一种OLED掩膜版清洗剂及其清洗工艺制造技术

本发明专利技术属于精细金属掩膜版清洗剂制备技术领域，尤其涉及一种OLED掩膜版用的清洗剂及其清洗工艺。以质量百分含量计，其组成如下：醇醚类溶剂20%~50%；极性非质子溶剂20%~50%；含氟的非离子表面活性剂1%~10%；去离子水10%~30%；所述含氟的非离子表面活性剂，其结构式为；

A cleaning agent for OLED mask and its cleaning process

【技术实现步骤摘要】
一种OLED掩膜版清洗剂及其清洗工艺
本专利技术属于精细金属掩膜版清洗剂制备
，尤其涉及一种OLED掩膜版用的清洗剂及其清洗工艺。
技术介绍
平板显示器(PlatPanelDisplay，FPD)是目前最重要的光电产品之一，目前主流的平板显示器可分为液晶显示器（LiquidCrystalDisplay，LCD）和有机发光二极管（OrganicLightEmittingDiodes，OLED）。其中OLED显示器具有自发光，广色域，广视角，响应时间短，发光效率高，而且工作电压低、更轻薄，此外可制作大尺寸和可挠曲面板，并且制作工艺更为简单等特点，是业界公认的可能替代LCD的新一代显示器。目前比较成熟的OLED显示器制造工艺是OLED蒸镀技术，其产品已经广泛应用于智能手机、智能穿戴、VR等领域。蒸镀技术除了需要精密的蒸镀设备外，还需要用于蒸镀的精细金属掩膜版（FineMetalMask，FMM），FMM通常由30~50微米厚的Ni-Co合金（铁镍钴超因瓦合金，Invar）刻蚀出图案后绑定到金属掩膜版框架上，FMM决定了OLED显示屏像素高低和尺寸大小。FMM在重复的蒸镀过程中，小分子有机材料(RGB光色染料等)会在FMM上沉积，造成阻塞与污染，严重影响后续蒸镀的效果。在生产时，一片FMM一般在使用20到30次后都需要进行清洗，来确保其后续效能。传统的FMM清洗前段只是采用溶剂浸泡清洗，洗净能力有限，对小分子RGB有机染料的溶解和剥离效果较低，甚至在使用过程中长时间不当浸泡会影响FMM的使用寿命，导致OLED显示器的制备成本升高。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种OLED掩膜版用的清洗剂，该清洗液能快速并有效清洗除去蒸镀工艺中FMM上附着的RGB光色染料，而且易清洗不残留，有效提高FMM清洗效率。本专利技术首先提供含氟的非离子表面活性剂，其结构式如式Ⅰ所示；式Ⅰn为8~14之间的自然数。具体地，n为10或12。所述含氟的非离子表面活性剂可按照如下方法进行制备：以对醚化三氟化硼（BF3(CH3)2O）为催化剂，在氮气保护下，加热低聚乙二醇（1mol）到100℃，缓慢滴加二氟苯基环氧乙烷（1.1mol），2小时内滴完，反应约4h后即可得到目标的含氟非离子表面活性剂，用酸化的去离子水pH:3~4在80℃条件下洗涤处理，产品过滤后在105℃的真空条件下干燥3小时，即可得到目标氟的非离子表面活性剂；本专利技术进一步提供了一种OLED掩膜版用的清洗剂，以质量百分含量计，其组成如下：醇醚类溶剂20%~50%；极性非质子溶剂20%~50%；含氟的非离子表面活性剂1%~10%；去离子水10%~30%；总质量分数之和为100%。具体地，所述玻璃基板环保水基清洗液的组成为如下1）-6）中任一种：1）醇醚类溶剂30%~45%；极性非质子溶剂20%~50%；含氟的非离子表面活性剂1%~10%；去离子水；10%~30%；总质量分数之和为100%。2）醇醚类溶剂20%~50%；极性非质子溶剂30%~50%；含氟的非离子表面活性剂1%~10%；去离子水；10%~30%；总质量分数之和为100%。3）醇醚类溶剂20%~50%；极性非质子溶剂20%~50%；含氟的非离子表面活性剂3%~8%；去离子水；10%~30%；总质量分数之和为100%。4）醇醚类溶剂20%~50%；极性非质子溶剂20%~50%；含氟的非离子表面活性剂1%~10%；去离子水20%~25%；总质量分数之和为100%。5）醇醚类溶剂30%~40%；极性非质子溶剂20%~40%；含氟的非离子表面活性剂1%~10%；去离子水10%~30%；总质量分数之和为100%。6）醇醚类溶剂30%~50%；极性非质子溶剂25%~50%；含氟的非离子表面活性剂1%~10%；去离子水15%~25%；总质量分数之和为100%。上述的OLED掩膜版用的清洗剂中，所述醇醚类溶剂是选自由以下化合物组成的组中的一种：二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚，乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、二丙二醇单甲醚，其中优选丙二醇甲醚和二乙二醇丁醚。所述醇醚类溶剂对RGB光色染料有较好的溶解力，并且可以降低悬浮状态的光色染料微小颗粒与FMM之间的张力，有效降低光色染料的二次附着，有利于后段的水洗清洗过程。上述的OLED掩膜版用的清洗剂中，所述极性非质子溶剂选自二氧六环（Diox）、四氢糠醇（THFA）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）、单甲基甲酰胺（NMF）、二甲基甲酰胺（DMF）、二甲基咪唑啉酮（DMI）任一种或任两种的组合。其中优选沸点较高的四氢糠醇和二甲基咪唑啉酮。所述的极性非质子溶剂对RGB光色染料有极为优秀的溶解能力，同时又具备出色是水溶性，有较高的沸点，能够保持清洗剂体系稳定性，提高清洗液可靠性以及后段易漂洗性。上述的OLED掩膜版用的清洗剂中，所述含氟的非离子表面活性剂为式Ⅰ所示含氟的非离子表面活性剂：式Ⅰn为8~14之间的自然数，具体地，n为10或12。所述含氟的非离子表面活性剂分子亲水基会和FMM表面形成多点吸附，光色染料在清洗时渗透压使溶液中自由的活性剂分子与已吸附的活性剂分子的亲水基上未吸附的自由部分积极地向FMM与颗粒的接触缝隙间隙深入，有效降提高了溶剂和光色染料分子的溶解作用；同时分子结构中独特的C-F键使的清洗剂体系具有高表面活性、高化学稳定性、高耐热稳定性。上述的OLED掩膜版用的清洗剂中，所述去离子水在25℃时，其电阻率不低于18MΩ。本专利技术提供的OLED掩膜版用的清洗剂，不仅可以有效去除重复的蒸镀过程后在FMM上沉积的小分子RGB光色染料等，而且清洗剂体系稳定性强，可以在较高温度条件下进行清洗，提高清洗效率，同时具有较高的可靠性，不会对FMM产生腐蚀。同时采用本专利技术清洗液清洗FMM的方法简单，清洗效果优异。本专利技术为了满足对FMM表面的清洁要求，还提供一种上述OLED掩膜版用的清洗剂的清洗方法（如图1所示），该清洗方法的整个清洗过程是借助超声波清洗机完成的，所述的清洗方法步骤中包括：1、清洗剂一次清洗：将FMM固定在清洗架上，放入添加清洗剂的超声波清洗机中，加热至50~60℃，超声频率60KHz，浸泡清洗10分钟。2、清洗剂二次清洗：将固定在清洗架上的FMM，放入第二个添加清洗剂的超声清洗槽中，同样加热至50~60℃，超声频率60KHz，浸泡清洗10分钟。3、去离子水一次清洗：将固定在清洗架上的FMM，放入第三个添加去离子水的超声清洗槽中，加热至35~45℃，超声频率60KHz，浸泡清洗5分本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种OLED掩膜版用的清洗剂，其特征在于：以质量百分含量计，其组成如下：/n醇醚类溶剂 20%~50%；/n极性非质子溶剂 20%~50%；/n含氟的非离子表面活性剂 1%~10%；/n去离子水 10%~30%；/n总质量分数之和为100%。/n

