用于清洁玻璃制品的清洁组成物以及使用其清洁玻璃基板的方法技术

本发明专利技术是提供一种用于清洁玻璃制品的清洁组成物以及使用其清洁玻璃基板的方法。相对于100wt％的清洁组成物，所述清洁组成物包括：在约1wt％～约20wt％范围内的碱；在约0.1wt％～约10wt％范围内的表面活性剂；在约0.1wt％～约10wt％范围内的钳合剂；在约0.1wt％～约10wt％范围内的有机溶剂；及在约0.1wt％～约10wt％范围内的分散安定剂，其中，所述分散安定剂具有下述式(1)的结构。使用所述清洁组成物，能够有效地将玻璃基板的表面上的粒子污染及有机污染物去除。

Cleaning components for cleaning glass products and methods for cleaning glass substrate with them

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于清洁玻璃制品的清洁组成物以及使用其清洁玻璃基板的方法
本申请案依据专利法主张于2017年8月29日申请的韩国申请案序号第10-2017-0109487号的优先权的权益，且本申请案是依据所述申请案的内容，并通过参照来将所述申请案的内容整体并入本文中。一或更多实施形态是有关一种用于清洁玻璃制品的清洁组成物以及使用其清洁玻璃基板的方法，特别是，有关一种用于清洁玻璃制品的清洁组成物以及使用其清洁玻璃基板的方法，其可有效地将玻璃基板的粒子污染及有机污染物去除
技术介绍
已使用包括物理方法及化学方法的各种清洁方法，来制造平板显示器及其类似物中所使用的玻璃基板。仍需要清洁能力经进一步改良的清洁组成物，以将玻璃基板的表面上的粒子污染及有机污染物去除。
技术实现思路
一或更多实施形态包括一种用于清洁玻璃制品的清洁组成物以及使用其清洁玻璃基板的方法，其可有效地将玻璃基板的表面上的粒子污染及有机污染物去除。在下述说明书中叙述一部分其它方面，并且其一部分能够从说明书中显而易见，或可通过实行所呈现的实施例来得知。根据一或更多实施形态，一种用于清洁玻璃制品的清洁组成物，相对于100wt％的清洁组成物，所述清洁组成物包括：在约1wt％～约20wt％范围内的碱；在约0.1wt％～约10wt％范围内的表面活性剂；在约0.1wt％～约10wt％范围内的钳合剂；在约0.1wt％～约10wt％范围内的有机溶剂；及在约0.1wt％～约10wt％范围内的分散安定剂，其中，所述分散安定剂具有下述式(1)的结构。<式(1)>式中，“n”为10～5,000的整数，“M+”为碱金属或碱土金属的阳离子，且“R－”为O－或COO－。一些实施形态中，相对于100wt％的清洁组成物，所述清洁组成物可包括：在约5wt％～约20wt％范围内的碱；在约2wt％～约5wt％范围内的表面活性剂；在约3wt％～约8wt％范围内的钳合剂；在约3wt％～约8wt％范围内的有机溶剂；及在约0.1wt％～约3wt％范围内的分散安定剂。此时，所述分散安定剂可具有下述式(1-1)的结构。<式(1-1)>式中，“n”为50～1,000的整数，“M”为钠或钾。此外，所述表面活性剂可包括从由聚氧化烯烷基酚醚(polyoxyalkylenealkylphenolether)、聚氧化烯芳基酚醚、聚氧化烯脂肪酸酯、聚氧化烯山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧化烯烷基胺、山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚烷基糖苷、烷醇胺及芳醇胺所组成的群组中选出的至少一种。一些实施形态中，所述表面活性剂可具有下述式(2)的结构。<式(2)>CS-(EOS)a-(POS)b式中，“CS”所示的链段为碳数10～14的直链烃，“EOS”所示的链段为氧化乙烯，“POS”所示的链段为氧化丙烯，EOS及POS各自形成嵌段或相互交替，且a:b为7:3～9.5:0.5。特别是，所述CS所示的链段可为碳数12的直链烃，且a:b可为8.5:1.5～9.3:0.7。此外，所述碱可包括从由氢氧化钠(NaOH)、氢氧化钾(KOH)、氢氧化镁(Mg(OH)2)、氢氧化钙(Ca(OH)2)、氨(NH3)、氢氧化四乙铵、氢氧化四甲铵、氨基乙氧基乙醇、三乙醇胺、二乙醇胺、单乙醇胺、氢氧化铵、氢氧化四丙铵、氢氧化丁铵及氢氧化胆碱所组成的群组中选出的至少一种。