非破坏检查方法技术

在使用种类不同的多个非破坏检查单元来检查检查对象时，简单并且准确地对齐在该各非破坏检查单元的检测结果中确定的检查对象上的位置彼此。在使用种类不同的多个非破坏检查单元来检查检查对象时，在检查对象(1)上固定地形成在多个非破坏检查单元中的任何一个非破坏检查单元中都能够检测的共用的标记(m1、m2、m3)，之后，通过多个非破坏检查单元中的每一个检测包含标记的检查对象，并以标记为位置基准对照多个非破坏检查单元的检测结果彼此。

Nondestructive inspection method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】非破坏检查方法
本专利技术涉及非破坏检查方法。
技术介绍
有想要使用种类不同的多个非破坏检查单元，来进行检查对象的检查，例如通过X射线拍摄装置(X射线塔尔博特拍摄装置等)和磁场分布测定装置来检查锂离子电池(以下为“LIB”)的情况。通过X射线拍摄，能够知道LIB内部的结构的故障、异物的有无、位置。另外，通过磁场分布测定，能够将LIB内部的电流分布可视化，并能够知道漏电电流的大小、漏电位置。在实际检查中，不单独地以各自的结果判断，需要将双方的检测结果组合多方面地进行判断。例如，存在即使通过X射线拍摄发现了异物，如果其未导致漏电，也认为没问题的情况。或者在有漏电的情况下，存在能够通过该部分的X射线拍摄掌握是什么原因等，能够对双方的检测结果进行组合来多方面地进行判断的情况。在基于种类不同的多个非破坏检查单元的检测结果多方面地进行判断的情况下，即使各个检测结果是单独的，也有样品的正反面、检测时的方向等检测时的检查对象的放置位置、每个装置的坐标的偏移(XY标度、正交度等)等，无法直接比较。在仅用记号笔标注标记等时，有在检测结果中未拍摄/反映标记的情况，若想要包含位置关系对一个检测结果和另一个检测结果进行比较研究，则需要预先校正坐标以在每个装置中成为相同的位置关系，再在检查对象上形成标记，并在各个检查时通过另外的照相机拍摄标记，来校正坐标和位置关系等。在该情况下，有需要校正作业，追加照相机等而导致装置变大型等课题。另外，在如LIB那样进行层压包装的情况下，也有即使在包装的外部标注标记，与内部的电极等的位置关系也会发生偏移的问题。在专利文献1所记载的专利技术中，在一个检查装置中在进行检查之前基于作为被检查物的半导体基板的元件形成区域的外形线条的相互正交的2边、定向平面等外形特征来确定检查对象的位置，并在另一个检查装置中在进行检查之前基于未图示的对位标记来确定检查对象的位置。专利文献1:日本专利第2915025号公报专利文献2:日本特开2017－104202号公报在专利文献1所记载的专利技术中，对于半导体基板，能够对齐在由种类不同的多个非破坏检查单元检测的检测结果的每一个结果中确定的检查对象上的位置彼此。然而，对于如LIB那样层压包装的检查对象而言，外形特征不稳定，而存在在前一个检查到后一个检查之间外形发生变化的可能。另外，在专利文献1所记载的专利技术中，存在任何检查在检查之前都通过照相机拍摄图像等来进行光学搜索，而需要用于在检查前进行位置确定的工序，并且如上述那样因追加照相机等而装置变大型化的课题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于以上的现有技术中的问题而完成的，课题为在使用种类不同的多个非破坏检查单元来检查检查对象时，简单并且准确地对齐在该各非破坏检查单元的检测结果中确定的检查对象上的位置彼此。用于解决以上的课题的技术方案1所记载的专利技术，一种非破坏检查方法，在使用种类不同的多个非破坏检查单元来检查检查对象时，在检查对象上固定地形成有利用上述多个非破坏检查单元中的任意一个非破坏检查单元都能够检测的共用的标记之后，通过上述多个非破坏检查单元中的每一个非破坏检查单元检测包含上述标记的检查对象，以上述标记为位置基准，彼此对照上述多个非破坏检查单元的检测结果。技术方案2所记载的专利技术在技术方案1所记载的非破坏检查方法中，在基于上述多个非破坏检查单元中的一个非破坏检查单元的检测结果确定出特殊位置之后，通过其它的非破坏检查单元集中地检测该特殊位置。技术方案3所记载的专利技术在技术方案1或2所记载的非破坏检查方法中，在上述标记记录有位置基准以外的信息，从上述非破坏检查单元的检测结果中读取该信息。技术方案4所记载的专利技术在技术方案1～3中任一项所记载的非破坏检查方法中，在上述种类不同的多个非破坏检查单元中，包含X射线拍摄单元、磁场分布测定单元、热成像拍摄单元以及硬度测定单元中的任意的2个以上。技术方案5所记载的专利技术在技术方案4所记载的非破坏检查方法中，在上述种类不同的多个非破坏检查单元中，包含作为上述X射线拍摄单元的X射线塔尔博特拍摄装置。技术方案6所记载的专利技术在技术方案1～5中任一项所记载的非破坏检查方法中，在上述种类不同的多个非破坏检查单元中，包含上述磁场分布测定单元，在构成上述标记的原材料中，包含有磁性体。技术方案7所记载的专利技术在技术方案1～5中任一项所记载的非破坏检查方法中，在上述种类不同的多个非破坏检查单元中，包含上述X射线拍摄单元以及上述磁场分布测定单元，在构成上述标记的原材料中，包含有X射线透过性较低的物质以及磁性体。根据本专利技术，在使用种类不同的多个非破坏检查单元来检查检查对象时，能够简单并且准确地对齐在该各非破坏检查单元的检测结果中确定的检查对象上的位置彼此。由此，能够进行基于种类不同的多个非破坏检查单元的检测结果的多方面的判断。附图说明图1A是本专利技术的一个实施方式的非破坏检查方法的标记形成阶段中的检查对象(或者其检测结果)的示意图。图1B是本专利技术的一个实施方式的非破坏检查方法的检查A阶段中的检查对象(或者其检测结果)的示意图。图1C是本专利技术的一个实施方式的非破坏检查方法的检查B阶段中的检查对象(或者其检测结果)的示意图。具体实施方式以下，参照附图对本专利技术的一个实施方式进行说明。以下是本专利技术的一个实施方式并不对本专利技术进行限定。使用种类不同的多个非破坏检查单元来检查检查对象。在种类不同的多个非破坏检查单元中，包含X射线拍摄单元、磁场分布测定单元、热成像拍摄单元以及硬度测定单元中的任意的2个以上。在本实施方式中，以主要使用具备X射线拍摄单元的X射线拍摄装置、和具备磁场分布测定单元的磁场分布测定装置的情况为例。X射线拍摄装置和磁场分布测定装置是独立装置，为了利用这些装置进行检查，检查对象在两装置间移动，所以为检查对象的放置位置相对于各装置的原点坐标不恒定的状况。在制造成为检查对象1的产品(例如上述的LIB)的阶段，在检查对象1上通过打印等固定地形成能够通过检查A、检查B检测的标记m1、m2、m3(图1A)，之后进行检查A(图1B)，接着进行检查B(图1C)。例如，作为检查A通过X射线拍摄装置进行检测，作为检查B通过磁场分布测定装置进行检测。在该情况下，作为构成标记的原材料，应用含有X射线透过性较低的物质以及磁性体的原材料。例如在标记的打印中，应用含有难以透过X射线的重金属和磁性体的墨。作为X射线拍摄装置，可以应用X射线塔尔博特拍摄装置(参照专利文献2)。根据X射线塔尔博特拍摄装置，由于对比度高于通常的X射线检查，所以能够将X射线透过性较低的物质和磁性体设为相同物质。但是，一般而言，将X射线透过性较低的物质和磁性体设为不同的物质，能够选择各自的性质较高的物质，而能够提高各自的检测性。因此，在应用X射线塔尔博特拍摄装置的情况下，也可以将X射线透过性较低的物质和磁性体设为不同的物质。此外，作为安装于磁场分布测定装置的磁传感器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种非破坏检查方法，其中，/n在使用种类不同的多个非破坏检查单元来检查检查对象时，/n在检查对象上固定地形成利用上述多个非破坏检查单元中的任何一个非破坏检查单元都能够检测的共用的标记之后，/n通过上述多个非破坏检查单元的每一个非破坏检查单元检测包含上述标记的检查对象，/n以上述标记为位置基准，彼此对照上述多个非破坏检查单元的检测结果。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170919 JP 2017-1784971.一种非破坏检查方法，其中，
在使用种类不同的多个非破坏检查单元来检查检查对象时，
在检查对象上固定地形成利用上述多个非破坏检查单元中的任何一个非破坏检查单元都能够检测的共用的标记之后，
通过上述多个非破坏检查单元的每一个非破坏检查单元检测包含上述标记的检查对象，
以上述标记为位置基准，彼此对照上述多个非破坏检查单元的检测结果。


2.根据权利要求1所述的非破坏检查方法，其中，
在基于上述多个非破坏检查单元中的一个非破坏检查单元的检测结果确定出特殊位置之后，通过其它的非破坏检查单元集中地检测该特殊位置。


3.根据权利要求1或2所述的非破坏检查方法，其中，
在上述标记记录有位置基准以外的信息，从上述非破坏检查单元的检测结果读取该信息。

【专利技术属性】
技术研发人员：今田昌宏，波多野卓史，关根孝二郎，土田匡章，八木司，
申请(专利权)人：柯尼卡美能达株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP