喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置，其包括：容纳槽，用于放置显影喷嘴装置；吹扫装置，包括气源、至少一出气口及连接所述气源与所述出气口的输气管路，所述出气口设置在所述容纳槽中，吹扫气体自所述气源沿所述输气管路传输，并自所述出气口吹出，所述吹扫气体能够作用于所述显影喷嘴装置的外表面，以将所述显影喷嘴装置外表面或喷嘴处的液滴去除。本实用新型专利技术的优点在于，喷嘴清扫装置能够去除显影喷嘴装置外表面及喷嘴尖端的残留液滴，避免该液滴显影喷嘴装置移动过程中滴落而影响晶圆的性能。

Nozzle purging device and wafer loading device

【技术实现步骤摘要】
喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置
本技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置。
技术介绍
在半导体制造工艺中，对于光刻工艺中的显影技术，需要利用显影喷嘴装置向晶圆表面的光致抗蚀剂表面喷洒显影液，通过喷洒的显影液在晶圆表面的光致抗蚀剂上形成三维图形。当显影喷嘴装置停止排液后，其会移动向其他晶圆，以对其他晶圆上进行操作。技术人发现，在显影喷嘴装置排液过程中，可能会有显影液喷溅在显影喷嘴装置的外表面，该些液滴会积聚在显影喷嘴装置的外表面的拐角处，形成积存液滴，在显影喷嘴装置停止排液后，在显影液喷嘴的尖端容易存在残留液滴。如图1所示，在显影喷嘴装置10外表面的拐角处存在积存的液滴11，在显影喷嘴装置10的尖端存在残留的液滴12。在显影液喷嘴装置10向其他晶圆移动的过程中，该些液滴11及12会滴落在该晶圆或者其他晶圆上，影响晶圆表面图案的形成，造成良率的损失。因此，如何避免显影喷嘴装置上积存或残留的液滴滴落在晶圆上，是目前亟需解决的问题。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是，提供一种喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置，其能够避免显影喷嘴装置上残留的液滴影响晶圆的性能。为了解决上述问题，本技术提供了一种喷嘴吹扫装置，其包括：容纳槽，用于放置显影喷嘴装置；吹扫装置，包括气源、至少一出气口及连接所述气源与所述出气口的输气管路，所述出气口设置在所述容纳槽中，吹扫气体自所述气源沿所述输气管路传输，并自所述出气口吹出，所述吹扫气体能够作用于所述显影喷嘴装置的外表面，以将所述显影喷嘴装置外表面或喷嘴处的液滴去除。进一步，所述出气口设置在所述容纳槽的侧面，所述吹扫气体沿水平方向或者沿与水平方向呈一锐角的方向吹出。进一步，部分所述输气管路置于所述容纳槽的侧壁内。进一步，所述吹扫装置包括多个出气口，在所述容纳槽底部至顶部的方向上，所述出气口至少呈一排设置，每一排至少包括一个出气口。进一步，当所述出气口呈多排设置时，至少一排所述出气口对应所述显影喷嘴装置的拐角设置，至少一排所述出气口对应所述显影喷嘴装置的喷嘴尖端设置。进一步，所述容纳槽具有一中心线，当所述出气口呈多排设置时，沿所述容纳槽底部至顶部的方向上，所述出气口与所述容纳槽中心线的距离逐渐减小。进一步，所述出气口的分布设置为：自一个所述出气口吹出的吹扫气体覆盖区域对应所述显影喷嘴装置的一个或多个喷嘴区域。进一步，所述喷嘴区域包括显影喷嘴装置的喷嘴尖端及拐角。进一步，所述喷嘴吹扫装置还包括一排液管，所述排液管与所述容纳槽连通。本技术还提供一种晶圆承载装置，其包括：载台，用于承载晶圆；外层壳体，具有容纳腔，所述容纳腔具有一开口，所述载台设置在所述容纳腔内，且所述外层壳体能够相对于所述载台升降；如上所述的喷嘴吹扫装置，所述喷嘴吹扫装置的容纳槽设置在所述外层壳体的外顶面或外侧面，所述外层壳体升降能够带动所述容纳槽升降。本技术的优点在于，喷嘴清扫装置能够去除显影喷嘴装置外表面及喷嘴尖端的残留液滴，避免该液滴显影喷嘴装置移动过程中滴落而影响晶圆的性能。附图说明图1是现有技术中显影喷嘴装置外表面及喷嘴尖端存在液滴的示意图；图2是本技术喷嘴吹扫装置的第一具体实施方式的立体结构示意图；图3是本技术喷嘴吹扫装置的第一具体实施方式的剖面结构示意图；图4是本技术喷嘴吹扫装置的第二具体实施方式的剖面结构示意图；图5是本技术晶圆承载装置的一具体实施方式的结构示意图；图6A～图6E是具有喷嘴吹扫装置的晶圆承载装置的工作过程的示意图。具体实施方式下面结合附图对本技术提供的喷嘴吹扫装置及晶圆承载装置的具体实施方式做详细说明。图2是本技术喷嘴吹扫装置的第一具体实施方式的立体结构示意图，图3是本技术喷嘴吹扫装置的第一具体实施方式的剖面结构示意图，请参阅图2及图3，所述喷嘴吹扫装置2包括容纳槽20及吹扫装置30。所述容纳槽20用于放置显影喷嘴装置10。在图3中示意性地绘示了显影喷嘴装置10。可以理解的是，本技术喷嘴吹扫装置2用于吹扫显影喷嘴装置10外表面或者喷嘴尖端处的残留液滴，所以，所述显影喷嘴装置10至少将具有残留液滴的区域置于所述容纳槽20内。所述吹扫装置30包括气源31、至少一出气口32及输气管路33。所述气源31用于提供具有一定压力的吹扫气体，例如氮气。所述吹扫气体的压强可根据实际使用环境进行选择，例如，所述吹扫气体的压强为30～100kpa。所述出气口32设置在所述容纳槽20内，所述出气口32允许吹扫气体吹出。所述输气管路33连接所述气源31与所述出气口32，所述气源31内的吹扫气体经所述输气管路33输送至所述出气口32，并经所述出气口32吹出。所述吹扫气体吹至所述容纳槽20内，并作用于置于所述容纳槽20内的所述显影喷嘴10装置的外表面或者喷嘴尖端处。本技术喷嘴吹扫装置2自所述出气口32吹出的吹扫气体具有一定压力，其能够吹扫所述显影喷嘴装置10的外表面或者喷嘴尖端处残留的液滴，该些液滴在吹扫气体的作用下滴落在容纳槽20内，进而去除所述显影喷嘴装置10外表面或喷嘴尖端处的液滴。由于显影喷嘴装置10外表面或喷嘴尖端处残留的液滴被去除，则在所述显影喷嘴装置10喷洒完显影液后的移动过程中，不会存在残留液滴低落在晶圆上的情况发生，进而避免影响晶圆表面图案的形成，提高晶圆图案化的良率。进一步，所述气源31设置在所述容纳槽20之外。所述输气管路33部分位于所述容纳槽20的内壁内，在本具体实施方式中，所述输气管路33部分位于所述容纳槽20的侧壁内，部分位于所述容纳槽20之外。其中，位于所述容纳槽20的内壁内的部分与所述出气口32连通，位于所述容纳槽20之外的部分与所述气源31连通。通常，残留液滴会聚集在所述显影喷嘴装置的外表面的侧面及喷嘴尖端处，因此，优选地，在本技术中，所述出气口32设置在所述容纳槽20的侧面，所述吹扫气体沿水平方向或者沿与水平方向呈一锐角的方向吹出，从侧面吹扫所述显影喷嘴装置。在本具体实施方式中，所述吹扫气体沿水平方向吹出，吹扫气体的流向在图3中采用箭头绘示，吹扫气体作用于所述显影喷嘴装置的外表面即喷嘴尖端处，从而去除显影喷嘴装置的外表面及喷嘴尖端处的液滴。通常，所述显影喷嘴装置10为条形构型，沿其长度方法排布多个喷嘴，为了使吹扫气体能够充分作用于所述显影喷嘴装置10，在本技术中，所述吹扫装置包括多个出气口32，在所述容纳槽20底部至顶部的方向上，所述出气口32至少呈一排设置，每一排至少包括一个出气口32。具体地说，在本具体实施方式中，所述出气口32呈一排设置，所述出气口30沿所述喷嘴吹扫装置2的长度方向排布。优选地，为了在吹扫气体能够充分作用于所述显影喷嘴装置10的同时还能够节约气体资源，则所述出气口32可采用如下设置：自一个所述出气口32吹出的吹扫气体覆盖区域可对应所述显影喷嘴装置的一个或本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种喷嘴吹扫装置，其特征在于，包括：/n容纳槽，用于放置显影喷嘴装置；/n吹扫装置，包括气源、至少一出气口及连接所述气源与所述出气口的输气管路，所述出气口设置在所述容纳槽中，吹扫气体自所述气源沿所述输气管路传输，并自所述出气口吹出，所述吹扫气体能够作用于所述显影喷嘴装置的外表面，以将所述显影喷嘴装置外表面或喷嘴处的液滴去除。/n

