紫外线响应型薄膜光催化剂及其应用制造技术

本发明专利技术提供紫外线响应型薄膜光催化剂及其应用，本发明专利技术涉及形成薄膜的二氧化钛光催化剂的晶体尺寸为５ｎｍ～５０ｎｍ，吸光波长峰在２００ｎｍ～３００ｎｍ的区域内，膜厚为０．１～１．０微米的透明薄膜二氧化钛光催化剂，上述光催化剂的特征在于：形成薄膜的二氧化钛的晶体形状是纺锤形晶体和立方形晶体的混合状态，本发明专利技术涉及一种过滤器，其特征在于：作为基材，使用以碳化硅（ＳｉＣ）、非晶态二氧化硅（ＳｉＯ↓［２］）或二氧化硅作为主要成分的无机纸或者以活性炭、沸石或海泡石作为主要成分的无机纸，以及本发明专利技术涉及一种空气除菌净化装置，其特征在于：使上述过滤器和杀菌紫外线灯组合。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
透明薄膜二氧化钛光催化剂，其中，形成薄膜的二氧化钛光催化剂的晶体尺寸为５ｎｍ～５０ｎｍ，吸光波长峰在２００ｎｍ～３００ｎｍ的区域内，膜厚为０．１～１．０微米。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：垰田博史，加藤薰一，
申请(专利权)人：株式会社光触媒研究所，
类型：发明
国别省市：JP[]