一种高透光耐候性复合膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种高透光耐候性复合膜及其制备方法，从下至上依次包括基膜、胶粘层及外层膜；其中，胶粘层由胶水液涂覆于基膜上制得，该胶水液包括如下甲基苯基硅树脂、聚硅氧烷、二氧化钛及二甲苯；制备时在130‑150℃条件下将胶水液涂覆于基膜表面，随后与外层膜贴合，即制得该复合膜。本发明专利技术复合膜的阻水率高达3×10

A composite film with high light transmittance and weather resistance and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种高透光耐候性复合膜及其制备方法
本专利技术属于保护膜领域，尤其涉及一种高透光耐候性复合膜及其制备方法。
技术介绍
随着社会发展，智能化、柔性化产品越来越受到人们的青睐，同时柔性薄膜产品在高精尖领域发挥出不可替代的作用，例如折叠太阳能伞、柔性显示器、可穿戴电子皮肤等等。为了保护易氧化易功率衰减的敏感半导体部件，对上层柔性保护膜提出了越来越高的要求:不仅对阻水阻气效果要求高，同时由于产品长期暴露在空气中，对耐候耐老化性能至少有着25年的可正常使用标准，此外针对抗污耐腐蚀与高透光等皆是使用之重要要求。迄今，由于国内技术短缺；厂商们还是以进口美国3M产品为主，发展自身的超高阻水率户外使用的复合膜产品迫在眉睫。
技术实现思路
专利技术目的：本专利技术的第一目的是提供一种阻水率高、耐候耐老化性能优、抗污且透光率高的复合膜；本专利技术的第二目的是提供该复合膜的制备方法。技术方案：本专利技术的高透光耐候性复合膜，该保护膜从下至上依次包括基膜、胶粘层及外层膜；其中，胶粘层由胶水液涂覆于基膜上制得，该胶水液按重量份数计包括如下原料：甲基苯基硅树脂40-50份、聚硅氧烷10-20份、二氧化钛0.1-0.5份及二甲苯30-40份。本专利技术通过以甲基苯基硅树脂及聚硅氧烷为主剂，二氧化钛为助剂，二甲苯为溶剂复配制备复合膜，在搅拌分散均匀条件下，硅树脂发生水解反应形成硅氧键直链结构，如下结构所示，经过烘箱固化后，链状结构互相交叉，胶粘层最终为网状结构，进而使得该胶粘层耐老化、耐黄变特性强，为半导体、显示、太阳能电池等产品提供了稳定保障；同时将该胶粘层、基膜及外层莫进行复合，进而制备的复合膜阻水率可达3×10-3-10-4g/m2·day，耐48hPCT高强度老化。其中，R1＝CH3；R2＝C2H5CH3C6H5。进一步说，本专利技术基膜的厚度为100-125μm。胶粘层的厚度为20-40μm。外层膜的厚度为25-35μm。胶粘液由如下步骤制得：按重量份数将甲基苯基硅树脂、聚硅氧烷、二氧化钛及二甲苯混合后，在400-600rpm搅拌20-30min，制得胶粘层的胶粘液。外层膜按重量份数计包括如下原料：聚偏氟乙烯70-90份、聚甲基丙烯酸甲酯10-30份、二氧化钛0.05-1份、UV329粉料0.1-1份及UV-P粉料0.1-1份。外层膜由如下步骤制得：将聚偏氟乙烯70-90份、聚甲基丙烯酸甲酯10-30份、二氧化钛0.05-1份、UV329粉料0.1-1份及UV-P粉料0.1-1份混合，在160-200℃条件下造粒、挤出后，在130-150℃条件下拉伸制得。本专利技术制备高透光耐候性复合膜的方法，包括如下步骤：在130-150℃条件下将胶粘液涂覆于基膜表面，随后与外层膜贴合，即制得该保护膜。更进一步说，制备时涂覆的线速度为30-60m/min。有益效果：与现有技术相比，本专利技术的显著优点为：该复合膜的阻水率高达3×10-3-10-4g/m2·day，对紫外200-365nm具有90％以上的截止能力，透光率达到88-90％，具有优异的耐老化耐候性及抗污性，其PCT老化试验48小时后黄变值小于3，接触角测试大于120度；同时，其制备方法简单，能够连续化生产，具有柔性特征，可应用于显示、半导体器件及太阳能电池等领域。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术的技术方案做进一步详细说明。实施例1该实施例的复合膜从上至下依次包括外层膜、胶粘层及阻水基膜。其中，基膜为现有的型号为TBF1008阻水阻气基膜，其专利号为KR10-1329218。外层偏氟乙烯薄膜的原料如下表1所示，胶粘层如下表2所示。