准分子激光装置和电子器件的制造方法制造方法及图纸

本公开的准分子激光装置具有：标准具分光器，其计测激光的条纹波形；以及控制器，其求出根据标准具分光器的计测结果得到的谱空间中的第1比例的面积，根据所求出的第1比例的面积计算激光的第1谱线宽度，并且，根据相关函数对第1谱线宽度进行校正，该相关函数表示由基准计测器计测出的激光的第2谱线宽度与第1谱线宽度的相关。

Manufacturing methods of excimer laser devices and electronic devices

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】准分子激光装置和电子器件的制造方法
本公开涉及准分子激光装置和电子器件的制造方法。
技术介绍
近年来，在半导体曝光装置(以下称为“曝光装置”)中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。一般而言，在曝光用光源中代替现有的汞灯而使用气体激光装置。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长为248nm的紫外线的激光的KrF准分子激光装置、以及输出波长为193nm的紫外线的激光的ArF准分子激光装置。作为新时代的曝光技术，曝光装置侧的曝光用透镜与晶片之间被液体充满的液浸曝光已经实用化。在该液浸曝光中，曝光用透镜与晶片之间的折射率变化，因此，曝光用光源的外观的波长变短。在将ArF准分子激光装置作为曝光用光源进行液浸曝光的情况下，对晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。将该技术称为ArF液浸曝光(或ArF液浸光刻)。KrF准分子激光装置和ArF准分子激光装置的自然振荡幅度较宽，大约为350～400pm。因此，当利用如下材料构成投影透镜时，有时产生色像差，该材料透射KrF和ArF激光这样的紫外线。其结果，分辨率可能降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色像差的程度。因此，为了对谱线宽度进行窄带化，有时在气体激光装置的激光谐振器内设置具有窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(LineNarrowModule：LNM)。下面，将谱线宽度被窄带化的激光装置称为窄带化激光装置。现有技术文献专利文献<br>专利文献1：日本特开2004-271498号公报专利文献2：日本特开昭63-29758号公报专利文献3：美国专利第7256893号说明书专利文献4：美国专利第7304748号说明书专利文献5：美国专利第7684046号说明书专利文献6：美国专利第7639364号说明书
技术实现思路
本公开的准分子激光装置具有：标准具分光器，其计测激光的条纹波形；以及控制器，其求出根据标准具分光器的计测结果得到的谱空间中的第1比例的面积，根据所求出的第1比例的面积计算激光的第1谱线宽度，并且，根据相关函数对第1谱线宽度进行校正，该相关函数表示由基准计测器计测出的激光的第2谱线宽度与第1谱线宽度的相关。本公开的电子器件的制造方法包含以下步骤：通过激光系统生成激光，将激光输出到曝光装置，通过曝光装置在感光基板上曝光激光，以制造电子器件，其中，激光系统具有：标准具分光器，其计测激光的条纹波形；以及控制器，其求出根据标准具分光器的计测结果得到的谱空间中的第1比例的面积，根据所求出的第1比例的面积计算激光的第1谱线宽度，并且，根据相关函数对第1谱线宽度进行校正，该相关函数表示由基准计测器计测出的激光的第2谱线宽度与第1谱线宽度的相关。附图说明下面，参照附图将本公开的若干个实施方式作为简单例子进行说明。图1概略地示出比较例的激光装置的一个结构例。图2示出作为谱线宽度的一例的FWHM的概要。图3示出作为谱线宽度的一例的E95的概要。图4概略地示出应用于比较例的激光装置的谱计测器的一个结构例。图5示意地示出由图4所示的谱计测器计测出的谱线宽度的一例。图6示意地示出根据图4所示的谱计测器的计测结果计算真正的谱波形的方法的一例。图7是示出比较例的激光装置中的谱线宽度的计测动作的流程的一例的流程图。图8是接着图7的流程图。图9是示出实施方式1的激光装置中的谱线宽度的计测动作的流程的一例的流程图。图10是接着图9的流程图。图11示意地以比较的方式示出比较例的激光装置的谱线宽度的计算方法和实施方式1的谱线宽度的计算方法。图12示意地示出实施方式1的激光装置中的基于条纹波形的谱空间的面积的计算方法的一例。图13示意地示出实施方式1的激光装置中的基于条纹波形的E95的计算方法的第1例。