一种光控取向方法技术

本发明专利技术提出一种光控取向法及装置，用同一个曝光光源同时对两层光取向层做光取向，在光源的光线照射方向，依次放置第一光取向层、第一旋光介质层、第二光取向层，在所述曝光光源与所述第一光取向层之间，加入掩模板，控制曝光区域，控制所述第一旋光介质层对光线偏振方向做N度旋转，使沿光线照射路径上所述第二光取向层的光取向与所述第一光取向层的光取向相差N度。本发明专利技术的有益效果是，实现偏振无关液晶器件微区多畴的微区精准对位，且方法简便。

A method of optically controlled orientation

【技术实现步骤摘要】
一种光控取向方法
本专利技术涉及液晶器件制备领域，一种光控取向方法。
技术介绍
近年来，随着光通讯技术的发展，对光通讯中器件的要求也逐步提高。偏振无关器件的使用可以极大的降低光通讯系统的复杂度。光控微区多畴正交取向的液晶器件作为一种新的偏振无关器件，其偏振相关隔离度好，但其制备一直较为繁琐。传统方法是将两基板分别进行微区多畴曝光，然后将上下基板精准对位组装，这种方法较为复杂，且对工艺精度要求高，制备繁琐。且当畴区的尺寸较小时，要实现微区的精准对位就更加困难。因此这种传统的偏振无关液晶器件微区多畴实现方法无法得到大规模的商业生产。
技术实现思路
有鉴于现有技术的上述缺陷，本专利技术所要解决的技术问题是：在可以实现偏振无关液晶器件微区多畴正交取向的同时并减低工艺的复杂度。为解决上述问题，本专利技术提出一种光控取向法，用同一个曝光光源同时对两层光取向层做光取向，在光源的光线照射方向，依次放置第一光取向层、第一旋光介质层、第二光取向层；所述第一光取向层、所述第一旋光介质层使用透光材料制成。进一步地，在所述曝光光源与所述第一光取向层之间，加入掩模板，控制曝光区域。进一步地，控制所述第一旋光介质层对光线偏振方向做N度旋转，使沿光线照射路径上所述第二光取向层的光取向与所述第一光取向层的光取向相差N度。进一步地，在光取向前，对所述第一光取向层、所述第二光取向层分别做预曝光处理，使所述第一光取向层、所述第二光取向层有一定的光取向。进一步地，在所述第二光取向层后，沿光线方向再放置第二旋光介质层、第三光取向层，同时对三层进行光取向；所述第二旋光介质层与曝光光源之间的各层均为透光材料制成。进一步地，在制作偏振无关液晶器件时，控制所述第一旋光介质层对光线的偏振方向做90°旋转。进一步地，在制作偏振无关液晶器件时，将所述第一光取向层、所述第一旋光介质层、所述第二光取向层组装成盒，曝光完成后，浸泡冲洗掉所述第一旋光介质层，填充入液晶即可。一种光取向装置，包括沿曝光光线传播方向依次放置的第一光取向层、第一旋光介质层、第二光取向层；所述第一光取向层、所述第一旋光介质层均使用透光材料制成。进一步地，包括掩模板，放置在曝光光源与所述第一光取向层之间，所述掩模板只允许部分区域曝光光线透过。进一步地，包括第二旋光介质层、第三光取向层，沿光线方向依次放置在所述第二光取向层后；所述第二光取向层、所述第二旋光介质层均为透光材料制成。本专利技术的有益效果是，实现偏振无关液晶器件微区多畴的微区精准对位，且方法简便。附图说明图1是本专利技术一个较佳实施例的装置结构图；图2是本专利技术一个较佳实施例的上取向层5取向示意图；图3是本专利技术一个较佳实施例的下取向层7取向示意图；其中，1-曝光光源，2-掩膜版，3-上基板，4-上电极层1，5-上取向层，6-旋光介质层，7-下取向层，8-下电极层，9-下基板。具体实施方式以下参考说明书附图介绍本专利技术的优选实施例，使其
技术实现思路
更加清楚和便于理解。本专利技术可以通过许多不同形式的实施例来得以体现，本专利技术的保护范围并非仅限于文中提到的实施例。在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。附图所示的每一组件的尺寸和厚度是任意示出的，本专利技术并没有限定每个组件的尺寸和厚度。为了使图示更清晰，附图中有些地方适当夸大了部件的厚度。如图1所示本专利技术一个较佳实施例的装置结构图，实现偏振无关液晶器件微区多畴正交取向，按自上而下地顺序包括以下部件：曝光光源1、掩膜版2、上基板3、上电极层4，上取向层5、旋光介质层6、下取向层7、下电极层8、下基板9。上基板3、上电极层4，上取向层5、旋光介质层6均采用透光材料制成，让曝光光源1可以到达下取向层7。掩模版2的作用是只允许未遮盖部分的曝光光线通过，从而控制曝光区域。在制备偏振无关液晶器件时，可选地先对上取向层5和下取向层7进行预曝光处理，使得上取向层5和下取向层7，都有一定的取向，然后再按图1所示的顺序组装成盒。在进行光取向时，曝光光源1发出的光线自上而下照射，光线穿过掩模版2的未遮盖部分，然后穿过上基板3，到达上取向层5，上取向层5被掩模版2遮盖的部分的光取向不会改变，而没有被掩模版遮盖的部分会被光线照射而重新取向，其取向方向与曝光光源1的偏振方向保持一致；光线继续向下到达旋光介质层6，由于旋光介质层6的旋光特性会使得光线的偏振方向发生旋转；然后旋转后的光线继续向下达到下取向层7，下取向层7没有掩模版遮盖的地方的取向与旋转后的光线的偏振方向一致。通过控制上电极层4和下电极层8之间的电压，可以控制旋光介质层6对光线偏振方向的旋转角度。此例中，为取得偏振无头的特性，控制旋光介质层6对光线偏振方向的旋转角度为90°。曝光完毕后，冲洗掉旋光介质层6中的材料，灌入所需的液晶材料，即可得到具有偏振无关特性的液晶器件。通过掩模版2，可以控制曝光区域。可以使用不同的掩模板以及偏振方向不同的光源对取向层的不同区域做不同方向的光取向操作，配合以对取向层的预曝光处理，可以实现微区多畴不同的光取向。如图2所示为按照上述方法实施后得到的上取向层5的取向示意图，相邻的网格区域的取向方向相互垂直。如图3所示为按照上述方法实施后得到的下取向层7取向示意图，相邻的网格区域的取向方向相互垂直并且上下基板对应的网格区域的取向方向也相会垂直。在另外一些实施例中，可以在下基板9下方放置更多的旋光介质层和取向层，以同时对更多层取向。本专利技术提出的光取向方法，可实现偏振无关液晶器件微区多畴的微区精准对位，且方法简便。以上详细描述了本专利技术的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术无需创造性劳动就可以根据本专利技术的构思作出诸多修改和变化。因此，凡本
中技术人员依本专利技术的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光控取向法，其特征在于，用同一个曝光光源同时对两层光取向层做光取向，在光源的光线照射方向，依次放置第一光取向层、第一旋光介质层、第二光取向层；所述第一光取向层、所述第一旋光介质层使用透光材料制成。/n

【技术特征摘要】
1.一种光控取向法，其特征在于，用同一个曝光光源同时对两层光取向层做光取向，在光源的光线照射方向，依次放置第一光取向层、第一旋光介质层、第二光取向层；所述第一光取向层、所述第一旋光介质层使用透光材料制成。


2.如权利要求1所述的光控取向法，其特征在于，在所述曝光光源与所述第一光取向层之间，加入掩模板，控制曝光区域。


3.如权利要求1所述的光控取向法，其特征在于，控制所述第一旋光介质层对光线偏振方向做N度旋转，使沿光线照射路径上所述第二光取向层的光取向与所述第一光取向层的光取向相差N度。


4.如权利要求1所述的光控取向法，其特征在于，在光取向前，对所述第一光取向层、所述第二光取向层分别做预曝光处理，使所述第一光取向层、所述第二光取向层有一定的光取向。


5.如权利要求1所述的光控取向法，其特征在于，在所述第二光取向层后，沿光线方向再放置第二旋光介质层、第三光取向层，同时对三层进行光取向；所述第二旋光介质层与曝光光源之间的各层均为透...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆建钢，黄凯，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：上海;31