一种镀膜树脂滤光片的膜层结构及治具制造技术

本实用新型专利技术提供一种镀膜树脂滤光片的镀膜膜层结构，可以提高可见光透过率，以及提出一种镀膜方法以及适配该方法设计的治具，包含配合使用的上治具和下治具，改善原有高能镀膜工艺导致树脂材料卷曲的问题。

Film structure and fixture of a coated resin filter

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜树脂滤光片的膜层结构及治具
本技术涉及光学镜片领域，尤其涉及一种镀膜树脂滤光片的镀膜膜层结构及其镀膜治具。
技术介绍
镜片镀膜就是在镜片表面增加膜层。加膜减少了镜面的反射光，增加了光线透过率，视物更加清楚，还可以防花，防水，防紫外线，不易疲劳。树脂镜片因此韧性好不易破碎现在被广泛使用。但是树脂镜片在镀膜时存在较大难题。在本专利之前最接近的技术为高能双面镀膜设计及其工艺；高能双面镀膜设计及其工艺主要通过两面对等的膜厚设计和相对较高的离子源束流辅助沉积来获得所需要的光学特性和外形平整度。该技术在镀制玻璃基材时，可先进行第一面镀制，清洗翻转后，再进行第二面镀制，流程简单无需特殊夹治具即可完成两面膜层镀制；但是当该技术在镀制树脂基材时，如果先进行第一面镀制，树脂基材由于本身极好的柔韧性，会被膜层应力影响导致严重卷曲无法使用，而玻璃材质因为其本身的刚性不会产生卷曲。
技术实现思路
本技术提供一种镀膜树脂滤光片的镀膜膜层结构，可以提高可见光透过率，以及提出一种镀膜治具，改善原有高能镀膜工艺导致树脂材料卷曲的问题。本技术是通过以下技术方案实现：一种镀膜树脂滤光片的膜层结构，包含树脂基材，所述树脂基材包含A、B两面，分别设置有厚度为3010nm-3030nm和2990nm-3010nm的光学介质薄膜，其中，A面膜层结构为SiO2+TiO2+SiO2+……+TiO2+SiO2交替设置共23层，由内向外前三层膜层厚度分别为93nm-103nm、4nm-13nm、40nm-50nm，最后一层膜厚为80nm-90nm；B面膜层结构为SiO2+TiO2+SiO2+……+TiO2+SiO2交替设置共27层，前三层膜层厚度分别为95nm-105nm、3nm-13nm、40nm-50nm，最后一层膜厚为73nm-92nm；上述膜层结构中其他层SiO2厚度为140nm-180nm，TiO2厚度为70nm-110nm.优选的是，一种镀膜树脂滤光片的膜层结构，包含树脂基材，所述树脂基材包含A、B两面，分别设置有厚度分别为3023.03nm和3006.2nm的光学介质薄膜，其中A面膜层结构为：SiO2+TiO2+SiO2+……+TiO2+SiO2共23层，由内向外前三层膜层厚度分别为98.4nm、9.69nm、45.49nm，最后一层膜厚为85.88nm；B面膜层结构为SiO2+TiO2+SiO2+……+TiO2+SiO2共27层，由内向外前三层膜层厚度分别为100.48nm、8.57nm、45.59nm，最后一层膜厚为78.97nm，上述膜层结构中其他层SiO2厚度为140nm-180nm，TiO2厚度为70nm-110nm.优选的是，为了用于加工上述镀膜树脂滤光片的膜层结构，提出一种镀膜树脂滤光片的镀膜治具，包含配合使用的上治具和下治具，所述上治具为矩形框架结构，四角分别设置有锥形沉头孔，内部设置有向内延伸的压边，压边上表面向下倾斜使压边截面呈三角形，压边下表面向内凹陷形成一个矩形的压面；所述下治具与上治具整体镜像设置，四角设置位置与锥形沉头孔对应的螺纹孔，上治具和下治具通过锥头螺钉连接配合使用，两压边之间形成玻璃压合区。优选的是，所述玻璃压合区一侧设置有两处定位槽，定位槽分别设置有在上治具底部和下治具底部的相对侧。优选的是，所述上治具的压边上设置有圆弧形豁口。优选的是，所述上治具和下治具的四角外侧均设置有向外延伸的凸缘，上治具和下治具的凸缘配合在一起形成装夹部。本技术相对现有技术来说具有如下好处：1、确保光波在可见光波段充分进行相干叠加，增加可见光透过率；2、本技术所使用的离子源参数，拥有更低的离子束流能量，更小的离子束流密度，这样在膜层沉积过程中所产生的表面应力会更小，从而改善原有高能镀膜工艺导致树脂材料卷曲的问题。3、本技术使用特殊的工装治具设计。树脂基材置于上下治具之间，四角使用螺丝固定，在镀膜时可有效防止四边因为应力而卷起，镀制第二面时直接翻转即可完成镀膜。4、本技术的治具可应用于量产后，创造树脂材料的量产记录，提供超过50个以上的全新工作岗位，为手机终端带来更好成像品质提升，提高了工作效率并提高了经济效益。附图说明图1为本技术实施例2中一种树脂滤光片的镀膜治具的上治具上表面等轴测示意图。图2为本技术实施例2中一种树脂滤光片的镀膜治具的上治具下表面等轴测示意图。图3为本技术实施例2中一种树脂滤光片的镀膜治具的下治具下表面等轴测示意图。图4为本技术实施例2中一种树脂滤光片的镀膜治具的下治具上表面等轴测示意图。附图标记如下：1、上治具，2、沉头孔，3、压边，4、下治具，5、螺纹孔，6、玻璃压合区，7、定位槽，8、豁口，9、凸缘。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。实施例1：本实施例提出一种树脂基材，所述树脂基材包含A、B两面，分别设置有厚度分别为3023.03nm和3006.2nm的光学介质薄膜，其中A面膜层结构为：SiO2+TiO2+SiO2+……+TiO2+SiO2共23层，由内向外前三层膜层厚度分别为98.4nm、9.69nm、45.49nm，最后一层膜厚为85.88nm；B面膜层结构为SiO2+TiO2+SiO2+……+TiO2+SiO2共27层，由内向外前三层膜层厚度分别为100.48nm、8.57nm、45.59nm，最后一层膜厚为78.97nm，上述膜层结构中其他层SiO2厚度为150nm左右，TiO2厚度为80nm左右。本实施例可以确保光波在可见光波段充分进行相干叠加，增加可见光透过率。本技术的一个优选实施例中，使用真空镀膜法。真空镀膜法即通过电子枪发射高速运动的电子，经过强电磁场偏转后，轰击在镀膜材料表面，使原本固态的镀膜材料瞬间获得大量热能，大量热能使分子之间范德华力失效，进而转换成动能获得初始运动速度并以气体形式蒸发向上运动，在运动过程中被高能等离子束碰撞加速，获得更大的运动速度和均匀一致的运动方向，最终沉积在位于上方伞架上面的镜片表面，形成一层纳米级的介质薄膜。这个不断蒸发沉积的过程，就是真空镀膜。本实施例使用optorunOTFC-1550型设备进行镀制，所使用离子源参数如表1所示，相对于原先的高能双面镀膜离子源参数(见表2)，实施例2所使用的离子源参数，拥有更低的离子束流能量，更小的离子束流密度，这样在膜层沉积过程中所产生的表面应力会更小，从而改善原有高能镀膜工艺导致树脂材料卷曲的问题。表1表2实施例2：如图1至图4所示，本实施例提出一种镀膜树脂滤光片的镀膜治具，包含配合使用的上治具和下治具，所述上治具为矩本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜树脂滤光片的膜层结构，其特征在于，包含树脂基材，所述树脂基材包含A、B两面，分别设置有厚度为3010nm-3030nm和2990nm-3010nm的光学介质薄膜，其中，A面膜层结构为SiO