图14示意地示出实施方式1的激光装置中的基于条纹波形的E95的计算方法的第2例。图15概略地示出谱线宽度的计算中使用的校正函数的一例。图16是示出实施方式2的激光装置中的谱线宽度的计测动作的流程的一例的流程图。图17是接着图16的流程图。图18概略地示出半导体器件的制造中使用的曝光装置的一个结构例。具体实施方式<内容><1.比较例>(图1～图8)1.1结构1.2动作1.3课题<2.实施方式1>(使用校正函数计算谱线宽度的例子)(图9～图15)2.1结构2.2动作2.3作用/效果<3.实施方式2>(对校正函数进行更新的例子)(图16～图17)3.1结构3.2动作3.3作用/效果<4.实施方式3>(电子器件的制造方法)(图18)<5.其他>下面，参照附图对本公开的实施方式进行详细说明。以下说明的实施方式示出本公开的几个例子，不限定本公开的内容。此外，各实施方式中说明的结构和动作并不一定全都是本公开的结构和动作所必须的。另外，对相同结构要素标注相同参照标号并省略重复说明。<1.比较例>[1.1结构]图1概略地示出比较例的激光装置101的一个结构例。比较例的激光装置101是朝向曝光装置4输出脉冲激光Lp作为激光的准分子激光装置。比较例的激光装置101具有激光控制部2、窄带化模块(LNM)10、激光腔20、波长控制部16、波长驱动器15和脉冲功率模块(PPM)28。此外，激光装置101具有分束器31、32、脉冲能量计测器33、波长计测器34B、谱线宽度计测器34A、分束器37、高反射镜38、E95可变部60和E95驱动器74。E95可变部60和窄带化模块10构成激光谐振器。激光腔20被配置于激光谐振器的光路上。曝光装置4具有曝光装置控制部5。在曝光装置4与激光控制部2之间设置有信号线，该信号线从曝光装置控制部5向激光控制部2发送各种目标数据和发光触发信号Str。在各种目标数据中包含目标脉冲能量Et、目标波长λt和目标谱线宽度Δλt。激光腔20包含窗口21、22和一对放电电极23、24。此外，激光腔20包含未图示的电绝缘部件。一对放电电极23、24在激光腔20内在相对于纸面垂直的方向上对置。被配置成一对放电电极23、24的长度方向与激光谐振器的光路一致。窗口21、22被配置成供在一对放电电极23、24之间被放大的激光通过。向激光腔20内供给例如Ar气体、F2气体、Xe气体和Ne气体作为激光气体。此外，还供给例如Kr气体、F2气体和Ne气体。激光气体也可以还包含He。脉冲功率模块28包含开关29。脉冲功率模块28是用于对一对放电电极23、24之间施加高电压的电源本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种准分子激光装置，其具有：/n标准具分光器，其计测激光的条纹波形；以及/n控制器，其求出根据所述标准具分光器的计测结果得到的谱空间中的第1比例的面积，根据所求出的所述第1比例的面积计算所述激光的第1谱线宽度，并且，根据相关函数对所述第1谱线宽度进行校正，该相关函数表示由基准计测器计测出的所述激光的第2谱线宽度与所述第1谱线宽度的相关。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种准分子激光装置，其具有：
标准具分光器，其计测激光的条纹波形；以及
控制器，其求出根据所述标准具分光器的计测结果得到的谱空间中的第1比例的面积，根据所求出的所述第1比例的面积计算所述激光的第1谱线宽度，并且，根据相关函数对所述第1谱线宽度进行校正，该相关函数表示由基准计测器计测出的所述激光的第2谱线宽度与所述第1谱线宽度的相关。


2.根据权利要求1所述的准分子激光装置，其中，
所述控制器将所述条纹波形中的位于以中央位置为基准的规定范围内的部分的面积，作为所述谱空间的全部面积。


3.根据权利要求2所述的准分子激光装置，其中，
所述控制器将所述条纹波形的峰值位置作为所述条纹波形的所述中央位置。


4.根据权利要求2所述的准分子激光装置，其中，
所述控制器将所述条纹波形的半值全宽的中央位置作为所述条纹波形的所述中央位置。


5.根据权利要求1所述的准分子激光装置，其中，
所述控制器将所述条纹波形分割成多个分割波长区间，计算所述多个分割波长区间各自的分割面积并进行累计，由此计算所述第1比例的面积。


6.根据权利要求1所述的准分子激光装置，其中，
所述控制器确定从所述条纹波形的第1端部起累计的面积成为所述谱空间中的第2比例的第1波形位置和从所述条纹波形的第2端部起累计的面积成为所述第2比例的第2波形位置，
将所述条纹...

【专利技术属性】
技术研发人员：石田启介，守屋正人，河野夏彦，浅山武志，草间高史，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP