一种可用于显示器件的防紫外辐射结构及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种可用于显示器件的防紫外辐射结构及其制备方法，所述防紫外辐射结构至下而上由基底、紫外辐射薄膜组成，所述防紫外辐射薄膜总厚度在18μm以下，所述防紫外辐射薄膜的原料包括以下成分：混合溶剂65～35％，防紫外辐射剂25～55％，保护剂10％；所述防紫外辐射剂为仙人掌表皮萃取液。本发明专利技术所选取的加入乙二醇做溶剂的纳米级多孔SiO

A UV radiation proof structure for display device and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种可用于显示器件的防紫外辐射结构及其制备方法
本专利技术涉及防紫外辐射材料
，具体涉及一种可用于显示器件的防紫外辐射结构及其制备方法。
技术介绍
显示设备作为人机交互最主要的方式之一，在社会生活中起着越来越不可替代的作用。而且随着显示设备多功能化、集成化、小型化和柔性化程度越来越高，环境变化对显示设备性能的影响变得越来越明显和突出，成为了显示设备在设计过程中要解决的主要问题之一。其中，紫外辐射会影响显示设备中功能性分子的排列方式，甚至破坏其分子结构，因此过强的外部紫外辐射环境会导致内部电路老化加快，破坏显示设备内部器件结构降低器件寿命，严重拖延了显示器件在各种环境条件下大规模应用的进程。因此，防紫外辐射问题在设计大规模集成电路和封装显示设备的过程中应该被重点考虑。当前显示设备制造过程中常用的防紫外材料为有机防紫外材料，由于大部分有机分子附着力较差、温度敏感性太高、成膜不稳定易分解，加上有机分子对紫外辐照敏感，暴露于紫外光照下结构及其不稳定，因此此类防紫外分子不能大规模应用，需要继续改进。同时多孔二氧化硅(SiO2)由于在结构和防水性方面的优势已经逐渐被应用到光电子器件的防护制备中，并且取得了一定效果。然而，由于现有的SiO2防紫外辐射材料所用溶剂大部分含有苯等有毒不环保成分，且由于工艺方面的限制，SiO2防紫外辐射薄膜的厚度都在几厘米以内，这种厚度的薄膜会严重限制显示设备的柔性化和大面积化进程。加上SiO2薄膜在制备的过程中成膜的均匀性很难保证，这不仅会提高电子产品的成本而且会降低产品的成品率和效率。这些都是亟待改进的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于：针对上述现有的SiO2防紫外辐射材料所用溶剂大部分含有苯等有毒不环保成分，且由于工艺方面的限制，SiO2防紫外辐射薄膜的厚度都在几厘米以内，严重限制显示设备的柔性化和大面积化进程、降低产品的成品率和效率的问题，本专利技术提供一种可用于显示器件的防紫外辐射结构及其制备方法。本专利技术采用的技术方案如下：一种可用于显示器件的防紫外辐射结构，所述防紫外辐射结构至下而上由基底、紫外辐射薄膜组成，所述防紫外辐射薄膜总厚度在18μm以下，所述防紫外辐射薄膜的原料包括以下成分：混合溶剂、防紫外辐射剂和保护剂；混合溶剂65～35％防紫外辐射剂25～55％保护剂10％；所述防紫外辐射剂为仙人掌表皮萃取液。优选地，所述防紫外辐射薄膜总厚度在6-15μm之间。优选地，所述仙人掌表皮萃取液为将高浓度仙人掌表皮萃取液通过甘油稀释为质量分数为0.05-0.2％的仙人掌表皮萃取液。优选地，所述高浓度仙人掌表皮萃取液的质量分数为10-30％。优选地，所述混合溶剂包括以下体积份数的组分：乙二醇18-30份、高分子聚电解质型731分散剂10-20份、硅烷偶联剂YGO-120418-30份以及质量比为0.5％的氮化硼水溶液25-45份。优选地，所述保护剂为用乙二醇作为溶剂的纳米级多孔SiO2颗粒，所述纳米级多孔SiO2颗粒的为粒径20-30nm、比表面积800-1200m2/g以及比孔容0.5-1.2cm3/g。一种可用于显示器件的防紫外辐射结构的制备方法，包括以下步骤：1)对显示器件或待喷涂表面基底进行清洗，清洗后用干燥吹干，然后进行氧等离子轰击处理，以保证与膜有良好的附着性；2)取防紫外辐射薄膜的原料混合溶液，将其采用辊涂、LB膜法、滴涂、喷涂、提拉法、喷墨打印或丝网印刷法涂抹在步骤1)处理好的基底表面上；3)将步骤2)所得薄膜进行烘干处理，得到所述可用于显示器件的防紫外辐射结构薄膜。优选地，步骤2)所述涂抹速率为450-560μL/min。优选地，步骤3)进行烘干处理的条件是在70-85℃下处理3-8min。相较于现有技术，本专利技术的有益效果是：(1)本专利技术利用保护剂的多孔结构能避免防紫外辐射剂直接暴露于紫外辐照等外界极端环境而导致防紫外辐射剂失去活性，同时利用防紫外辐射剂在烘干以后会在保护剂的多孔结构内外表面同时附着的特性，增加了有效防紫外辐射的比表面积，极大提升了防紫外辐射效果；制备工艺简单，且能制备出微米级别的薄膜，大大降低了防紫外辐射薄膜厚度的量级，能满足产业化的市场需求；(2)本专利技术所选取的加入乙二醇做溶剂的纳米级多孔SiO2具有多孔结构，溶剂绿色环保、成膜具有可弯折特性，并且在与防紫外辐射剂混合喷涂烘干处理后会利用其多孔结构增加有效比表面积的特点，能够有效的增大防紫外辐射分子的分布范围和数量，提升防紫外辐射效率；(3)本专利技术所选取的保护剂纳米级多孔SiO2具有的三维多孔结构和高耐热性，能够有效阻隔紫外辐照和外部高温环境对其内部防紫外辐射剂的损害，增加防紫外辐射剂的工作寿命；(4)本专利技术分布于保护剂之间的防紫外辐射剂为溶于甘油的天然20％仙人掌表皮萃取液，具有绿色环保无毒特性，且其不需要使用含苯或者有毒溶剂，避免了对环境的污染和对使用者健康的损害。附图说明图1为一种可用于显示器件的防紫外辐射结构薄膜示意图；图中标记为：1-基底，2-紫外辐射薄膜。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术，即所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例1如图1所示，一种可用于显示器件的防紫外辐射结构，总厚度为18μm，所述防紫外辐射结构至下而上包括基底1、紫外辐射薄膜2，所述防紫外辐射薄膜2的原料包括以下成分：混合溶剂、防紫外辐射剂和保护剂；其中混合溶剂为乙二醇、高分子聚电解质型731分散剂、硅烷偶联剂YGO-1204和质量分数为0.5％的氮化硼水溶液按照体积比0.25:0.15:0.25:0.35组成的混合溶液，防紫外辐射剂为采用辊涂、LB膜法、刮涂、旋涂、滴涂、喷涂、提拉法、流延法、浸涂、喷墨打印、自组装或丝网印刷处理后仍具有稳定薄膜结构，且有较大接触面积和绿色环保特性的购得的质量分数为20％仙人掌表皮萃取液和甘油混合液，保护剂为用乙二醇作为溶剂的纳米级多孔SiO2颗粒，其中纳米级多孔SiO2颗粒的粒径、比表面积以及空容平均值分别为：粒径25nm，比表面积1000m2/g，比孔容1cm3/g；所述防紫外辐射薄膜2的原料成分重量组成如下：混合溶剂65％防紫外辐射剂25％保护剂10％防紫外辐射薄膜是如图1所示的同时含有这三种物质，但最后由于SiO2特性最后会形成SiO2主要聚集于表面。一种可用于显示器件的防紫外辐射结构的制备方法，包括以下步骤：本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可用于显示器件的防紫外辐射结构，其特征在于，所述防紫外辐射结构至下而上由基底、紫外辐射薄膜组成，所述防紫外辐射薄膜总厚度在18μm以下，所述防紫外辐射薄膜的原料包括以下成分：混合溶剂、防紫外辐射剂和保护剂；/n混合溶剂 65～35％/n防紫外辐射剂 25～55％/n保护剂 10％；所述防紫外辐射剂为仙人掌表皮萃取液。/n

【技术特征摘要】
1.一种可用于显示器件的防紫外辐射结构，其特征在于，所述防紫外辐射结构至下而上由基底、紫外辐射薄膜组成，所述防紫外辐射薄膜总厚度在18μm以下，所述防紫外辐射薄膜的原料包括以下成分：混合溶剂、防紫外辐射剂和保护剂；
混合溶剂65～35％
防紫外辐射剂25～55％
保护剂10％；所述防紫外辐射剂为仙人掌表皮萃取液。


2.根据权利要求1所述的一种可用于显示器件的防紫外辐射结构，其特征在于，所述防紫外辐射薄膜总厚度在6-15μm之间。


3.根据权利要求1所述的一种可用于显示器件的防紫外辐射结构，其特征在于，所述仙人掌表皮萃取液为将高浓度仙人掌表皮萃取液通过甘油稀释为质量分数为0.05-0.2％的仙人掌表皮萃取液。


4.根据权利要求3所述的一种可用于显示器件的防紫外辐射结构，其特征在于，所述高浓度仙人掌表皮萃取液的质量分数为10-30％。


5.根据权利要求1所述的一种可用于显示器件的防紫外辐射结构，其特征在于，所述混合溶剂包括以下体积份数的组分：乙二醇18-30份、高分子聚电解质型731分散剂10-20份、硅烷偶联剂YGO-120418-30份以及质量比为0.5...

【专利技术属性】
技术研发人员：周殿力，侯思辉，高林，于军胜，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：四川;51