一种显示装置及其制作方法制造方法及图纸

技术编号:24415154 阅读:37 留言:0更新日期:2020-06-06 11:07
本发明专利技术提供一种显示装置及其制作方法,包括显示区和非显示区,并具有开孔,所述开孔的边缘设置有金属走线;还包括设置在所述显示装置内的阻挡部,所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内,用于阻挡照射到所述金属走线上的光线。本发明专利技术实施例通过阻挡部切断了照射到AA孔边缘的金属走线上的光路,使得光线在显示装置的内部被消耗掉,避免发生AA孔边缘漏光的问题,从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。

A display device and its making method

【技术实现步骤摘要】
一种显示装置及其制作方法
本专利技术涉及显示
,尤其涉及一种显示装置及其制作方法。
技术介绍
对于全面屏,绝大部分厂商都在追求更高的屏占比,以期给用户带来更好的视觉冲击,但摄像头及一些感应器件却限制着屏幕往更高的屏占比发展。由于有效显示区(ActiveArea,简称AA区)的开孔结构设计,会发生侧视角漏光,导致影响摄像头的成像效果和屏幕外观问题。漏光路径如图1所示,由于AA区的电致发光层101发光时,激子发光的方向在三维空间是随机发射的,因此当发射角与垂直方向较大时,很大一部分光线会进入像素定义层102,而且由于阴极103的反射和/或薄膜封装层104的全反射波导效应,光线被困在面板内部,沿着水平方向传播。当传播到AA孔边缘的金属走线105时,会发生光线的反射。如图2所示,一方面,由于金属走线105与切割线之间存在一定距离,人眼就会看到这些从金属走线105表面反射出的光线,影响屏幕外观;另一方面,从金属走线105表面反射出的光线还会从孔的侧面射出,落到摄像头的收光区域,从而影响了摄像头的成像效果。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术的目的在于提出一种显示装置及其制作方法,以解决由于漏光而导致影响摄像头的成像效果和屏幕外观的问题。基于上述目的,本专利技术实施例提供了一种显示装置,包括显示区和非显示区,并具有开孔,所述开孔的边缘设置有金属走线;还包括设置在所述显示装置内的阻挡部,所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内,用于阻挡照射到所述金属走线上的光线。在本专利技术的一些实施例中,包括依次设置的像素定义层、电致发光层和第一电极层,以及第二电极层;所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区,所述第二电极层位于所述开口区内;所述阻挡部用于阻挡在所述第一电极层和所述第二电极层的激发下,从所述电致发光层发出并照射到所述金属走线上的光线。在本专利技术的一些实施例中,所述像素定义层开设有第一隔离槽,所述阻挡部设置在所述第一隔离槽内。在本专利技术的一些实施例中,还包括设置在所述像素定义层的远离所述电致发光层一侧的平坦层;所述平坦层和所述像素定义层上共同开设第二隔离槽,所述阻挡部设置在所述第二隔离槽内。在本专利技术的一些实施例中,还包括设置在所述第一电极层的远离所述电致发光层一侧的盖板;所述阻挡部采用以下结构中的一种:所述阻挡部包括所述电致发光层;所述阻挡部包括所述电致发光层和所述第一电极层;或者,所述阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板。在本专利技术的一些实施例中,所述盖板在与所述第一隔离槽相对的表面上设置有第一凸起,所述第一凸起将所述电致发光层和所述第一电极层嵌入在所述第一隔离槽内;所述盖板在与所述第二隔离槽相对的表面上设置有第二凸起,所述第二凸起将所述电致发光层和所述第一电极层嵌入在所述第二隔离槽内。本专利技术实施例还提供了一种显示装置的制作方法,包括:在衬底基板上形成阻挡部和金属走线,开设开孔;其中,所述显示装置包括显示区和非显示区,所述金属走线设置于所述开孔的边缘,所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内,用于阻挡照射到所述金属走线的光线。在本专利技术的一些实施例中,在衬底基板上形成阻挡部和金属走线,包括:在衬底基板上形成金属走线、开设有第一隔离槽的像素定义层,以及第二电极层;其中,所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区,所述第二电极层位于所述开口区内;在所述像素定义层上依次形成电致发光层、第一电极层和盖板,以及位于所述第一隔离槽内的阻挡部。在本专利技术的一些实施例中,在衬底基板上形成阻挡部和金属走线,包括:在衬底基板上形成金属走线、共同开设有第二隔离槽的平坦层和像素定义层,以及第二电极层;其中,所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区,所述第二电极层位于所述开口区内;在所述像素定义层上依次形成电致发光层、第一电极层和盖板,以及位于所述第二隔离槽内的阻挡部。在本专利技术的一些实施例中,所述阻挡部包括所述电致发光层,所述阻挡部包括所述电致发光层和所述第一电极层,或者,所述阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板。从上面所述可以看出,本专利技术提供的显示装置及其制作方法通过阻挡部切断了照射到AA孔边缘的金属走线上的光路,使得光线在显示装置的内部被消耗掉,避免发生AA孔边缘漏光的问题,从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术中显示装置的漏光路径示意图;图2为现有技术中显示装置的AA孔的结构示意图;图3为本专利技术一个实施例的显示装置的结构示意图;图4为本专利技术另一个实施例的显示装置的结构示意图;图5为本专利技术又一个实施例的显示装置的结构示意图图6为本专利技术一个实施例的显示装置的俯视图;图7为本专利技术又一个实施例的显示装置的俯视图;图8为本专利技术一个实施例的显示装置的制作方法的流程图;图9为本专利技术另一个实施例的显示装置的制作方法的流程图。具体实施方式使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,并参照附图,对本专利技术进一步详细说明。需要说明的是,除非另外定义,本专利技术实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性,而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同,而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接,而是可以包括电性的连接,不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系,当被描述对象的绝对位置改变后,则该相对位置关系也可能相应地改变。在本专利技术实施例中,所述显示装置包括显示区和非显示区,并且所述显示装置具有开孔,所述开孔的边缘设置有金属走线;其中,所述显示装置还包括设置在所述显示装置内的阻挡部,所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内,用于阻挡照射到所述金属走线上的光线。本专利技术实施例通过阻挡部切断了照射到AA孔边缘的金属走线上的光路,使得光线在显示装置的内部被消耗掉,避免发生AA孔边缘漏光的问题,从而保证了摄像头的成像效果和屏幕外观的美观性。在本专利技术的实施例中,所述显示装置可以是全面屏显示装置,所述非显示区位于所述显示区的内部。可选地,所述非显示区也可以位于所述显示区的外侧,本专利技术实施例对显示区和非显示区的位置不作限制本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示装置,其特征在于,包括显示区和非显示区,并具有开孔,所述开孔的边缘设置有金属走线;/n还包括设置在所述显示装置内的阻挡部,所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内,用于阻挡照射到所述金属走线上的光线。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示装置,其特征在于,包括显示区和非显示区,并具有开孔,所述开孔的边缘设置有金属走线;
还包括设置在所述显示装置内的阻挡部,所述阻挡部在所述显示装置上的正投影位于所述非显示区内,用于阻挡照射到所述金属走线上的光线。


