一种次氯酸钠制备用反应釜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种次氯酸钠制备用反应釜，包括反应釜本体，反应釜本体的顶端安装有两个电极和电机，电极的底端延伸至反应釜本体的内部，电机的输出轴传动连接有螺纹杆，螺纹杆螺纹连接有滑动块，滑动块与电极滑动连接。本实用新型专利技术在使用时，开启清洗液进阀，此时清洗液通过喷头喷至电极的表面，然后开启电机，电机通过螺纹杆带动滑动块滑动，滑动块带动清洗毛刷对电极的表面进行清洗，同时螺纹杆带动清理支架转动，清理支架不断转动，从而对反应釜本体的内壁进行刮动清理，然后打开杂质排出阀，将清理出的杂质通过杂质排出管排出，本实用新型专利技术能够在不打开阀体的前提下对电极进行清洗，从而提高反应效率，使用起来更加方便。

A reaction kettle for preparing sodium hypochlorite

【技术实现步骤摘要】
一种次氯酸钠制备用反应釜
本技术涉及一种反应釜，特别涉及一种次氯酸钠制备用反应釜。
技术介绍
次氯酸钠是强氧化剂和消毒剂，它是通过取源于广泛价廉的工业盐或海水溶液，经无隔膜电解而发生的；次氯酸钠溶液是次氯酸钠的溶解液，微黄色溶液，有似氯气的气味，有非常刺鼻的气味，极不稳定，是化工业中经常使用的化学用品；次氯酸钠溶液适用于消毒、杀菌及水处理，也有仅适用于一般工业用的产品；电解法次氯酸钠发生器，是通过离子膜电解饱和食盐水的方式，产生氯气，然后通过反应塔，将纯净的氯气与氢氧化钠反应，生成10％高浓度的次氯酸钠溶液；现有技术中反应釜的电极直接固定在釜体上，不能拆卸，在进行次氯酸钠生产时，电极上容易附着杂质，从而影响电解反应的速率，由于电极位于釜体的内部，清洗十分不便，需要将釜体进行拆解，清洗过程费时费力。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种次氯酸钠制备用反应釜，以解决上述
技术介绍
中提出的现有技术中反应釜的电极直接固定在釜体上，不能拆卸，在进行次氯酸钠生产时，电极上容易附着杂质，清洗十分不便，需要将釜体进行拆解，清洗过程费时费力问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种次氯酸钠制备用反应釜，包括反应釜本体，所述反应釜本体的顶端安装有电机和两个电极，所述电极的底端延伸至反应釜本体的内部，所述电机的输出轴传动连接有螺纹杆，所述螺纹杆螺纹连接有滑动块，所述滑动块与电极滑动连接，所述滑动块的内部开设有圆孔，所述圆孔的内部安装有清洗毛刷，所述清洗毛刷的末端与电极的外表面相贴合，所述反应釜本体顶端的一侧固定连接有清洗液进管，所述清洗液进管的一端延伸至反应釜本体的内部，所述电机和电极均与外部电源电性连接。作为本技术的一种优选技术方案，所述螺纹杆底端的一侧固定连接有清理支架，所述清理支架与反应釜本体的内壁相贴合。作为本技术的一种优选技术方案，所述反应釜本体顶端的另一侧连通有溶液进管，所述清洗液进管的内部安装有清洗液进阀。作为本技术的一种优选技术方案，所述反应釜本体的底端安装有杂质排出管，所述杂质排出管的内部安装有杂质排出阀。作为本技术的一种优选技术方案，所述反应釜本体底端的一侧安装有溶液排出阀，所述溶液排出阀的内部安装有溶液排出管。作为本技术的一种优选技术方案，所述清洗液进管的一端连通有“8”字形盘管，所述盘管的底端安装有多个喷头。与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术在使用时，开启清洗液进阀，此时清洗液通过喷头喷至电极的表面，然后开启电机，电机通过螺纹杆带动滑动块滑动，滑动块带动清洗毛刷对电极的表面进行清洗，同时螺纹杆带动清理支架转动，清理支架不断转动，从而对反应釜本体的内壁进行刮动清理，然后打开杂质排出阀，将清理出的杂质通过杂质排出管排出，本技术能够在不打开阀体的前提下对电极进行清洗，从而提高反应效率，使用起来更加方便。附图说明图1为本技术的结构示意图；图2为本技术的结构剖视图；图3为本技术中滑动块的结构示意图。图中：反应釜本体1、杂质排出管2、杂质排出阀3、溶液排出管4、溶液排出阀5、清洗液进管6、清洗液进阀7、电机8、电极9、溶液进管10、清洗毛刷11、滑动块12、螺纹杆13、清理支架14、喷头15。