稳定的量子点挤出膜制造技术

技术编号:24018320 阅读:33 留言:0更新日期:2020-05-02 04:16
一种包括至少一个挤出的聚合物层的量子点膜,所述至少一个挤出的聚合物层包括多个稳定的量子点。所述稳定的量子点可以包括下列中的一个或多个:围绕多个稳定的量子点中的每一个的封装,所述封装包括有机材料或无机材料;多个配体,其具有约5纳米(nm)至约200nm的长度;多壳结构;壳,其具有约1至约20nm的厚度;和浓度梯度量子点。

Stable quantum dot extrusion film

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】稳定的量子点挤出膜
本公开内容涉及包括量子点的挤出膜,并且更具体地涉及包括稳定的量子点的挤出膜,当挤出时维持该膜的光学特性。
技术介绍
常规的量子点(QD)膜包括位于两个阻挡膜层之间的量子点层。在图1中图解了示例性的常规QD膜100,该膜100包括包含多个量子点的量子点层110,量子点可以包括例如红色量子点120和绿色量子点130。在量子点层110的每一侧上的阻挡膜层140包括无机阻挡层150和基底160(比如聚对苯二甲酸乙二醇酯)。阻挡膜层140可以任选地包括提供量子点层110和阻挡膜层140之间的粘附力的粘合剂/顶部涂层170,和可包括纹理特征的扩散层180。在常规的QD膜100中的多个层中的每个通常具有不同的折射率,这导致量子点层110中的多个量子点120、130的光学特性的大量损失。阻挡膜层140保护量子点120、130,量子点120、130可以容易地通过暴露于氧气和水分而被损坏。通常使用在膜金属化领域中采用的技术比如溅射、蒸发、化学气相沉积、等离子体沉积、原子层沉积、镀覆等形成第一(底部)阻挡膜层140。第二(顶部)阻挡膜层140被层压到量子点层110上。每个阻挡膜层140必须足够厚以防止在卷对卷或层压制造过程中起皱,增加QD膜100的成本,并不利地影响量子点120、130的光学特性。常规的阻挡膜材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)和氧化物,比如氧化硅、金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物和金属氮氧化物。阻挡膜材料也比标准膜材料更昂贵。因此,QD膜的成本较高,并且由于阻挡膜的厚度使得其难以将QD膜的厚度减小到低于100微米(μm),所以QD膜不能容易地适应于移动应用。此外,当包括阻挡膜时,因为阻挡膜的透明度不大于约93%(在430和650纳米(nm)之间),QD膜的光学光路更长,这导致光学特性比如量子产率(QY)和亮度下降。减小QD膜厚度将为手机和平板电脑制造商提供设计自由度,该制造商可以使用获得的空间来提供其他功能和/或增加电池容量。本公开内容的方面解决了这些和其他缺点。附图说明在不一定按比例绘制的附图中,在不同的视图中相同的数字可以描述相似的部件。具有不同字母后缀的相同数字可以表示相似部件的不同实例。附图通过示例而非限制的方式一般地示出了本文件中讨论的各个方面。图1是现有技术量子点膜的侧视图。图2A和2B是根据本公开内容的方面的量子点膜的侧视图。图3A和3B是根据本公开内容的方面的量子点膜的侧视图。图4A至4D是根据本公开内容的方面的量子点膜的侧视图。
技术实现思路
本公开内容的方面涉及包括至少一个挤出的聚合物层的量子点膜,至少一个挤出的聚合物层包括多个稳定的量子点。稳定的量子点可以包括下列中的一个或多个:围绕多个稳定的量子点中的每一个的封装,该封装包括有机材料或无机材料;多个配体,其具有约5纳米(nm)至约200nm的长度;多壳结构;壳,其具有约1至约20nm的厚度;和浓度梯度量子点。本公开内容的方面进一步涉及制造量子点膜的方法,该方法包括将至少一个聚合物层挤出为膜。至少一个聚合物层包括多个稳定的量子点,该稳定的量子点包括下列中的一个或多个:围绕多个稳定的量子点中的每一个的封装,该封装包括有机材料或无机材料;多个配体,其具有约5纳米(nm)至约200nm的长度;多壳结构;壳,其具有约1至约20nm的厚度;和浓度梯度量子点。具体实施方式通过参考本公开内容的以下详细描述和其中包括的实例可以更容易地理解本公开内容。在各个方面中,本公开内容涉及包括至少一个挤出的聚合物层的量子点膜,该至少一个挤出的聚合物层包括多个稳定的量子点。该稳定的量子点可以包括下列中的一个或多个:围绕多个稳定的量子点中的每一个的封装,该封装包括有机材料或无机材料;多个配体,其具有约5纳米(nm)至约200nm的长度;多壳结构;壳,其具有约1至约20nm的厚度;和浓度梯度量子点。在公开和描述本专利技术的化合物、组合物、制品、系统、装置和/或方法之前,应理解的是,除非另有说明,否则它们不限于特定的合成方法,或除非另有说明,否则不限于特定的试剂,当然可以有所不同。还应理解,本文所使用的术语仅出于描述特定方面的目的,并且不旨在是限制性的。本公开内容涵盖本公开内容的要素的各种组合,例如,来自从属于同一独立权利要求的从属权利要求的要素的组合。此外,应该理解,除非另有明确说明,否则绝不意图将本文阐述的任何方法解释为要求其步骤以特定顺序执行。因此,在方法权利要求没有实际列举其步骤要遵循的顺序的情况下,或者在权利要求书或说明书中没有特别说明步骤应限于特定顺序的情况下,绝不意指在任何方面推断该顺序。这适用于任何可能的非表达的解释基础,包括:关于步骤安排或操作流程的逻辑问题;源自语法组织或标点的简单含义;以及说明书中描述的方面的数量或类型。本文提及的所有出版物通过引用公开内容并入本文,并且描述与引用的出版物有关的方法和/或材料。定义还应理解,本文使用的术语仅出于描述具体方面的目的,并不旨在是限制性的。如在说明书和权利要求书中使用的,术语“包括(comprising)”可以包括“由……组成(consistingof)”和“基本上由……组成(consistingessentiallyof)”的实施方式。除非另有定义,否则本文使用的所有技术和科学术语具有与本公开内容所属领域的普通技术人员通常所理解的相同含义。在本说明书和权利要求书中,将参考本文定义的许多术语。如说明书和所附权利要求书中所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式“一(a)”、“一(an)”和“所述(the)”包括复数指示物。因此,例如,提及包括“量子点”的混合物包括两个或更多个量子点的混合物。如本文所使用,术语“组合”包括共混物、混合物、合金、反应产物等。本文中范围可以表示为从一个值(第一值)到另一个值(第二值)。当表达这样的范围时,在一些方面中该范围包括第一值和第二值中的一个或两个。类似地,当通过使用先行词“约”将值表示为近似值时,应当理解具体值形成另一方面。还将理解的是,每个范围的端点相对于另一端点都是有意义的,并且独立于另一端点。还应该理解,本文公开了许多值,并且除了该值本身以外,每个值在本文中还公开为“约”该具体值。例如,如果公开了值“10”,则也公开了“约10”。还应该理解,还公开了两个具体单位之间的每个单位。例如,如果公开了10和15,则还公开了11、12、13和14。如本文所使用,术语“约”和“在或约”意思是所讨论的量或值可以是指定值,约该指定值或与该指定值大致相同。如本文所使用,通常理解为除非另有说明或推断,否则其为标称值±10%变化。该术语旨在表达相似的值促进权利要求中叙述的等同结果或效果。即,应当理解,数量、尺寸、配方、参数以及其他数量和特征不是并且也不必是精确的,而是可以根据需要是近似的和/或更大或更小的,反映了公差、转换因数、四舍五入、测量误差等,以及本领域技术本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种包括至少一个挤出的聚合物层的量子点膜,所述至少一个挤出的聚合物层包括多个稳定的量子点。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170807 US 15/670,4161.一种包括至少一个挤出的聚合物层的量子点膜,所述至少一个挤出的聚合物层包括多个稳定的量子点。


2.根据权利要求1所述的量子点膜,其中所述多个稳定的量子点中的每一个包括下列中的一个或多个:
围绕所述多个稳定的量子点中的每一个的封装,所述封装包括有机材料或无机材料;
多个配体,其具有约5纳米(nm)至约200nm的长度;
多壳结构;
壳,其具有约1至约20nm的厚度;和
浓度梯度量子点。


3.根据权利要求2所述的量子点膜,其中所述多个稳定的量子点中的一个或多个是金属纳米材料或无机纳米材料。


4.根据权利要求2所述的量子点膜,其中所述多个稳定的量子点中的一个或多个是纳米颗粒、纳米纤维、纳米棒或纳米线。


5.根据权利要求2所述的量子点膜,其中所述多个稳定的量子点中的一个或多个具有约1纳米(nm)至约100nm的尺寸。


6.根据权利要求2所述的量子点膜,其中所述多个稳定的量子点是热稳定的,使得所述量子点膜在至少约40摄氏度(℃)的温度下展现出光学特性没有明显下降。


7.根据权利要求2所述的量子点膜,其中所述多个稳定的量子点是空气稳定的,使得当暴露于相对湿度为95%和温度为60℃的空气时,在1000小时内所述量子点膜展现出光学特性没有明显下降。


8.根据权利要求2所述的量子点膜,其中多个稳定的量子点是水分稳定的,使得当暴露于相对湿度为95%和温度为60℃的空气时,在1000小时内所述量子点膜展现出光学特性没有明显下降。


9.根据权利要求2所述的量子点膜,其中所述多个稳定的量子点是通量稳定的,使得当暴露于350毫瓦每平方厘米(mW/cm2)的加速通量时,在100小时内所述量子点膜展现出光学特性没有明显下降。


10.根据权利要求2所述的量子点膜,其中所述多个稳定的量子点是通量稳定的且热稳定的,使得当在温度为60℃的空气中暴露于350mW/cm2的加速通量时,在100小时内所述量子点膜展现出光学特性没有明显...

【专利技术属性】
技术研发人员:A·F·巴斯塔罗斯S·铉J·W·李周昊
申请(专利权)人:沙特基础工业全球技术公司
类型:发明
国别省市:荷兰;NL

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