所述钳合剂可包括：从由焦磷酸钾、碳酸钙、碳酸钠、硅酸钠、葡萄糖酸钠、柠檬酸、柳酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、焦磷酸、聚磷酸、苯并三唑、山梨糖醇、葡萄糖、羧基苯并三唑及甲苯三唑所组成的群组中选出的至少一种。一些实施形态中，所述钳合剂可包括：氮基-2,2’,2”-三乙酸(NTA)、二亚乙基三胺五乙酸(DTPA)、乙二胺四乙酸(EDTA)，或上述的金属盐，且所述金属盐可包括钾盐或钠盐。此时，相对于100wt％的清洁组成物，所述钳合剂可包括在约2wt％～约7wt％范围内的NTA的金属盐，及在约1wt％～约6wt％范围内的DTPA的金属盐。一些实施形态中，所述清洁组成物可还包括：漂白剂、相安定剂或缓冲液。根据一或更多实施形态，一种用于清洁玻璃制品的清洁组成物，相对于100wt％的清洁组成物100，所述清洁组成物包括：在约5wt％～约20wt％范围内的碱；在约2wt％～约5wt％范围内的表面活性剂；在约3wt％～约8wt％范围内的钳合剂；在约3wt％～约8wt％范围内的有机溶剂；及在约0.1wt％～约3wt％范围内的分散安定剂，其中，所述表面活性剂具有上述式(2)的结构。根据一或更多实施形态，一种清洁玻璃基板的方法，所述方法包括：将清洁组成物供给至玻璃基板上；通过以使所述清洁组成物接触所述玻璃基板的方式使用摩擦清洁单元来将所述玻璃基板的表面清洁；及从所述玻璃基板将所述清洁组成物去除。相对于100wt％的清洁组成物，所述清洁组成物可包括：在约5wt％～约20wt％范围内的碱；在约2wt％～约5wt％范围内的表面活性剂；在约3wt％～约8wt％范围内的钳合剂；在约3wt％～约8wt％范围内的有机溶剂；及在约0.1wt％～约3wt％范围内的分散安定剂。所述分散安定剂可具有上述式(1)的结构。此外，所述表面活性剂可具有上述式(2)的结构。附图说明这些及/或其它方面能够由下述实施形态的叙述并结合下述附图明显可知并更容易理解。图1为说明在使用实施例1、比较例1及比较例2的清洁组成物来清洁之前与之后之间的接触角的改变的图表。图2为说明当通过使用实施例1、比较例1及比较例2的清洁组成物来进行清洁时的平均玻璃粒子去除速率的图表。图3为说明在施加实施例1的清洁组成物之前与之后以及在再次施加惯用清洁组成物之后的粒子数的经时改变的图表。图4为说明在施加实施例1的清洁组成物期间的粒子数的连续经时改变(由阴影部分指出)的图表。具体实施方式以下详细参照实施形态，其例子是如附图中所说明，所有附图中，相同的参照编号表示相同的元件。关于此点，本实施形态可具有不同形式，且不应理解为受限于本文中的叙述。于是，以下仅是通过参照该图来叙述该实施形态，以解释本说明书的方面。如本文中所使用的，术语“及/或”包括相关的所列项目中的一或更多种的任何及所有组合。下文中，将参照附图详细叙述实施形态。然而，本专利技术可以许多不同的形式具体呈现，且不应理解为受限于以下所述的实施形态。该实施形态可解释为对本专利技术所属
中具有通常知识者提供更充分地叙述本专利技术。所有附图中，相同的参照编号代表相同的元件。此外，已示意性地说明附图中的各种元件及区域。因此，本专利技术不受附图中所说明的相对大小或距离所限制。本文中所使用的术语仅是为了叙述特定的实施形态的目的，并非旨在限制本专利技术。如本文中所使用的，单数形式“一”及“所述”旨在也包括复数形式，除非上下文有明确指出。应理解的是：例如“包含”、“包括”及“具有”等术语，当本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于清洁玻璃制品的清洁组成物，相对于100wt％的所述清洁组成物，所述清洁组成物包含：/n在约1wt％～约20wt％范围内的碱；/n在约0.1wt％～约10wt％范围内的表面活性剂；/n在约0.1wt％～约10wt％范围内的钳合剂；/n在约0.1wt％～约10wt％范围内的有机溶剂；及/n在约0.1wt％～约10wt％范围内的分散安定剂，/n其中，所述分散安定剂具有下述式(1)的结构：/n<式(1)>/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170829 KR 10-2017-01094871.一种用于清洁玻璃制品的清洁组成物，相对于100wt％的所述清洁组成物，所述清洁组成物包含：
在约1wt％～约20wt％范围内的碱；
在约0.1wt％～约10wt％范围内的表面活性剂；
在约0.1wt％～约10wt％范围内的钳合剂；
在约0.1wt％～约10wt％范围内的有机溶剂；及
在约0.1wt％～约10wt％范围内的分散安定剂，
其中，所述分散安定剂具有下述式(1)的结构：
<式(1)>