【技术特征摘要】
1.一种镀膜树脂滤光片的膜层结构，其特征在于，包含树脂基材，所述树脂基材包含A、B两面，分别设置有厚度为3010nm-3030nm和2990nm-3010nm的光学介质薄膜，其中，A面膜层结构为SiO2+TiO2+SiO2+……+TiO2+SiO2交替设置共23层，由内向外前三层膜层厚度分别为93nm-103nm、4nm-13nm、40nm-50nm，最后一层膜厚为80nm-90nm；B面膜层结构为SiO2+TiO2+SiO2+……+TiO2+SiO2交替设置共27层，前三层膜层厚度分别为95nm-105nm、3nm-13nm、40nm-50nm，最后一层膜厚为73nm-92nm；上述膜层结构中其他层SiO2厚度为140nm-180nm，TiO2厚度为70nm-110nm。


2.根据权利要求1所述的一种镀膜树脂滤光片的膜层结构，其特征在于，包含树脂基材，所述树脂基材包含A、B两面，分别设置有厚度分别为3023.03nm和3006.2nm的光学介质薄膜，其中A面膜层结构为：SiO2+TiO2+SiO2+……+TiO2+SiO2共23层，由内向外前三层膜层厚度分别为98.4nm、9.69nm、45.49nm，最后一层膜厚为85.88nm；B面膜层结构为SiO2+TiO2+SiO2+……+TiO2+Si...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴志涵，王强，宋涛，陆春媚，
申请(专利权)人：湖北东田光电材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：湖北;42