、架体;3、轮子;4、上横杆;5、下横杆;6、转筒;7、弧形槽;8、橡胶层;9、支撑柱;10、驱动装置;1001、支撑板;1002、驱动电机;1003、联轴器;1004、齿轮;11、齿条;12、配重块;13、固定板;14、打磨机构;1401、电机;1402、减速器;1403、打磨片;15、推拉把手。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。请参阅图1-3,一种大型反应釜伸缩抛光打磨装置,包括轨道1,所述轨道1的上方设置有架体2,设置的架体2用以支撑整个装置,所述架体2的下方安装有轮子3,所述轮子3放置在架体2,且架体2可以在轨道1上移动,所述架体2的内侧设置有上横杆4和下横杆5,所述上横杆4和下横杆5上通过轴承连接有转筒6,设置的转筒6可以旋转,所述上横杆4的转筒6与下横杆5的转筒6之间设置有支撑柱9,设置的支撑柱9可以在转筒6之间移动,减少摩擦阻力,所述支撑柱9的侧面设置有齿条11,所述架体2的侧面通过螺栓固定安装有驱动装置10,所述驱动装置10包括支撑板1001,所述支撑板1001上固定安装有驱动电机1002,所述驱动电机1002的输出端上通过联轴器1003连接有齿轮1004,所述齿轮1004与齿条11之间啮合连接,设置的驱动电机1002可以带动齿轮1004的旋转,齿轮1004在与齿条11之间啮合,齿轮1004的旋转可以带动支撑柱9的移动前后移动,驱动电机1002为松下正反转电机,所述支撑柱9的另一端上方固定焊接有固定板13,所述固定板13的下方通过螺栓固定安装有打磨机构14,设置的打磨机构14可以对大型反应釜进行打磨。具体的,所述打磨机构14包括电机1401,所述电机1401固定在固定板13上,所述电机1401的输出端上连接有减速器1402,所述减速器1402的输出端上连接有打磨片1403,所述减速器1402固定在固定板13上,所述转筒6的中部设置有弧形槽7,所述转筒6的外表面上设置有一层橡胶层8,设置的弧形槽7,方便将支撑柱9卡住,所述支撑柱9在转筒6之间滑动设置,可以减少摩擦阻力,方便支撑柱9的移动,所述架体2的上方设置有配重块12,所述架体2的一侧固定焊接有推拉把手15,设置的推拉把手15用于当驱动装置10损坏时,可以人工推拉进行打磨。工作原理:该技术,使用时,驱动电机1002可以带动齿轮1004的旋转,齿轮1004在与齿条11之间啮合,齿轮1004的旋转可以带动支撑柱9的移动前后移动,设置的支撑柱9可以在转筒6之间移动,减少摩擦阻力,设置的打磨机构14可以对大型反应釜进行打磨,设置的推拉把手15用于当驱动装置10损坏时,可以人工推拉进行打磨,该大型反应釜伸缩抛光打磨装置,主要用于大型反应釜抛光打磨使用,抛光打磨装置底部设有一个轨道1,使抛光打磨装置可以在轨道1上进行前后平移,极大的提高抛光打磨装置覆盖范围,极大的提高了整体的打磨效率,保证大型反应釜抛光打磨质量。最后应说明的是:以上所述仅为本技术的优选实施例而已,并不用于限制本技术,尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种大型反应釜伸缩抛光打磨装置,包括轨道(1),其特征在于:所述轨道(1)的上方设置有架体(2),所述架体(2)的下方安装有轮子(3),所述轮子(3)放置在架体(2),且架体(2)可以在轨道(1)上移动,所述架体(2)的内侧设置有上横杆(4)和下横杆(5),所述上横杆(4)和下横杆(5)上套有转筒(6),所述上横杆(4)的转筒(6)与下横杆(5)的转筒(6)之间设置有支撑柱(9),所述支撑柱(9)的侧面设置有齿条(11),所述架体(2)的侧面通过螺栓固定安装有驱动装置(10),所述驱动装置(10)包括支撑板(1001),所述支撑板(1001)上固定安装有驱动电机(1002),所述驱动电机(1002)的输出端上通过联轴器(1003)连接有齿轮(1004),所述齿轮(1004)与齿条(11)之间啮合连接,所述支撑柱(9)的另一端上方固定焊接有固定板(13),所述固定板(13)的下方通过螺栓固定安装有打磨机构(14)。/n
【技术特征摘要】
1.一种大型反应釜伸缩抛光打磨装置,包括轨道(1),其特征在于:所述轨道(1)的上方设置有架体(2),所述架体(2)的下方安装有轮子(3),所述轮子(3)放置在架体(2),且架体(2)可以在轨道(1)上移动,所述架体(2)的内侧设置有上横杆(4)和下横杆(5),所述上横杆(4)和下横杆(5)上套有转筒(6),所述上横杆(4)的转筒(6)与下横杆(5)的转筒(6)之间设置有支撑柱(9),所述支撑柱(9)的侧面设置有齿条(11),所述架体(2)的侧面通过螺栓固定安装有驱动装置(10),所述驱动装置(10)包括支撑板(1001),所述支撑板(1001)上固定安装有驱动电机(1002),所述驱动电机(1002)的输出端上通过联轴器(1003)连接有齿轮(1004),所述齿轮(1004)与齿条(11)之间啮合连接,所述支撑柱(9)的另一端上方固定焊接有固定板(13),所述固定板(13)的下方通过螺栓固定安装有打磨机构(14)。
2.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄幼舟,
申请(专利权)人:无锡市恒盈通用机械有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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