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴吹扫装置，其特征在于，包括：
容纳槽，用于放置显影喷嘴装置；
吹扫装置，包括气源、至少一出气口及连接所述气源与所述出气口的输气管路，所述出气口设置在所述容纳槽中，吹扫气体自所述气源沿所述输气管路传输，并自所述出气口吹出，所述吹扫气体能够作用于所述显影喷嘴装置的外表面，以将所述显影喷嘴装置外表面或喷嘴处的液滴去除。


2.根据权利要求1所述的喷嘴吹扫装置，其特征在于，所述出气口设置在所述容纳槽的侧面，所述吹扫气体沿水平方向或者沿与水平方向呈一锐角的方向吹出。


3.根据权利要求2所述的喷嘴吹扫装置，其特征在于，部分所述输气管路置于所述容纳槽的侧壁内。


4.根据权利要求2所述的喷嘴吹扫装置，其特征在于，所述吹扫装置包括多个出气口，在所述容纳槽底部至顶部的方向上，所述出气口至少呈一排设置，每一排至少包括一个出气口。


5.根据权利要求4所述的喷嘴吹扫装置，其特征在于，当所述出气口呈多排设置时，至少一排所述出气口对应所述显影喷嘴装置的拐角设置，至少一排所述出气口对应所述显影喷嘴装置的喷嘴尖端...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾俊华，许维政，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34