电极膜及其制造方法技术

提供网格图案的不可视性以及图像的可视性优异的电极膜及其制造方法。电极膜的制造方法具备下面的工序：在透明基材的第一主面上依次层叠金属层、黑色光致抗蚀剂层的工序；对上述黑色光致抗蚀剂层局部曝光、显影从而图案化为网格形状的工序；以图案化的上述黑色光致抗蚀剂层作为蚀刻掩模蚀刻上述金属层直至上述金属层变为相比于构成上述黑色光致抗蚀剂层的网格的细线的宽度小的宽度为止，从而将上述金属层加工为金属网格电极的工序；以及对上述黑色光致抗蚀剂层进行加热并使其软化，通过软化的上述黑色光致抗蚀剂层的垂下，不仅被覆构成上述金属网格电极的网格的细线的上表面，还被覆至构成上述金属网格电极的网格的细线的两侧面的工序。

Electrode film and its manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电极膜及其制造方法
本专利技术涉及电极为金属网格的电极膜及其制造方法。
技术介绍
近年，触摸面板作为各种电子设备的输入装置正在普及。在触摸面板中，电阻膜方式、电阻膜方式(ResistiveType)、静电电容方式(CapacitiveType)等各种方式的面板已被实用化。触摸面板通常使用在由玻璃板或聚对苯二甲酸乙二酯膜等构成的透明基材的单侧的面上形成有由ITO(IndiumTinoxide；氧化铟锡)薄膜构成的透明导电膜的结构作为触摸面板用电极构件(专利文献1)。但是，由ITO薄膜构成的透明导电膜在因为使用铟这种稀有金属(稀土类元素)而高价这点、以及为了实现触摸面板的大面积化而电阻(表面电阻率)为高电阻这点，不易与低成本化及大画面化的要求对应。因此，提出在透明基材上取代ITO薄膜的透明导电膜而形成有由金属细线图案构成的金属网格的触摸面板用电极构件(专利文献2)。根据金属网格，能够比ITO薄膜低成本且低电阻。该金属网格电极在作为触摸面板用电极时，与由ITO薄膜构成的透明电极比较，不可视性成为问题。另外，形成网格图案的金属层呈现比较高的反射率，因此外光被漫反射，网格图案可被看到，导致触摸面板装置的图像对比度降低。因此，将黑化层配置于金属层的观察者侧。通过该黑化层使网格图案的不可视性提高，提高图像对比度，能够改善图像的可视性。这样的触摸面板用电极通过首先在透明基材上层叠金属薄膜以及黑化层、接下来利用使用了光刻技术的蚀刻将该金属薄膜以及黑化层图案化，由此制成。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2008-310551号公报专利文献2：日本特开2011-134311号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，即便为具有该黑化层的金属网格电极，也由于仅在利用蚀刻而图案化的金属层的上表面存在黑化层，所以因为金属层露出的侧面，而使网格图案的不可视性以及图像的可视性仍然不足。本专利技术的目的在于提供网格图案的不可视性以及图像的可视性优异的电极膜及其制造方法。用于解决课题的方案下面，作为用于解决课题的方案，对多个方式进行说明。这些方式能够根据需要任意地组合。本专利技术的电极膜具备：透明基材；金属网格电极，设置在透明基材的第一主面上；以及黑色光致抗蚀剂层，设置于构成金属网格电极的网格的细线的上表面及两侧面。在该电极膜中，构成金属网格电极的网格的细线的上表面以及两侧面由黑色光致抗蚀剂层遮蔽。由此，可抑制在成为触摸面板用电极时外光在细线的上表面以及两侧面的漫反射，因此网格图案不被看出，触摸面板的图像对比度提高，能够改善图像的可视性。另外，也可以是，黑色光致抗蚀剂层以均匀的膜厚覆盖细线的上表面，且被形成为从细线的上表面的端至细线的两侧面以具有曲面的方式覆盖。由此，由黑色光致抗蚀剂层覆盖的金属网格电极即黑色网格电极的上表面因其平滑度而看起来均质。另一方面，黑色网格电极的上表面和两侧面不具有角部，其边界不明显，因此从倾斜方向观察电极膜时网格图案不显著。本专利技术的电极膜的制造方法具备下面的工序：在透明基材的第一主面上依次层叠金属层、黑色光致抗蚀剂层的工序；对黑色光致抗蚀剂层局部曝光、显影从而图案化为网格形状的工序；以图案化的黑色光致抗蚀剂层作为蚀刻掩模蚀刻金属层直至上述金属层变为相比于构成黑色光致抗蚀剂层的网格的细线的宽度小的宽度为止，从而将上述金属层加工为金属网格电极的工序；以及对黑色光致抗蚀剂层进行加热并使其软化，通过软化的黑色光致抗蚀剂层的垂下，不仅被覆构成金属网格电极的网格的细线的上表面，还被覆至构成金属网格电极的网格的细线的两侧面的工序。在该制造方法中，蚀刻金属层直至成为比构成黑色光致抗蚀剂层的网格的细线的宽度小的宽度为止，从而加工为金属网格电极，对黑色光致抗蚀剂层进行加热并使其软化。由此，由于软化的黑色光致抗蚀剂层垂下，所以不仅能够由黑色光致抗蚀剂层被覆构成金属网格电极的网格的细线的上表面，还被覆至构成金属网格电极的网格的细线的两侧面。另外，也可以是，在上述的电极膜及其制造方法中，黑色光致抗蚀剂层是具备加热流动性光致抗蚀剂层和在该加热流动性光致抗蚀剂层上设置的加热非流动性光致抗蚀剂层的多层结构，且至少任一层着色。由此，当在制造工序中对黑色光致抗蚀剂层进行加热并使其软化，并通过软化的黑色光致抗蚀剂层的垂下而被覆构成金属网格电极的网格的细线的上表面以及两侧面时，下层的加热流动性光致抗蚀剂层失去加热前的均膜性而流动，相对于此，上层的加热非流动性光致抗蚀剂层原样维持加热前的均膜性而不流动。上层的加热非流动性光致抗蚀剂层原样维持均膜性而被覆金属网格电极的细线的上表面以及两侧面，因此该细线的上表面与侧面的边界亦即所谓的肩部分不会突破黑色光致抗蚀剂层而露出。此外，上层的加热非流动性光致抗蚀剂层垂下而使其前端与透明基材接触后，下层的加热流动性光致抗蚀剂层没有进一步大幅流动。原因是因为通过细线、上层的加热非流动性光致抗蚀剂层和透明基材，来决定下层的加热流动性光致抗蚀剂层的形状。另一方面，下层的加热流动性光致抗蚀剂层由于其流动性而填埋细线的侧面与上层的加热非流动性光致抗蚀剂层之间。细线的侧面通过蚀刻而在表面具有凹凸，但通过下层的加热流动性光致抗蚀剂层的流动，黑色光致抗蚀剂层能够不残留微小的气泡而被覆细线的侧面。作为其结果，黑色光致抗蚀剂层稳固地紧贴于细线的侧面。上述加热非流动性光致抗蚀剂层的软化点相比于上述加热流动性光致抗蚀剂层的软化点高20℃以上较佳。也可以是，在上述黑色光致抗蚀剂层仅由加热流动性光致抗蚀剂层和加热非流动性光致抗蚀剂层这两层构成的情况下，加热流动性光致抗蚀剂层与加热非流动性光致抗蚀剂层的厚度比为1：2～1：4。由此，黑色光致抗蚀剂层整体的均膜性提高。另外，也可以是，在加热流动性光致抗蚀剂层与加热非流动性光致抗蚀剂层之间设置有防锈抗蚀剂层。或者，也可以是，加热流动性光致抗蚀剂层含有防锈剂。根据上述内容，即便来自产品完成后的外部的腐蚀性液体侵入，或者在高温高湿等环境试验下腐蚀也不会发展至金属网格电极，从而能够维持电气特性。另外，也可以是，仅加热非流动性光致抗蚀剂层着色。加热非流动性光致抗蚀剂层维持加热前的均膜性，由此不易在黑色光致抗蚀剂层产生着色不均。因此，可得到更优异的网格图案的不可视性以及图像的可视性。相反，也可以是，仅加热流动性光致抗蚀剂层着色。由此，被覆金属网格电极的细线的两侧面的呈现黑色的层的膜厚变薄，因此能够使从正面观察时的黑色的细线宽度变窄。因此，可得到更优异的网格图案的不可视性以及图像的可视性。专利技术的效果在本专利技术所涉及的电极膜中，通过对黑化层下工夫，能够提高网格图案的不可视性以及图像的可视性。附图说明图1是示出第一实施方式的电极膜的结构的概略剖视图。图2是示出本专利技术的金属网格电极的截面形状的图。图3是示出本专利技术的金属网格电极的图案的概略俯视图。图4是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电极膜，其特征在于，具备：/n透明基材；/n金属网格电极，设置在所述透明基材的第一主面上；以及/n黑色光致抗蚀剂层，设置于构成所述金属网格电极的网格的细线的上表面及两侧面。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170830 JP 2017-1660741.一种电极膜，其特征在于，具备：
透明基材；
金属网格电极，设置在所述透明基材的第一主面上；以及
黑色光致抗蚀剂层，设置于构成所述金属网格电极的网格的细线的上表面及两侧面。


