用同位素选择性MS/MS评估MRM峰纯度制造技术

技术编号:24020267 阅读:28 留言:0更新日期:2020-05-02 05:02
感兴趣的化合物的第一MRM母子离子对测量结果中的干扰通过使用包含第一MRM母子离子对中的前体离子的同位素的第二MRM母子离子对来确定。两个母子离子对均包含同一产物离子。测量所述第一MRM母子离子对的第一强度,并且测量所述第二MRM母子离子对的第二强度。计算所述第一强度与所述第二强度的比率。根据第一前体离子和第二前体离子的同位素关系计算所述第一前体离子与所述第二前体离子的量的理论比率。计算所述比率与所述理论比率之差,并将所述差与阈值进行比较。如果所述差小于所述阈值,则将所述第一MRM母子离子对的所述第一强度标识为包含所述感兴趣的化合物的干扰。

Evaluation of MRM peak purity by isotope selective MS / MS

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用同位素选择性MS/MS评估MRM峰纯度相关申请本申请要求于2017年9月29日提交的美国专利申请第62/565,140号的权益,所述美国专利申请的全部内容通过引用并入本文。
本文的教导涉及用于确定通过质谱仪得到的多反应监测(MRM)测量结果是否包含干扰的系统和方法。更具体地,本文的教导涉及用于以下的系统和方法:获得第一前体离子与第一产物离子的第一母子离子对(transition)的第一MRM测量结果;获得作为第一前体离子的同位素的第二前体离子与同一第一产物离子的第二母子离子对的第二MRM测量结果;以及将所述两个测量结果的比率与第一前体离子和第二前体离子的理论同位素比率进行比较以确定第一MRM测量结果是否包含干扰。本文的系统和方法可以结合处理器、控制器或计算机系统(如图1的计算机系统)执行。
技术介绍
在许多应用中,MRM比率是用于评估液相色谱峰——LC峰——的纯度的关键参数。这通常通过以下来执行:监测各自包含每种分析物的不同产物离子的两个或两个以上MRM信号,并将MRM比率与分析物的所获取的标准或数据库进行比较。在此过程中,以单位分辨率(或较低分辨率)将同一前体离子选择用于每个MRM,并且在不同MRM中的每个MRM中使用多个不同的产物离子。在这种情况下,多个MRM测量结果的相关性是确定分析物信号是否纯的关键。这种方法广泛用于小分子,并且近年来还用于肽。这种情况的一个缺点是,其还需获取每种分析物的一组标准。所述标准还必须特定于每个用于说明碰撞诱导解离(CID)可变性的质谱系统。换言之,这种技术依赖于收集用于每个质谱系统的每种分析物的标准样品的测量结果库。因此,需要不依赖于与从标准样品构建的库进行比较的用于确定MRM测量结果中的干扰的系统和方法。
技术实现思路
提供了一种用于确定感兴趣的化合物的MRM母子离子对测量结果是否包含干扰的系统、方法和计算机程序产品。通过计算所述感兴趣的化合物的MRM母子离子对的强度与所述感兴趣的化合物的另一个MRM母子离子对的强度的比率来确定干扰。所述两个MRM母子离子对包含不同的前体离子。一个前体离子是另一前体离子的同位素。两个MRM母子离子对均包含同一产物离子。根据所述前体离子与其同位素的同位素关系计算所述前体离子的量与其同位素的量的理论比率。计算所述比率与所述理论比率之差。将此差与阈值进行比较。如果所述差小于所述阈值,则将所述MRM母子离子对标识为包含所述感兴趣的化合物的干扰。所述系统包含串联质谱仪和处理器。所述串联质谱仪包含离子源装置、滤质器、碎裂装置和质量分析仪。所述串联质谱仪从使所述感兴趣的化合物电离的所述离子源装置接收离子束。所述滤质器适用于产生能够从所述离子束解析前体离子的同位素的质量选择窗口。所述串联质谱仪适用于通过以下测量MRM母子离子对的强度:使用所述滤质器选择所述MRM母子离子对的前体离子;使用所述碎裂装置使所述前体离子碎裂;以及使用所述质量分析仪测量所述MRM母子离子对的产物离子的强度。申请人的教导的这些特征和其它特征在本文进行阐述。附图说明本领域的技术人员应理解,以下所描述的附图仅用于说明目的。附图不旨在以任何方式限制本专利技术教导的范围。图1是展示了本专利技术教导的实施例可以被实施的计算机系统的框图。图2是强度对质荷比(m/z)的示范性曲线图,示出了在常规多反应监测(MRM)中用于选择前体离子的质量选择窗口。图3是强度对m/z的示范性曲线图,示出了在常规MRM中用于监测所选前体离子的特定产物离子的质量窗口。图4是强度对时间的示范性曲线图,示出了由经一系列保留时间得到的多个MRM测量结果形成的LC峰。图5是强度对m/z的示范性曲线图,示出了同一所选前体离子的两个不同产物离子的质量窗口,以及针对两个单独的MRM测得的两个MRM产物离子强度。图6是强度对m/z的示范性曲线图,示出了根据各个实施例的用于选择在两个不同的MRM母子离子对中使用的同位素前体离子的两个质量选择窗口。图7是强度对m/z的两个对齐曲线图的视图,示出了根据各个实施例的用于测量由在两个单独的MRM中选择的两个不同同位素前体离子碎裂而来的同一产物离子的质量窗口。图8是根据各个实施例的用于确定感兴趣的化合物的MRM母子离子对测量结果是否包含干扰的系统的示意图。图9是示出了根据各个实施例的用于确定感兴趣的化合物的MRM母子离子对测量结果是否包含干扰的方法的流程图。图10是根据各个实施例的系统的示意图,所述系统包含执行用于确定感兴趣的化合物的MRM母子离子对测量结果是否包含干扰的方法的一或多个不同的软件模块。在详细描述本专利技术教导的一或多个实施例之前,本领域的技术人员应了解,本专利技术教导的应用不限于在以下详细描述中所阐述或在附图中所展示的构造细节、组件布置和步骤布置。而且,应当理解,本文所使用的措辞和术语是出于说明的目的,而不应当被视为是限制性的。具体实施方式计算机实施的系统图1是展示了本专利技术教导的实施例可以被实施的计算机系统100的框图。计算机系统100包含用于传送信息的总线102或其它通信机制,以及与总线102耦接的用于处理信息的处理器104。计算机系统100还包含耦接到总线102的用于存储要由处理器104执行的指令的存储器106,所述存储器可以是随机存取存储器(RAM)或其它动态存储装置。存储器106还可以用于在执行要由处理器104执行的指令期间存储临时变量或其它中间信息。计算机系统100进一步包含耦接到总线102的用于存储处理器104的静态信息和指令的只读存储器(ROM)108或其它静态存储装置。提供了如磁盘或光盘等用于存储信息和指令的存储装置110,并且所述存储装置耦接到总线102。计算机系统100可以通过总线102耦接到如阴极射线管(CRT)或液晶显示器(LCD)等用于向计算机用户显示信息的显示器112。输入装置114(包含字母数字键和其它键)耦接到总线102,用于向处理器104传送信息和命令选择。另一种类型的用户输入装置是如鼠标、轨迹球或光标方向键等用于向处理器104传送方向信息和命令选择并且用于控制显示器112上的光标移动的光标控件116。此输入装置通常具有两条轴线——第一轴线(例如,x)和第二轴线(例如,y)——中的允许装置指定平面中的位置的两个自由度。计算机系统100可以执行本专利技术教导。与本专利技术教导的某些实施方案一致,计算机系统100响应于处理器104执行存储器106中含有的一或多个由一或多个指令构成的序列而提供结果。此类指令可以从如存储装置110等另一个计算机可读媒体读取到存储器106中。存储器106中含有的指令序列的执行使处理器104执行本文所描述的过程。可替代地,可以使用硬连线电路系统代替软件指令实施本专利技术教导,或硬连线电路系统可以与软件指令组合用于实施本专利技术教导。因此,本专利技术教导的实施方案不限于硬件电路系统和软件的任何特定组合。在各个实施例中,计算机系统100可以跨网络连接到一或多个其它计算机本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种用于确定感兴趣的化合物的多反应监测MRM母子离子对测量结果是否包含干扰的系统,所述系统包括:/n离子源装置,所述离子源装置使感兴趣的化合物电离,从而产生由一或多个前体离子构成的离子束;/n串联质谱仪,所述串联质谱仪包含滤质器、碎裂装置和质量分析仪并从所述离子源装置接收所述离子束,其中所述滤质器适用于产生能够从所述离子束解析前体离子的同位素的质量选择窗口,并且其中所述串联质谱仪适用于通过以下测量MRM母子离子对的强度:使用所述滤质器选择所述MRM母子离子对的前体离子;使用所述碎裂装置使所述前体离子碎裂;以及使用所述质量分析仪测量所述MRM母子离子对的产物离子的强度;以及/n处理器,所述处理器与所述串联质谱仪通信,所述处理器:/n指示所述串联质谱仪测量包含第一前体离子和第一产物离子的第一MRM母子离子对的第一强度,/n指示所述串联质谱仪测量包含第二前体离子和与所述第一MRM母子离子对的所述第一产物离子相同的第一产物离子的第二MRM母子离子对的第二强度,其中所述第二前体离子是所述第一前体离子的同位素,/n计算所述第一强度与所述第二强度的比率,/n根据第一前体离子和所述第二前体离子的同位素关系计算所述第一前体离子与所述第二前体离子的量的理论比率,/n计算所述比率与所述理论比率之差,/n将所述差与阈值进行比较,并且/n如果所述差小于所述阈值,则将所述第一MRM母子离子对的所述第一强度标识为包含所述感兴趣的化合物的干扰。/n...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170929 US 62/565,1401.一种用于确定感兴趣的化合物的多反应监测MRM母子离子对测量结果是否包含干扰的系统,所述系统包括:
离子源装置,所述离子源装置使感兴趣的化合物电离,从而产生由一或多个前体离子构成的离子束;
串联质谱仪,所述串联质谱仪包含滤质器、碎裂装置和质量分析仪并从所述离子源装置接收所述离子束,其中所述滤质器适用于产生能够从所述离子束解析前体离子的同位素的质量选择窗口,并且其中所述串联质谱仪适用于通过以下测量MRM母子离子对的强度:使用所述滤质器选择所述MRM母子离子对的前体离子;使用所述碎裂装置使所述前体离子碎裂;以及使用所述质量分析仪测量所述MRM母子离子对的产物离子的强度;以及
处理器,所述处理器与所述串联质谱仪通信,所述处理器:
指示所述串联质谱仪测量包含第一前体离子和第一产物离子的第一MRM母子离子对的第一强度,
指示所述串联质谱仪测量包含第二前体离子和与所述第一MRM母子离子对的所述第一产物离子相同的第一产物离子的第二MRM母子离子对的第二强度,其中所述第二前体离子是所述第一前体离子的同位素,
计算所述第一强度与所述第二强度的比率,
根据第一前体离子和所述第二前体离子的同位素关系计算所述第一前体离子与所述第二前体离子的量的理论比率,
计算所述比率与所述理论比率之差,
将所述差与阈值进行比较,并且
如果所述差小于所述阈值,则将所述第一MRM母子离子对的所述第一强度标识为包含所述感兴趣的化合物的干扰。