表1实施例1的聚偏氟乙烯薄膜的原料成分该外层膜的制备方法包括如下步骤：将聚偏氟乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、二氧化钛及UV粉料在60r/min条件下混合、160℃条件下造粒、挤出后，经过140℃烘箱拉伸制备出该聚偏氟乙烯外层膜。表2实施例1的胶粘层的原料成分组分甲基苯基硅树脂聚硅氧烷二氧化钛二甲苯含量/份40200.140该胶粘层的胶水液的制备方法包括如下步骤：将甲基苯基硅树脂、聚硅氧烷、二氧化钛及二甲苯混合于搅拌桶内，在400rpm搅拌30min，制得该有机硅胶水液。本专利技术复合膜的制备方法包括如下步骤：利用微凹涂布工艺，在烘箱温度为130℃、车速为60m/min的条件下，将有机硅胶水液均匀涂在阻水基膜的表层，然后经涂布线二放与聚偏氟乙烯薄膜贴合，即可。性能检测将该实施例制备的复合膜进行性能检测，获得的结果如下表3所示。表3实施例1制备的复合膜的性能实施例2该实施例的阻水复合膜，从上至下依次包括外层膜、胶粘层及阻水基膜。其中，外层偏氟乙烯薄膜的原料如下表4所示，胶粘层如下表4所示。表4实施例2的聚偏氟乙烯薄膜的原料成分该外层膜的制备方法包括如下步骤：将聚偏氟乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、二氧化钛及UV粉料在100r/min条件下混合、180℃条件下造粒、挤出，经过160℃烘箱拉伸制备出聚偏氟乙烯薄膜。表5实施例2的胶粘层的原料成分组分甲基苯基硅树脂、聚硅氧烷二氧化钛二甲苯含量/份50100.530胶粘层的胶水液制备方法包括如下步骤：将甲基苯基硅树脂、聚硅氧烷、二氧化钛及二甲苯混合于搅拌桶内，在600rpm搅拌30min，制得有机硅胶水液。本专利技术复合膜的制备方法包括如下步骤：利用网纹涂布工艺，在烘箱温度为150℃、车速为60m/min的条件下，将有机硅胶水液均匀涂在阻水基膜的表层，然后经涂布线二放与聚偏氟乙烯薄膜贴合，即可。性能检测将该实施例制备的复合膜进行性能检测，获得的结果如下表6所示。表6实施例2制备的复合膜的性能实施例3该实施例的复合膜从上至下依次包括外层膜、胶粘层及阻水基膜。其中，外层偏氟乙烯薄膜的原料如下表7所示，胶粘层如下表8所示。表7实施例3的聚偏氟乙烯薄膜的原料成分该外层膜的制备方法包括如下步骤：将聚偏氟乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、二氧化钛及UV粉料在60r/min条件下混合、160℃条件下造粒、挤出，经过140℃烘箱拉伸制备出聚偏氟乙烯薄膜。表8实施例3的胶粘层的原料成分组分甲基苯基硅树脂聚硅氧烷二氧化钛二甲苯含量/份45150.335该胶粘层的胶水液制备方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高透光耐候性复合膜，其特征在于：该保护膜从下至上依次包括基膜、胶粘层及外层膜；其中，胶粘层由胶水液涂覆于基膜上制得，该胶粘液按重量份数计包括如下原料：甲基苯基硅树脂40-50份、聚硅氧烷10-20份、二氧化钛0.1-0.5份及二甲苯30-40份。/n

【技术特征摘要】
1.一种高透光耐候性复合膜，其特征在于：该保护膜从下至上依次包括基膜、胶粘层及外层膜；其中，胶粘层由胶水液涂覆于基膜上制得，该胶粘液按重量份数计包括如下原料：甲基苯基硅树脂40-50份、聚硅氧烷10-20份、二氧化钛0.1-0.5份及二甲苯30-40份。


2.根据权利要求1所述的高透光耐候性复合膜，其特征在于：所述外层膜按重量份数计包括如下原料：聚偏氟乙烯70-90份、聚甲基丙烯酸甲酯10-30份、二氧化钛0.05-1份、UV329粉料0.1-1份及UV-P粉料0.1-1份。


3.根据权利要求1所述的高透光耐候性复合膜，其特征在于：所述基膜的厚度为100-125μm。


4.根据权利要求1所述的高透光耐候性复合膜，其特征在于：所述胶粘层的厚度为20-40μm。


5.根据权利要求1所述的高透光耐候性复合膜，其特征在于：所述外层膜的厚度为25-35μm。

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【专利技术属性】
技术研发人员：朱成，李世伟，
申请(专利权)人：南京君弘新材料有限公司，高盛电子科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32