具有内嵌膜的透明导电氧化物制造技术

本发明专利技术涉及涂覆制品。用底层涂覆基底，该底层具有由第一高折射率材料制成的第一底层膜。在底层的至少一部分上方的透明导电氧化物层。内嵌膜嵌入在透明导电氧化物层内，其中该内嵌膜包含第二高折射率材料。

Transparent conductive oxide with embedded film

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有内嵌膜的透明导电氧化物专利技术背景专利
本专利技术涉及具有低发射率和中性颜色的涂覆制品。相关技术的描述透明导电氧化物(“TCO”)被施加到基底上从而向涂覆制品提供较低的发射率和较低的方块电阻(sheetresistance)。这使得TCO特别适用于电极(例如太阳能电池)或加热层，活化玻璃单元或屏幕。通常通过真空沉积技术来施加TCO，例如磁控管溅射真空沉积(“MSVD”)。通常，较厚的TCO层提供较低的方块电阻。然而，TCO的厚度影响涂覆制品的颜色。因此，需要调节由TCO层引起的着色效果。还需要最小化TCO层的厚度，以便最小化TCO对涂覆制品的颜色的影响，同时仍保持所需的方块电阻。涂层叠层可能随时间腐蚀。为了防止这种情况，可将保护性覆盖层是加到涂层。例如，美国专利US4,716,086和US4,786,563中公开的二氧化钛膜是对涂层提供耐化学性的保护膜。加拿大专利第2,156,571号中公开的氧化硅，美国专利US5,425,861；US5,344,718；US5,376,455；US5,584,902和US5,532,180；以及PCT国际专利公开第95/29883号中公开的氧化铝和氮化硅也是向涂层提供耐化学性“保护膜”。可以通过在化学上和/或机械上更持久的保护性覆盖层来改进这项技术。
技术实现思路
涂覆制品包括基底，在基底上方的底层。该底层包括第一层。该第一层包含高折射率材料。第二层位于第一层的至少一部分上方。第二层包含低折射率材料。透明导电膜，其位于所述底层的至少一部分上方。该涂覆制品具有至少5Ω/□且至多25Ω/□的方块电阻。该涂覆制品具有a*为至少为-9且至多1以及b*为至少-9且至多1的颜色。任选地，涂覆制品可以具有在透明导电氧化物层的至少一部分上方的保护层。该保护层包括在透明导电氧化物层的至少一部分上方的第一保护膜，以及在第一保护膜的至少一部分上方的第二保护膜。第二保护膜是涂层叠层中的最外膜，并且包括氧化钛和氧化铝的混合物。任选地，保护层可以包括位于第一保护膜和第二保护膜之间的第三保护膜。一种形成涂覆基底的方法，包括提供基底。确认透明导电氧化物并确定该透明导电氧化物的厚度，该厚度将提供至少5Ω/□且至多25Ω/□的方块电阻。确认具有第一底层材料和第二底层材料的底层。确定第一底层和第二底层的厚度，该厚度将为涂覆基底提供a*为至少为-9且至多1以及b*为至少-9且至多1的颜色。使用底层中的两个膜的厚度来调节涂覆基底的颜色。由于颜色受透明导电氧化物膜的厚度影响，因此在确定透明导电氧化物膜的厚度之后调节颜色。将包括第一底层材料的第一底层膜以第一底层膜厚度施加在基底的至少一部分上方。将包括第二底层材料的第二底层膜以第二底层厚度施加在第一底层的至少一部分上方。将具有透明导电氧化物的透明导电氧化物层以所述透明导电氧化物膜的厚度施加在第二底层膜的至少一部分上方。通过以下步骤制备的涂覆制品，其具有a*为至少-9且至多1以及b*为至少-9且至多1的颜色。确认透明导电氧化物并确定该透明导电氧化物的厚度，该厚度将提供至少5Ω/□且至多25Ω/□的方块电阻。确认具有第一底层材料和第二底层材料的底层。确定第一底层和第二底层的厚度，该厚度将为涂覆基底提供具有a*为至少-9且至多1以及b*为至少-9且至多1的颜色。使用底层中的两个膜的厚度来调节涂覆基底的颜色。由于该颜色受透明导电氧化物膜的厚度影响，因此在确定透明导电氧化物膜的厚度之后调节颜色。将包括第一底层材料的第一底层膜以第一底层膜厚度施加在基底的至少一部分上方。将包括第二底层材料的第二底层膜以第二底层厚度施加在第一底层的至少一部分上方。将具有透明导电氧化物的透明导电氧化物层以所述透明导电氧化物膜厚度施加在第二底层膜的至少一部分上方。包括基底的涂覆制品。底层位于基底的至少一部分上方。所述底层包括在所述基底的至少一部分上方的至少第一底层膜，以及在所述第一底层膜的至少一部分上方的任选的第二底层膜。第一底层膜包含第一高折射率材料。任选的第二底层膜包含第一低折射率层。透明导电氧化物层位于第一底层膜或任选的第二底层膜的至少一部分上方。第二高折射率材料嵌入所述透明导电氧化物层内。该涂覆制品具有至少5Ω/□并且至多25Ω/□的方块电阻。与没有第二高折射率材料嵌入透明导电氧化物层内的情况相比，方块电阻高出至少35％。任选地，涂覆制品可以具有在透明导电氧化物层的至少一部分上方的保护层。该保护层包括在透明导电氧化物层的至少一部分上方的第一保护膜，以及在第一保护膜的至少一部分上方的第二保护膜。第二保护膜是涂层叠层中的最外膜，并且包括氧化钛和氧化铝的混合物。任选地，该保护层可以包括位于第一保护膜和第二保护膜之间的第三保护膜。包括基底的涂覆制品。底层位于基底的至少一部分上方。所述底层包括在所述基底的至少一部分上方的至少第一底层膜，以及在所述第一底层膜的至少一部分上方的任选的第二底层膜。第一底层膜包含第一高折射率材料。任选的第二底层膜包含第一低折射率层。第一透明导电氧化物层位于第一底层膜或任选的第二底层膜的至少一部分上方。内嵌膜位于第一透明导电氧化物层的至少一部分上方。内嵌膜具有第二高折射率材料。第二透明导电氧化物层位于第二透明导电氧化物层的至少一部分上方。该涂覆制品具有至少5Ω/□并且至多25Ω/□的方块电阻。与没有内嵌膜的情况相比，方块电阻高出至少35％。任选地，涂覆制品可具有在透明导电氧化物层的至少一部分上方的保护层。该保护层包括在透明导电氧化物层的至少一部分上方的第一保护膜，以及在第一保护膜的至少一部分上方的第二保护膜。第二保护膜是涂层叠层中的最外膜，并且包括氧化钛和氧化铝的混合物。任选地，该保护层可以包括位于第一保护膜和第二保护膜之间的第三保护膜。提供了一种形成涂覆制品的方法；一种增加方块电阻的方法；或一种增加穿过涂覆制品的光透射的方法。提供基底。在基底的至少一部分上方施加底层。在基底的至少一部分上方施加第一底层膜。第一底层膜具有第一高折射率材料。在第一底层膜的至少一部分上方施加任选的第二底层膜。任选的第二底层膜具有第一低折射率层。在第一底层膜或任选的第二底层膜的至少一部分上方施加第一透明导电氧化物层。在第一透明导电氧化物膜的至少一部分上方施加内嵌膜。内嵌膜具有第二高折射率材料。在内嵌膜的至少一部分上方施加第二透明导电氧化物膜。任选地，可以在第二透明导电氧化物膜上方施加保护层。任选的保护层包括在透明导电氧化物层的至少一部分上方的第一保护膜，和在第一保护膜的至少一部分上方的第二保护膜。第二保护膜是涂层叠层中的最外膜，并且包括氧化钛和氧化铝的混合物。任选地，该保护层可以包括位于第一保护膜和第二保护膜之间的第三保护膜。通过以下步骤制造的涂覆制品。提供基底。在基底的至少一部分上方施加底层。在基底的至少一部分上方施加第一底层膜。第一底层膜具有第一高折射率材料。在第一底层膜的至少一部分上方施加任选的第二底层膜。任选的第二底层膜具有第一低折射率层。在第一底层膜或任选的第二底层膜的至少一部分上方施加第一透明导电氧化物层。在第一透明导电氧化本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂覆制品，其包含/n基底，/n在基底的至少一部分上方的底层，该底层包含：/n第一底层膜，其中所述第一底层膜包含第一高折射率材料，和/n在第一底层膜的至少一部分上方的第二底层膜，其中所述第二底层膜包含低折射率材料，并且其中所述第一高折射率材料的折射率大于所述第一低折射率材料的折射率，/n在底层的至少一部分上方的透明导电氧化物层，和/n嵌入透明导电氧化物层内的内嵌膜，其中所述内嵌膜包含第二高折射率材料，并且其中所述第二高折射率材料的折射率大于所述第一低折射率材料的折射率。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170804 US 15/669,4111.一种涂覆制品，其包含
基底，
在基底的至少一部分上方的底层，该底层包含：
第一底层膜，其中所述第一底层膜包含第一高折射率材料，和
在第一底层膜的至少一部分上方的第二底层膜，其中所述第二底层膜包含低折射率材料，并且其中所述第一高折射率材料的折射率大于所述第一低折射率材料的折射率，
在底层的至少一部分上方的透明导电氧化物层，和
嵌入透明导电氧化物层内的内嵌膜，其中所述内嵌膜包含第二高折射率材料，并且其中所述第二高折射率材料的折射率大于所述第一低折射率材料的折射率。


