一种应用于半导体废气处理设备的结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种应用于半导体废气处理设备的结构，涉及半导体行业废气处理技术领域，包括机柜，所述机柜内安装有废气处理系统，所述废气处理系统包括气动三通阀，通过设置等离子体火炬、反应腔、循环水箱和水洗塔，实现废气的处理，通过设置溢流部一和溢流部二，从而降低经反应腔反应后的气体温度，对有污垢的水洗塔塔壁进行水洗，通过在上层水洗塔上设置新风组合件，使得对上层水洗塔进行通风，减少出口水气过多，本实用新型专利技术为半导体废气处理提供了一种选择，增加解决半导体废气处理的方案，处理废气安全可靠，范围广效率高。

A structure of semiconductor waste gas treatment equipment

【技术实现步骤摘要】
一种应用于半导体废气处理设备的结构
本技术涉及半导体行业废气处理
，具体涉及一种应用于半导体废气处理设备的结构。
技术介绍
半导体废气多为有毒有害气体，对人体和环境危害严重，随着半导体行业的日益繁荣，产能激增，半导体厂商由于企业内部设施的限制对废气处理设备有更多各类需求，对处理效率有更高要求，现有应用于半导体废气处理设备上的方案有多种但各具缺点，因此，技术人员提供了一种应用于半导体废气处理设备的结构，增加解决半导体废气处理的方案，为半导体废气处理提供更多选择。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种应用于半导体废气处理设备的结构，增加解决半导体废气处理的方案，为半导体废气处理提供更多选择。一种应用于半导体废气处理设备的结构，包括机柜，所述机柜内安装有废气处理系统，所述废气处理系统包括气动三通阀，所述气动三通阀下端连接对废气进行第一步净化的反应腔，所述反应腔上端连接将废气进行燃烧的等离子体火炬且其下端设有对废气进行第二步净化的循环水箱，所述循环水箱连接对废气进行第三步净化的水洗塔，所述循环水箱上设有水泵，所述水泵连接有循环水管，所述循环水管通过水管连接水洗塔上的水管连接头。优选的，所述反应腔下端卡箍连接溢流部一，所述溢流部一下端连接循环水箱，所述溢流部一包括与反应腔下端连接的溢流腔一，所述溢流腔一套接于溢流管外且其侧面设有水流入口一，所述水流入口一连接车间自来水源。优选的，所述水洗塔上端设有溢流部二，所述溢流部二包括直径相同的上连接件和下连接件，所述上连接件和下连接件外套接溢流腔二且其端面之间设有溢流口，所述溢流腔二上连接有水流入口二，所述水流入口二连接车间自来水源。优选的，所述溢流部二上卡箍连接上层水洗塔，所述上层水洗塔上设有套筒，所述套筒外端口设有连接件一，所述连接件一上安装有给上层水洗塔通风的新风组合件。优选的，所述新风组合件包括与连接件一螺钉连接的连接件二，所述连接件二外设有四个沿其轴线呈环形排列的支撑柱，所述支撑柱另一端连接底板，所述底板上设有安装板和气缸，所述气缸的活塞杆末端穿过底板并连接通风件，所述通风件套于连接件二、连接件一和套筒内，所述通风件上设有数个进风孔。本技术的优点在于：通过设置等离子体火炬、反应腔、循环水箱和水洗塔，实现废气的处理，通过设置溢流部一和溢流部二，从而降低经反应腔反应后的气体温度，对有污垢的水洗塔塔壁进行水洗，通过在上层水洗塔上设置新风组合件，使得对上层水洗塔进行通风，减少出口水气过多，本技术为半导体废气处理提供了一种选择，增加解决半导体废气处理的方案，处理废气安全可靠，范围广效率高。附图说明图1为本技术的结构示意图。图2为本技术中废气处理系统的结构示意图。图3为本技术中溢流部二的结构示意图。图4为本技术中溢流部二的各零件结构示意图。图5为本技术中上层水洗塔的结构示意图。图6为本技术中新风组合件的结构示意图。图7为本技术中通风件的结构示意图。图8为本技术中溢流部一的结构示意图。其中，1-机柜，2-气动三通阀，3-反应腔，4-等离子体火炬，5-循环水箱，6-水洗塔，7-水泵，8-循环水管，9-水管连接头，10-溢流部一，11-溢流腔一，12-溢流管，13-水流入口一，14-溢流部二，15-上连接件，16-下连接件，17-溢流腔二，18-溢流口，19-水流入口二，20-上层水洗塔，21-套筒，22-连接件一，23-新风组合件，24-连接件二，25-支撑柱，26-底板，27-安装板，28-气缸，29-通风件，30-进风孔。具体实施方式为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。如图1至图8所示，一种应用于半导体废气处理设备的结构，包括机柜1，所述机柜1内安装有废气处理系统，所述废气处理系统包括气动三通阀2，所述气动三通阀2下端连接对废气进行第一步净化的反应腔3，所述反应腔3上端连接将废气进行燃烧的等离子体火炬4且其下端设有对废气进行第二步净化的循环水箱5，所述循环水箱5连接对废气进行第三步净化的水洗塔6，所述循环水箱5上设有水泵7，所述水泵7连接有循环水管8，所述循环水管8通过水管连接水洗塔6上的水管连接头9。在本实施例中，所述反应腔3下端卡箍连接溢流部一10，所述溢流部一10下端连接循环水箱5，所述溢流部一10包括与反应腔3下端连接的溢流腔一11，所述溢流腔一11套接于溢流管12外且其侧面设有水流入口一13，所述水流入口一13连接车间自来水源。所述水洗塔6上端设有溢流部二14，所述溢流部二14包括直径相同的上连接件15和下连接件16，所述上连接件15和下连接件16外套接溢流腔二17且其端面之间设有溢流口18，所述溢流腔二17上连接有水流入口二19，所述水流入口二19连接车间自来水源。此外，所述溢流部二14上卡箍连接上层水洗塔20，所述上层水洗塔20上设有套筒21，所述套筒21外端口设有连接件一22，所述连接件一22上安装有给上层水洗塔20通风的新风组合件23。所述新风组合件23包括与连接件一22螺钉连接的连接件二24，所述连接件二24外设有四个沿其轴线呈环形排列的支撑柱25，所述支撑柱25另一端连接底板26，所述底板26上设有安装板27和气缸28，所述气缸28的活塞杆末端穿过底板26并连接通风件29，所述通风件29套于连接件二24、连接件一22和套筒21内，所述通风件29上设有数个进风孔30。工作过程及原理：本装置配合半导体行业废气处理车间使用，废气通过等离子体火炬4将废气燃烧，高压直流电电离气体成离子浆从等离子体火炬4的火炬口喷出，再经反应腔3、循环水箱5和水洗塔6对废气依次进行第一步净化、第二步净化、第三步净化后排到车间排气管，反应腔3反应废气隔绝内部高温，净化效果加强，本装置中不同于传统单层水洗塔，而是由上层水洗塔20、水洗塔6组成，进一步降低反应后气体温度且除去反应后气体内的有害气体，通过水管连接头9连接循环水箱5的水使得废气洗涤降温加强，且维护方便，通过给溢流部一10、溢流部二14的水流入口一13、水流入口二19连接车间自来水源，自来水进入溢流腔一11和溢流腔二17，流入溢流管12和下连接件16、水洗塔6的内壁，从而降低经反应腔3反应后的气体温度，对有污垢的水洗塔6塔壁进行水洗，通过在上层水洗塔20上设置新风组合件23，使得对上层水洗塔20进行通风，减少出口水气过多，使用新风组合件23时，通过启动气缸28，使得气缸28的活塞杆末端连接的通风件29沿套筒21轴向运动，当向后拉动活塞杆时，通风件29部分被拉出连接件二24外，从而使得外界空气从进风孔30进入通风件29内，再向左推动活塞杆时，通风件29末端置于套筒21内，将外界空气带入上层水洗塔20从而进行通风，本装置中，通风件29与连接件二24间连接有挡圈。基于上述，本技术通过设置等离子体火炬4、反应腔3、循环水箱5和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种应用于半导体废气处理设备的结构，其特征在于，包括机柜(1)，所述机柜(1)内安装有废气处理系统，所述废气处理系统包括气动三通阀(2)，所述气动三通阀(2)下端连接对废气进行第一步净化的反应腔(3)，所述反应腔(3)上端连接将废气进行燃烧的等离子体火炬(4)且其下端设有对废气进行第二步净化的循环水箱(5)，所述循环水箱(5)连接对废气进行第三步净化的水洗塔(6)，所述循环水箱(5)上设有水泵(7)，所述水泵(7)连接有循环水管(8)，所述循环水管(8)通过水管连接水洗塔(6)上的水管连接头(9)。/n