2.根据权利要求1所述的电极膜，其特征在于，
所述黑色光致抗蚀剂层以均匀的膜厚覆盖所述细线的上表面，且被形成为从所述细线的上表面的端至所述细线的两侧面以具有曲面的方式覆盖。


3.根据权利要求1或2所述的电极膜，其特征在于，
所述黑色光致抗蚀剂层是具备加热流动性光致抗蚀剂层和设置在所述加热流动性光致抗蚀剂层上的加热非流动性光致抗蚀剂层的多层结构，且至少任一层着色。


4.根据权利要求3所述的电极膜，其特征在于，
所述加热非流动性光致抗蚀剂层的软化点相比于所述加热流动性光致抗蚀剂层的软化点高20℃以上。


5.根据权利要求3或4所述的电极膜，其特征在于，
所述黑色光致抗蚀剂层仅由所述加热流动性光致抗蚀剂层和所述加热非流动性光致抗蚀剂层这两层构成，两者的厚度比为1：2～1：4。


6.根据权利要求3～5中任一项所述的电极膜，其特征在于，
在所述加热流动性光致抗蚀剂层与所述加热非流动性光致抗蚀剂层之间设置有防锈抗蚀剂层。


7.根据权利要求3～5中任一项所述的电极膜，其特征在于，
所述加热流动性光致抗蚀剂层含有防锈剂。


8.根据权利要求3～7中任一项所述的电极膜，其特征在于，
仅所述加热非流动性光致抗蚀剂层着色。


9.根据权利要求3～7中任一项所述的电极膜，其特征在于，
仅所述加热流动性光致抗蚀剂层着色。


10.一种电极膜的制造方法，其特征在于，具备下面的工序：
在透明基材的第一主面上依...

【专利技术属性】
技术研发人员：面了明，西川和宏，寺谷和臣，坂田喜博，西村刚，砂走孝邦，
申请(专利权)人：NISSHA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP