一种蒸镀控制方法及蒸镀控制系统技术方案

本发明专利技术公开了一种蒸镀控制方法及蒸镀控制系统，涉及显示技术领域。在本发明专利技术实施例中，通过在蒸镀控制系统中增加补偿器，可以在确定当前处于更换晶振片的时段时，补偿器对微天平发送的检测信号进行补偿，以使蒸镀控制器可以根据补偿后的检测信号，控制蒸发部件中待蒸镀材料当前的实际蒸发速率，与更换晶振片之前待蒸镀材料的实际蒸发速率相同，避免了因晶振片的更换而引起实际蒸发速率的波动，提高了在晶振片的更换过程中待蒸镀材料的实际蒸发速率的稳定性，从而提高蒸镀工艺的生产效率。

A control method and system of evaporation and plating

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀控制方法及蒸镀控制系统
本专利技术涉及显示
，尤指一种蒸镀控制方法及蒸镀控制系统。
技术介绍
为了满足各种显示装置的需求，以及实现量产效率最大化，通常使用基于大面积玻璃的量产工艺，在制作过程中最重要的工艺为有机薄膜及无机薄膜的蒸镀工艺，如真空蒸镀工艺，在该种蒸镀工艺中，通常是将待蒸镀材料放置在坩埚中，通过发热丝加热使得待蒸镀材料产生热蒸发，从而蒸发到基板上形成薄膜层。其中，在蒸镀过程中，待蒸镀材料的实际蒸发速率的稳定性，是评价蒸镀工艺的一项重要指标。目前，在蒸镀工艺中，通常采用石英晶体微天平(QuartzCrystalMicrobalance,QCM)检测实际蒸发速率。石英晶体微天平中包含用于监控实际蒸发速率的晶振片，晶振片具有自有振动频率；当待蒸镀材料沉积在晶振片上时，会降低晶振片的振动频率，通过振动频率的变化，可以反映出待蒸镀材料的实际蒸发速率。在实际使用过程中，每个晶振片均具有一定的使用寿命，所以一般情况下采用包含有多个晶振片的QCM(即多头QCM)，以提高蒸镀工艺的效率。然而，在一个晶振片使用完毕切换至另一个晶振片时，待蒸镀材料的实际蒸发速率是保持不变的，但因为晶振片本身存在的差异，使得晶振片在切换前后生成的检测蒸发速率出现明显差异，这种差异会造成蒸镀控制系统误判而导致实际蒸发速率发生波动，从而降低稳定性。基于此，如何提高在晶振片的更换过程中待蒸镀材料的实际蒸发速率的稳定性，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种蒸镀控制方法及蒸镀控制系统，用以提高在晶振片的更换过程中待蒸镀材料的实际蒸发速率的稳定性。第一方面，本专利技术实施例提供了一种蒸镀控制系统，包括：蒸镀控制器、以及分别与所述蒸镀控制器电连接的蒸发部件和微天平；所述蒸发部件中设置有待蒸镀材料；所述微天平包括多个晶振片；所述蒸镀控制系统还包括：连接于所述微天平与所述蒸镀控制器之间的补偿器，以及分别与所述补偿器和所述微天平电连接的计算机；所述微天平，用于通过所述晶振片检测到所述待蒸镀材料的实际蒸发速率后生成检测蒸发速率，并将用于表示所述检测蒸发速率的检测信号发送至所述补偿器；所述补偿器，用于根据接收到的所述计算机发送的晶振片更换信号，确定更换晶振片的时段；在确定当前处于更换晶振片的时段时，对当前接收到的检测信号进行补偿后发送至所述蒸镀控制器，以使所述蒸镀控制器控制所述蒸发部件中所述待蒸镀材料当前的实际蒸发速率，与更换晶振片之前所述待蒸镀材料的实际蒸发速率相同。第二方面，本专利技术实施例还提供了一种蒸镀控制方法，采用如本专利技术实施例提供的上述蒸镀控制系统实现；所述方法包括：补偿器在接收到微天平发送的用于表示检测蒸发速率的检测信号时，根据接收到的计算机发送的晶振片更换信号，确定当前是否处于更换晶振片的时段；其中，所述检测蒸发速率为：所述微天平通过晶振片检测到待蒸镀材料的实际蒸发速率后生成的；若是，所述补偿器对当前接收到的检测信号进行补偿后发送至蒸镀控制器；所述蒸镀控制器根据补偿后的检测信号，控制蒸发部件中所述待蒸镀材料的当前实际蒸发速率，与更换晶振片之前所述待蒸镀材料的实际蒸发速率相同。本专利技术有益效果如下：本专利技术实施例提供的一种蒸镀控制方法及蒸镀控制系统，通过在蒸镀控制系统中增加补偿器，可以在确定当前处于更换晶振片的时段时，补偿器对微天平发送的检测信号进行补偿，以使蒸镀控制器可以根据补偿后的检测信号，控制蒸发部件中待蒸镀材料当前的实际蒸发速率，与更换晶振片之前待蒸镀材料的实际蒸发速率相同，避免了因晶振片的更换而引起实际蒸发速率的波动，提高了在晶振片的更换过程中待蒸镀材料的实际蒸发速率的稳定性，从而提高蒸镀工艺的生产效率。附图说明图1为本专利技术实施例中提供的微天平的剖视图；图2为本专利技术实施例中提供的蒸镀控制系统的结构示意图；图3至图5分别为本专利技术实施例中提供的蒸镀控制系统的具体结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的蒸镀控制方法的流程图。具体实施方式下面将结合附图，对本专利技术实施例提供的一种蒸镀控制方法及蒸镀控制系统的具体实施方式进行详细地说明。需要说明的是，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。为了清楚地描述本专利技术实施例，首先，对本专利技术实施例中提及的术语进行解释。1、微天平。本专利技术实施例中提及的微天平可以为石英晶体微天平，英文简写为QCM；其中，微天平可以根据包括的晶振片的个数而划分为单头微天平和多头微天平。顾名思义，单头微天平包括一个晶振片，多头微天平包括多个晶振片。2、实际蒸发速率。本专利技术实施例中提及的实际蒸发速率，可以理解为待蒸镀材料在实际的蒸镀过程中的蒸发速率，该速率可以被微天平中的晶振片监测到。3、检测蒸发速率。本专利技术实施例中提及的检测蒸发速率，可以理解为微天平向补偿器发送的蒸发速率，以反映待蒸镀材料的实际蒸发速率。需要说明的是，微天平中的晶振片性能良好，在连续蒸镀过程中，由于晶振片具有一定的使用寿命，所以需要进行晶振片的更换，以保证蒸镀过程的正常进行。在更换晶振片前后，晶振片相对于蒸发部件的位置需要是固定不变的，只是改变了晶振片而已。具体地，微天平的剖视图如图1所示，包括：密封外罩10、晶振片(斜线填充区域)(20或a)、以及开口30；其中，密封外罩10用于保护处于非开口处的晶振片a免受污染，而开口30的形状可以设置为与晶振片(20或a)的形状相同，如图1所示的圆形，开口30的直径可以设置为大于或等于晶振片(20或a)的直径，以保证晶振片(20或a)被旋转至开口30处时，晶振片(20或a)可以暴露出来且可以在表面沉积待蒸镀材料，以确定检测蒸发速率。而晶振片的更换，可以理解为将标记为20的晶振片从开口30处移开，将标记为a的晶振片旋转至开口30处。为了提高在晶振片的更换过程中待蒸镀材料的实际蒸发速率的稳定性，本专利技术实施例提供了一种蒸镀控制系统，如图2至图5所示，可以包括：蒸镀控制器40、以及分别与蒸镀控制器40电连接的蒸发部件50和微天平60；蒸发部件50中设置有待蒸镀材料51；微天平60包括多个晶振片20；并且，蒸镀控制系统还包括：连接于微天平60与蒸镀控制器40之间的补偿器70，以及分别与补偿器70和微天平60电连接的计算机80；微天平60，用于通过晶振片20检测到待蒸镀材料51的实际蒸发速率S后生成检测蒸发速率J，并将用于表示检测蒸发速率J的检测信号Jx发送至补偿器70；补偿器70，用于根据接收到的计算机80发送的晶振片更换信号，确定更换晶振片20的时段；在确定当前处于更换晶振片20的时段时，对当前接收到的检测信号Jx进行补偿后发送至蒸镀控制器40，以使蒸镀控制器40控制蒸发部件50中待蒸镀材料51当前的实际蒸发速率S，与更换晶振片20之前待蒸镀材料51的实际蒸本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀控制系统，包括：蒸镀控制器、以及分别与所述蒸镀控制器电连接的蒸发部件和微天平；所述蒸发部件中设置有待蒸镀材料；所述微天平包括多个晶振片；其特征在于，所述蒸镀控制系统还包括：连接于所述微天平与所述蒸镀控制器之间的补偿器，以及分别与所述补偿器和所述微天平电连接的计算机；/n所述微天平，用于通过所述晶振片检测到所述待蒸镀材料的实际蒸发速率后生成检测蒸发速率，并将用于表示所述检测蒸发速率的检测信号发送至所述补偿器；/n所述补偿器，用于根据接收到的所述计算机发送的晶振片更换信号，确定更换晶振片的时段；在确定当前处于更换晶振片的时段时，对当前接收到的检测信号进行补偿后发送至所述蒸镀控制器，以使所述蒸镀控制器控制所述蒸发部件中所述待蒸镀材料当前的实际蒸发速率，与更换晶振片之前所述待蒸镀材料的实际蒸发速率相同。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀控制系统，包括：蒸镀控制器、以及分别与所述蒸镀控制器电连接的蒸发部件和微天平；所述蒸发部件中设置有待蒸镀材料；所述微天平包括多个晶振片；其特征在于，所述蒸镀控制系统还包括：连接于所述微天平与所述蒸镀控制器之间的补偿器，以及分别与所述补偿器和所述微天平电连接的计算机；
所述微天平，用于通过所述晶振片检测到所述待蒸镀材料的实际蒸发速率后生成检测蒸发速率，并将用于表示所述检测蒸发速率的检测信号发送至所述补偿器；
所述补偿器，用于根据接收到的所述计算机发送的晶振片更换信号，确定更换晶振片的时段；在确定当前处于更换晶振片的时段时，对当前接收到的检测信号进行补偿后发送至所述蒸镀控制器，以使所述蒸镀控制器控制所述蒸发部件中所述待蒸镀材料当前的实际蒸发速率，与更换晶振片之前所述待蒸镀材料的实际蒸发速率相同。


2.如权利要求1所述的蒸镀控制系统，其特征在于，
所述补偿器，还用于在确定当前未处于更换晶振片的时段时，将接收到的检测信号传输至所述蒸镀控制器，以使所述蒸镀控制器根据所述检测信号，控制所述蒸发部件中所述待蒸镀材料的实际蒸发速率。


3.如权利要求1所述的蒸镀控制系统，其特征在于，所述补偿器，具体用于在接收到所述计算机发送的更换起始信号时，确定晶振片更换开始；在接收到所述计算机发送的更换结束信号时，确定晶振片更换结束；
其中，所述更换起始信号为：所述计算机在确定晶振片更换开始时向所述补偿器发送的，所述更换结束信号为：所述计算机在确定晶振片更换结束时向所述补偿器发送的。


4.如权利要求1所述的蒸镀控制系统，其特征在于，
所述补偿器，具体用于根据晶振片更换前接收到的检测信号，对当前接收到的检测信号进行补偿。


5.如权利要求1所述的蒸镀控制系统，其特征在于，所述补偿器为复杂可编辑逻辑器件或现场可编辑门阵列。


6.如权利要求1-5任一项所述的蒸镀控制系统，其特征在于，所述蒸发部件包括：用于放置所述待蒸镀材料...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘全宝，李承皇，李浩永，曹景博，
申请(专利权)人：合肥欣奕华智能机器有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34