2.根据权利要求1所述的系统,其中所述滤质器适用于产生宽度小于0.2m/z的质量选择窗口。


3.根据权利要求1所述的系统,其中所述滤质器适用于产生宽度小于0.15m/z的质量选择窗口。


4.根据权利要求1所述的系统,其中所述滤质器包括四极杆。


5.根据权利要求1所述的系统,其中所述滤质器包括离子阱。


6.根据权利要求1所述的系统,其中所述滤质器包括陷波滤波器。


7.根据权利要求1所述的系统,其中所述滤质器包括双曲杆组。


8.一种用于确定感兴趣的化合物的多反应监测MRM母子离子对测量结果是否包含干扰的方法,所述方法包括:
指示串联质谱仪使用处理器从离子束测量感兴趣的化合物的包含第一前体离子和第一产物离子的第一MRM母子离子对的第一强度,
其中所述串联质谱仪包含滤质器、碎裂装置和质量分析仪并从离子源装置接收所述离子束,其中所述滤质器适用于产生能够从所述离子束解析前体离子的同位素的质量选择窗口,其中所述串联质谱仪适用于通过以下测量MRM母子离子对的强度:使用所述滤质器选择所述MRM母子离子对的前体离子;使用所述碎裂装置使所述前体离子碎裂;以及使用所述质量分析仪测量所述MRM母子离子对的产物离子的强度,并且其中所述离子束由使所述感兴趣的化合物电离的离子源装置产生;
指示所述串联质谱仪使用所述处理器从所述离子束测量所述感兴趣的化合物的包含第二前体离子和与所述第一M...

【专利技术属性】
技术研发人员:Y·勒布朗
申请(专利权)人:DH科技发展私人贸易有限公司
类型:发明
国别省市:新加坡;SG

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