【技术特征摘要】
1.一种OLED掩膜版用的清洗剂，其特征在于：以质量百分含量计，其组成如下：
醇醚类溶剂20%~50%；
极性非质子溶剂20%~50%；
含氟的非离子表面活性剂1%~10%；
去离子水10%~30%；
总质量分数之和为100%。


2.根据权利要求1所述的OLED掩膜版用的清洗剂，其特征在于：所述含氟的非离子表面活性剂，其结构式如式Ⅰ所示；



式Ⅰ，
n为8~14之间的自然数。


3.根据权利要求2所述的OLED掩膜版用的清洗剂，其特征在于：具体地，n为10或12。


4.根据权利要求1所述的OLED掩膜版用的清洗剂，其特征在于：所述醇醚类溶剂是选自由以下化合物组成的组中的一种：二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚，乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、二丙二醇单甲醚。


5.根据权利要求4所述的OLED掩膜版用的清洗剂，其特征在于：所述醇醚类溶剂为丙二醇甲醚或二乙二醇丁醚。


6.根据权利要求1所述的OLED掩膜版用的清洗剂，其特征在于：所述的极性非质子溶剂选自二氧六环Diox、四氢糠醇THFA、N-甲基吡咯烷酮NMP、单甲基甲酰胺NMF、二甲基甲酰胺DMF、二甲基咪唑啉酮DMI中的...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘小勇，田博，颜如彩，
申请(专利权)人：福建省佑达环保材料有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35