曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种曝光装置。所述曝光装置包括：支撑台，用于承载光罩；检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。本实用新型专利技术可以提高所述光罩检测的效率以及准确率；同时，避免了将光罩取出、在曝光机台外部进行清洁的繁琐操作以及二次污染的风险，提高了光罩清洁的效率，从而相应提高了曝光装置的机台产能。

Exposure device

【技术实现步骤摘要】
曝光装置
本技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种曝光装置。
技术介绍
在动态随机存储器(DynamicRandomAccessMemory，DRAM)等半导体器件的制造工艺中，光刻是至关重要的步骤。在光刻工艺中，光罩的洁净度是确保光刻质量的重要因素。当时，在现有的曝光机台中，并没有专门的清洁系统来清洁光罩表面，导致在曝光机台中的光罩探测系统(IntegratedReticleInspectionSystem，IRIS)检测到光罩表面存在颗粒物之后，必须要将光罩从曝光机台内取出，在曝光机台外部对光罩进行清洁。然而，这种在曝光机台外部清洁光罩的方式，至少存在如下两个方面的缺陷：一方面，将光罩从曝光机台内部取出、在曝光机台外部清洁之后再送入曝光机台的过程极大的耗费时间，降低了机台产能；另一方面，光罩在曝光机台外部清洁之后送入曝光机台的过程中，很可能遭受二次污染，导致需要再次清洁，操作相当繁琐。因此，如何提高光罩的清洁效率，从而提高曝光机台的产能，并改善光刻质量，是目前亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术提供一种曝光装置，用于解决现有技术中曝光机台不能对光罩进行清洁的问题，以提高光罩清洁的效率。为了解决上述问题，本技术提供了一种曝光装置，包括：支撑台，用于承载光罩；检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。可选的，所述检测组件包括：发射器，位于所述支撑台上方，用于向所述光罩表面发射探测信号；接收器，位于所述支撑台上方，用于接收自所述光罩表面传回的探测信号；处理器，连接所述发射器和所述接收器，用于根据所述发射器发射的探测信号和所述接收器接收到的探测信号获取所述光罩表面的异物信息。可选的，所述发射器设置在沿所述光罩的垂直上方。可选的，所述发射器具有朝向所述光罩一侧的发射面，所述发射面沿垂直于所述光罩方向的投影覆盖所述光罩的整个表面。可选的，所述发射器包括多个发射光源以及与多个所述发射光源连接的控制器，且多个所述发射光源呈阵列排布；所述控制器用于控制多个所述发射光源同时向所述光罩表面发射探测光信号。可选的，所述清洁组件包括：真空吸附部件，用于真空吸附所述光罩表面的所述异物。可选的，所述清洁组件还包括：调节器，连接所述检测组件，用于根据所述异物信息调节所述真空吸附部件的真空度。可选的，所述清洁组件还包括：基座，位于所述支撑台外部，所述基座内具有真空泵；所述调节器连接所述真空泵，用于调整所述真空泵的真空度；所述真空吸附部件一端与所述真空泵连通、另一端用于吸附所述异物。可选的，所述基座内还具有驱动器，所述驱动器连接所述真空吸附部件，用于驱动所述真空吸附部件朝向所述异物运动，所述运动包括伸缩运动、沿垂直于所述光罩方向的升降运动、沿平行于所述光罩所在平面的平移运动、以及在预设角度范围内的摆动中的一种或两种以上的组合。可选的，所述真空吸附部件包括：第一子臂，一端与所述基座连接，所述第一子臂能够沿竖直方向进行升降运动；第二子臂，一端与所述第一子臂的另一端连接，所述第二子臂能够围绕其与所述第一子臂的连接端在预设角度范围内摆动；第三子臂，一端与所述第二子臂的另一端连接、另一端具有吸附口，所述第三子臂能够沿其轴向方向进行伸缩运动。本技术提供的曝光装置，通过检测组件检测位于曝光机台内部的光罩表面的异物信息，并根据所述异物信息，利用位于所述曝光装置内部的清洁组件直接、定向去除所述光罩表面的异物，避免了将光罩取出、在曝光机台外部进行清洁的繁琐操作以及二次污染的风险，提高了光罩清洁的效率，从而相应提高了曝光装置的机台产能。附图说明图1是本技术具体实施方式中曝光装置的结构框图；图2是本技术具体实施方式中的检测组件对光罩进行检测时的结构示意图；图3是本技术具体实施方式中的清洁组件对光罩进行清洁时的结构示意图；图4是本技术具体实施方式中光罩清洁方法的流程图。具体实施方式下面结合附图对本技术提供的曝光装置的具体实施方式做详细说明。本具体实施方式提供了一种曝光装置，图1是本技术具体实施方式中曝光装置的结构框图，图2是本技术具体实施方式中的检测组件对光罩进行检测时的结构示意图，图3是本技术具体实施方式中的清洁组件对光罩进行清洁时的结构示意图。如图1、图2和图3所示，本具体实施方式提供的曝光装置，包括：支撑台20，用于承载光罩21；检测组件11，用于检测所述光罩21表面的异物信息；清洁组件12，所述清洁组件12连接所述检测组件11，用于根据所述检测组件11获取的所述异物信息定向除去所述光罩21表面的异物。具体来说，所述支撑台20、所述检测组件11和所述清洁组件12均位于所述曝光装置内部。在将所述光罩21自外界传输至所述曝光装置内部的所述支撑台20上之后，所述检测组件11采用基于光学的检测方法或者其他检测方法对所述光罩21表面进行检测，从而获取所述光罩21表面的异物信息。举例来说，所述检测组件11可以采用基于光学的检测方法，向所述光罩21表面同时发射多束光线，通过检测所述光罩21表面反射和/或散射的光线，判断所述光罩21表面是否存在异物以及异物的相关信息。本具体实施方式中所述检测组件11检测所述光罩21表面的异物信息，有助于后续所述清洁组件12定向的、有针对性的除去所述光罩21表面存在的异物，从而提高异物清除效率，缩短异物清除时间。若通过所述检测组件11检测到所述光罩21表面存在异物，则根据所述检测组件11的反馈，直接启动位于所述曝光装置内部的清洁组件12，无需将所述光罩21移出所述曝光装置，利用所述清洁组件12根据所述异物信息直接对所述光罩21表面的异物进行定向清除。在本具体实施方式中，对所述清洁组件12的具体结构不作限定，只要能清除所述光罩21表面的异物即可，本领域技术人员可以根据实际需要进行选择，例如吹扫、真空吸附等等。本具体实施方式中所述的异物可以是但不限于所述光罩21表面存在的粉尘、微粒等颗粒物。可选的，所述检测组件11包括：发射器111，位于所述支撑台20上方，用于向所述光罩21表面发射探测信号；接收器112，位于所述支撑台20上方，用于接收自所述光罩21表面传回的探测信号；处理器113，连接所述发射器111和所述接收器112，用于根据所述发射器111发射的探测信号和所述接收器112接收到的探测信号获取所述光罩21表面的异物信息。可选的，所述发射器111设置在沿所述光罩的垂直上方。通过将所述发射器111设置在沿所述光罩21的垂直上方，可以使得所述发射器111沿垂直于所述光罩21的方向向所述光罩21表面发射探测信号。可选的，所述发射器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：/n支撑台，用于承载光罩；/n检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；/n清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。/n

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：
支撑台，用于承载光罩；
检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；
清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。


2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述检测组件包括：
发射器，位于所述支撑台上方，用于向所述光罩表面发射探测信号；
接收器，位于所述支撑台上方，用于接收自所述光罩表面传回的探测信号；
处理器，连接所述发射器和所述接收器，用于根据所述发射器发射的探测信号和所述接收器接收到的探测信号获取所述光罩表面的异物信息。


3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述发射器设置在沿所述光罩的垂直上方。


4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述发射器具有朝向所述光罩一侧的发射面，所述发射面沿垂直于所述光罩方向的投影覆盖所述光罩的整个表面。


5.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述发射器包括多个发射光源以及与多个所述发射光源连接的控制器，且多个所述发射光源呈阵列排布；
所述控制器用于控制多个所述发射光源同时向所述光罩表面发射探测光信号。


6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述清洁组件包括：
真...

【专利技术属性】
技术研发人员：许文豪，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34