【技术实现步骤摘要】
基于逐次比较法的荧光寿命测量方式
本专利技术涉及到CMOS成像领域,尤其涉及基于逐次比较法的荧光寿命测量方式。
技术介绍
荧光寿命成像是一种利用荧光团受到激发后产生的衰减曲线进行微观成像的方式。这种荧光成像方式不会受到斯托克斯距离太短、环境自荧光效应、荧光团浓度不均以及光通路不同等因素的影响,只取决于荧光团所处的物理及化学环境,因此被广泛地应用于现代医学以及生命科学研究中,例如检测药物在血液中的传递及吸收、检测癌细胞的扩散情况等。目前的荧光寿命成像方式主要有时间相关的单光子计数法、门控图像增强以及频域下的相量法三种。但是这三种方式在高频脉冲激光对荧光团进行激发后,光探测单元会产生大量的数据,需要即时处理。这样就给传感器的输出带宽带来了很大的压力,严重限制了图像传感器的成像帧率。因此如何有效减少输出的数据量成为设计荧光寿命图像传感器的重要考量。
技术实现思路
针对现有技术存在的难题,本专利技术一种基于逐次比较法的荧光寿命测量方式,主要通过模拟域比较器对光探测单元输出的电压信号进行实时比较并取舍的方式,使最终的输出信号只包括最高电压、最低电压和时间信号,大大减少了传感器输出的有效数据量,减轻了带宽压力。基于逐次比较法的荧光寿命测量方式,具体实施方案为:(1)基于逐次比较法的荧光寿命测量方式的系统结构荧光寿命测量方式的系统结构包括高频脉冲源、涂有荧光染料样品、光子探测单元以及两个模拟域比较器,如图1所示。当高频脉冲激光照射涂有荧光染料的样品后,荧光染料会辐射出与入射光波长 ...
【技术保护点】
1.基于逐次比较法的荧光寿命测量方式,其特征在于:具体实施方案为:/n(1)基于逐次比较法的荧光寿命测量方式的系统结构/n荧光寿命测量方式的系统结构包括高频脉冲源、涂有荧光染料样品、光子探测单元以及两个模拟域比较器;当高频脉冲激光照射涂有荧光染料的样品后,荧光染料会辐射出与入射光波长不同的荧光光线;这些辐射出的荧光光线照射到光子探测单元,被转化为电压信号,送入两个模拟域比较器;比较器一保存下整个测量过程中各个时间段所输出的最高电压,比较器二保存下整个测量过程中各个时间段所输出的最低电压;最终传感器将最高电压、最低电压与采集到最低电压的时刻输出,即可计算出荧光寿命;/n(2)荧光寿命计算算法/n荧光寿命,即荧光光强衰减到其峰值的
【技术特征摘要】
1.基于逐次比较法的荧光寿命测量方式,其特征在于:具体实施方案为:
(1)基于逐次比较法的荧光寿命测量方式的系统结构
荧光寿命测量方式的系统结构包括高频脉冲源、涂有荧光染料样品、光子探测单元以及两个模拟域比较器;当高频脉冲激光照射涂有荧光染料的样品后,荧光染料会辐射出与入射光波长不同的荧光光线;这些辐射出的荧光光线照射到光子探测单元,被转化为电压信号,送入两个模拟域比较器;比较器一保存下整个测量过程中各个时间段所输出的最高电压,比较器二保存下整个测量过程中各个时间段所输出的最低电压;最终传感器将最高电压、最低电压与采集到最低电压的时刻输出,即可计算...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐江涛,查万斌,聂凯明,林鹏,顾天宇,
申请(专利权)人:天津大学青岛海洋技术研究院,
类型:发明
国别省市:山东;37
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