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-3，本技术提供了一种次氯酸钠制备用反应釜的技术方案：包括反应釜本体1，反应釜本体1的顶端安装有两个电极9和电机8，电极9的底端延伸至反应釜本体1的内部，电机8的输出轴传动连接有螺纹杆13，螺纹杆13螺纹连接有滑动块12，滑动块12与电极9滑动连接，滑动块12的内部开设有圆孔，圆孔的内部安装有清洗毛刷11，清洗毛刷11的末端与电极9的外表面相贴合，反应釜本体1顶端的一侧固定连接有清洗液进管6，清洗液进管6的一端延伸至反应釜本体1的内部，电机8和电极9均与外部电源电性连接，反应釜本体1底端的一侧安装有溶液排出阀5，溶液排出阀5的内部安装有溶液排出管4，反应釜本体1顶端的另一侧连通有溶液进管10，清洗液进管6的内部安装有清洗液进阀7，清洗液进管6的一端连通有“8”字形盘管，盘管的底端安装有多个喷头15。具体的，本技术在使用时，开启清洗液进阀7，此时清洗液通过喷头15喷至电极9的表面，然后开启电机8，电机8通过螺纹杆13带动滑动块12滑动，滑动块12带动清洗毛刷11对电极9的表面进行清洗，清洗液对电极9表面附着的杂质迅速进行溶解，在清洗毛刷11的上下运动下，将电极9表面附着的杂质进行清洗。具体的，参照图2结合图3，螺纹杆13底端的一侧固定连接有清理支架14，清理支架14与反应釜本体1的内壁相贴合，反应釜本体1的底端安装有杂质排出管2，杂质排出管2的内部安装有杂质排出阀3，在使用时，螺纹杆13带动清理支架14转动，清理支架14不断转动，从而对反应釜本体1的内壁进行刮动清理，然后打开杂质排出阀3，将清理出的杂质通过杂质排出管排出。具体使用时，本技术一种次氯酸钠制备用反应釜，本技术在使用时，开启清洗液进阀7，此时清洗液通过喷头15喷至电极9的表面，然后开启电机8，电机8通过螺纹杆13带动滑动块12滑动，滑动块12带动清洗毛刷11对电极9的表面进行清洗，清洗液对电极9表面附着的杂质迅速进行溶解，在清洗毛刷11的上下运动下，将电极9表面附着的杂质进行清洗，螺纹杆13带动清理支架14转动，清理支架14不断转动，从而对反应釜本体1的内壁进行刮动清理，然后打开杂质排出阀3，将清理出的杂质通过杂质排出管排出。在本技术的描述中，需要理解的是，指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术中，除非另有明确的规定和限定，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种次氯酸钠制备用反应釜，包括反应釜本体(1)，其特征在于：所述反应釜本体(1)的顶端安装有电机(8)和两个电极(9)，所述电极(9)的底端延伸至反应釜本体(1)的内部，所述电机(8)的输出轴传动连接有螺纹杆(13)，所述螺纹杆(13)螺纹连接有滑动块(12)，所述滑动块(12)与电极(9)滑动连接，所述滑动块(12)的内部开设有圆孔，所述圆孔的内部安装有清洗毛刷(11)，所述清洗毛刷(11)的末端与电极(9)的外表面相贴合，所述反应釜本体(1)顶端的一侧固定连接有清洗液进管(6)，所述清洗液进管(6)的一端延伸至反应釜本体(1)的内部，所述电机(8)和电极(9)均与外部电源电性连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种次氯酸钠制备用反应釜，包括反应釜本体(1)，其特征在于：所述反应釜本体(1)的顶端安装有电机(8)和两个电极(9)，所述电极(9)的底端延伸至反应釜本体(1)的内部，所述电机(8)的输出轴传动连接有螺纹杆(13)，所述螺纹杆(13)螺纹连接有滑动块(12)，所述滑动块(12)与电极(9)滑动连接，所述滑动块(12)的内部开设有圆孔，所述圆孔的内部安装有清洗毛刷(11)，所述清洗毛刷(11)的末端与电极(9)的外表面相贴合，所述反应釜本体(1)顶端的一侧固定连接有清洗液进管(6)，所述清洗液进管(6)的一端延伸至反应釜本体(1)的内部，所述电机(8)和电极(9)均与外部电源电性连接。


2.根据权利要求1所述的一种次氯酸钠制备用反应釜，其特征在于：所述螺纹杆(13)底端的一侧固定连接有清理支架(14)，所述清理支架(14)与反应...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓发，
申请(专利权)人：湖北健发塑化科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北;42