2.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中所述第二高折射率材料包含氧化锡和氧化锌。


3.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中所述内嵌膜具有15nm至30nm范围内的厚度。


4.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中所述透明导电氧化物层包含锡掺杂的氧化铟。


5.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中所述内嵌膜被定位成更靠近所述透明导电氧化物层的底部。


6.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中所述内嵌膜被定位成更靠近所述透明导电氧化物层的顶部。


7.根据权利要求1所述的涂覆制品，其中所述内嵌膜位于所述透明导电氧化物层的大致中间。


8.根据权利要求1所述的涂覆制品，其还包含在所述透明导电氧化物层的至少一部分上方的保护层，其中所述保护层包含：第一保护膜，所述第一保护膜包含氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、氧化锆、氧化硅，它们的合金或它们的混合物；以及在第一保护膜的至少一部分上方的第二保护膜，其中所述第二保护膜包含氧化钛和氧化铝。


9.一种涂覆制品，其包含
基底；
在基底的至少一部分上方的底层，其中该底层包含第一底层膜以及在第一底层膜的至少一部分上方的第二底层膜，其中所述第一底层膜包含第一高折射率材料，其中所述第二底层膜包含第一低折射率材料，其中所述第一高折射率材料的折射率大于所述第一低折射率材料的折射率；
在底层的至少一部分上方的第一透明导电氧化物层，
在第一透明导电氧化物层的至少一部分上方的内嵌膜，其中所述内嵌膜包含第二高折射率材料，并且其中所述第二高折射率材料的折射率大于所述第一低折射率材料的折射率；和
在所述内嵌膜的至...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·甘卓，S·纳拉亚南，D·J·欧肖内西，
申请(专利权)人：维特罗平板玻璃有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国;US