2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于,包括依次设置的像素定义层、电致发光层和第一电极层,以及第二电极层;所述像素定义层具有用于限定各个子像素的开口区,所述第二电极层位于所述开口区内;所述阻挡部用于阻挡在所述第一电极层和所述第二电极层的激发下,从所述电致发光层发出并照射到所述金属走线上的光线。


3.根据权利要求2所述的显示装置,其特征在于,所述像素定义层开设有第一隔离槽,所述阻挡部设置在所述第一隔离槽内。


4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于,还包括设置在所述像素定义层的远离所述电致发光层一侧的平坦层;
所述平坦层和所述像素定义层上共同开设第二隔离槽,所述阻挡部设置在所述第二隔离槽内。


5.根据权利要求3或4所述的显示装置,其特征在于,还包括设置在所述第一电极层的远离所述电致发光层一侧的盖板;所述阻挡部采用以下结构中的一种:
所述阻挡部包括所述电致发光层;
所述阻挡部包括所述电致发光层和所述第一电极层;或者,
所述阻挡部包括所述电致发光层、所述第一电极层和所述盖板。


6.根据权利要求5所述的显示装置,其特征在于,所述盖板在与所述第一隔离槽相对的表面上设置有第一凸起,所述第一凸起将所述电致发光层和所述第一电极层嵌入在所述第一隔离槽内...

【专利技术属性】
技术研发人员:李存智宋阳张伟吴欣慰郭钟旭孙世成
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司重庆京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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