式中，“n”为10～5,000的整数，“M+”为碱金属或碱土金属的阳离子，且“R－”为O－或COO－。


2.如权利要求1所述的清洁组成物，其中，相对于100wt％的所述清洁组成物，所述清洁组成物包含：
在约5wt％～约20wt％范围内的碱；
在约2wt％～约5wt％范围内的表面活性剂；
在约3wt％～约8wt％范围内的钳合剂；
在约3wt％～约8wt％范围内的有机溶剂；及
在约0.1wt％～约3wt％范围内的分散安定剂。


3.如权利要求1所述的清洁组成物，其中，所述分散安定剂具有下述式(1-1)的结构：
<式(1-1)>



式中，“n”为50～1,000的整数，“M”为钠或钾。


4.如权利要求1所述的清洁组成物，其中，所述表面活性剂包含从由聚氧化烯烷基酚醚、聚氧化烯芳基酚醚、聚氧化烯脂肪酸酯、聚氧化烯山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧化烯烷基胺、山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚烷基糖苷、烷醇胺及芳醇胺所组成的群组中选出的至少一种。


5.如权利要求1所述的清洁组成物，其中，所述表面活性剂具有下述式(2)的结构：
<式(2)>
CS-(EOS)a-(POS)b
式中，“CS”所示的链段为碳数10～14的直链烃，“EOS”所示的链段为氧化乙烯，“POS”所示的链段为氧化丙烯，EOS及POS各自形成嵌段或相互交替，且a:b为7:3～9.5:0.5。


6.如权利要求5所述的清洁组成物，其中，所述CS所示的链段为碳数12的直链烃，且a:b为8.5:1.5～9.3:0.7。


7.如权利要求1所述的清洁组成物，其中，所述碱包含从由氢氧化钠(NaOH)、氢氧化钾(KOH)、氢氧化镁(Mg(OH)2)、氢氧化钙(Ca(OH)2)、氨(NH3)、氢氧化四乙铵、氢氧化四甲铵、氨基乙氧基乙醇、三乙醇胺、二乙醇胺、单乙醇胺、氢氧化铵、氢氧化四丙铵、氢氧化丁铵及氢氧化胆碱所组成的群组中选出的至少一种。


8.如权利要求1所述的清洁组成物，其中，所述钳...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟穆哈，朴俊昱，申元国，宋小俊，
申请(专利权)人：康宁公司，AK化学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US