【技术特征摘要】
1.一种应用于半导体废气处理设备的结构，其特征在于，包括机柜(1)，所述机柜(1)内安装有废气处理系统，所述废气处理系统包括气动三通阀(2)，所述气动三通阀(2)下端连接对废气进行第一步净化的反应腔(3)，所述反应腔(3)上端连接将废气进行燃烧的等离子体火炬(4)且其下端设有对废气进行第二步净化的循环水箱(5)，所述循环水箱(5)连接对废气进行第三步净化的水洗塔(6)，所述循环水箱(5)上设有水泵(7)，所述水泵(7)连接有循环水管(8)，所述循环水管(8)通过水管连接水洗塔(6)上的水管连接头(9)。


2.根据权利要求1所述的一种应用于半导体废气处理设备的结构，其特征在于：所述反应腔(3)下端卡箍连接溢流部一(10)，所述溢流部一(10)下端连接循环水箱(5)，所述溢流部一(10)包括与反应腔(3)下端连接的溢流腔一(11)，所述溢流腔一(11)套接于溢流管(12)外且其侧面设有水流入口一(13)，所述水流入口一(13)连接车间自来水源。


3.根据权利要求2所述的一种应用于半导体废气处理设备的结构，其特征在于：所述水洗塔(6)上端设有溢流部二(14)，所述溢流部二(14)包括直径...

【专利技术属性】
技术研发人员：章文军，杨春水，宁腾飞，陈彦岗，杨春涛，王继飞，张坤，闫萧，蔡传涛，席涛涛，王磊，
申请(专利权)人：安徽京仪自动化装备技术有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34