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固定磨粒磨石以及基板的制造方法技术

技术编号:23894758 阅读:16 留言:0更新日期:2020-04-22 07:59
本发明专利技术提供固定磨粒磨石以及基板的制造方法。本发明专利技术的固定磨粒磨石用于磨削加工处理,其特征在于,所述固定磨粒磨石包含在支撑材料中含有的固定磨粒,所述固定磨粒包含金刚石磨粒颗粒,所述固定磨粒磨石的磨削面处的所述固定磨粒的平均磨粒间距离是80μm~200μm。本发明专利技术的基板的制造方法的特征在于,使用本发明专利技术的固定磨粒磨石对基板的主表面进行磨削。

Manufacturing method of fixed abrasive stone and base plate

【技术实现步骤摘要】
固定磨粒磨石以及基板的制造方法本申请是分案申请,其原申请的申请号为201480053020.3,申请日为2014年09月30日,专利技术名称为“磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法”。
本专利技术涉及搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的磁盘用玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法。
技术介绍
作为搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的信息记录介质的一种,存在磁盘。磁盘是在基板上形成磁性层等薄膜而构成的,作为该基板,过去一直使用铝基板。但是,最近,随着记录的高密度化的要求,与铝基板相比玻璃基板能够使磁头与磁盘之间的间隔变得更窄,因此玻璃基板的所占比例逐渐变高。另外,对玻璃基板表面高精度地进行研磨以使磁头的悬浮高度尽量下降,由此实现记录的高密度化。近年来,对HDD越来越多地要求更大的记录容量化、低价格化,为了实现这样的目的,磁盘用玻璃基板也需要进一步的高品质化、低成本化。如上所述,为了对于记录的高密度化所必须的低飞行高度(悬浮量)化,磁盘表面必须具有高平滑性。为了得到磁盘表面的高平滑性,结果要求具有高平滑性的基板表面,因此需要对玻璃基板表面进行高精度的研磨。为了制作这样的玻璃基板,在磨削加工中进行板厚的调整和降低平坦度(平面度)之后,通过进一步进行研磨处理而降低表面粗糙度或微小起伏,由此实现主表面处的极高的平滑性。另外,以往,在使用游离磨粒的磨削工序(例如专利文献1等)中,提出了基于使用了金刚石抛光垫的固定磨粒的磨削方法(例如专利文献2、专利文献3等)。金刚石抛光垫是使用树脂(例如丙烯系树脂等)等支撑材料将金刚石颗粒或一些金刚石颗粒通过玻璃、陶瓷、金属或者树脂等粘结剂固定的凝聚物固定于片材上的材料。除此之外,也可以是在片材上形成包含金刚石的树脂的层之后,在树脂层上形成槽而制成突起状的材料。需要说明的是,在此所谓的金刚石抛光垫不一定是惯用称呼,在本说明书中为了说明方便而称为“金刚石抛光垫”。对于以往的游离磨粒而言,形状歪斜的磨粒夹杂于定盘与玻璃之间而不均匀地存在,因此在向磨粒施加的负荷不恒定而负荷集中的情况下,定盘表面因铸铁而为低弹性,因此在玻璃上产生较深的裂缝、加工变质层变深、并且玻璃的加工表面粗糙度也变大,因此在后续工序的镜面研磨工序中需要较多的去除量,因此难以削减加工成本。与此相对,在基于使用了金刚石抛光垫的固定磨粒的磨削中,磨粒均匀地存在于片材表面,因此负荷不集中,除此之外因为使用树脂将磨粒固定于片材上,因此即使向磨粒施加负荷,通过将磨粒固定的树脂的高弹性作用,也有可能使加工面的裂缝(加工变质层)变浅、且降低加工表面粗糙度,能够降低对后续工序的负载(加工余量等),且削减加工成本。该磨削加工工序结束后,进行用于获得高精度的平面的镜面研磨加工。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2001-6161号公报专利文献2:日本特开2012-43492号公报专利文献3:日本特开2009-99249号公报专利文献4:日本特开2003-534137号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题如上述所述,根据基于使用了金刚石抛光垫的固定磨粒的磨削方法,虽然能够降低加工面的表面粗糙度,能够降低对之后的镜面研磨工序的负载,且削减玻璃基板的加工成本,但根据本专利技术人的研究发现存在如下所述的课题。以往,在基于固定磨粒的磨削加工中,在要提高磨削加工速度的情况下,而进行提高固定磨粒的密度(参照专利文献2)。但是,根据本专利技术人的研究发现仅提高固定磨粒的密度有时候无法增加加工速度。另外,发现即使使用相同的磨粒密度的金刚石抛光垫也在加工速度方面存在偏差。本专利技术人对该原因进行了研究,发现:在使固定磨粒密度变化的情况下,有时颗粒中的固定磨粒的分散状态变差,此时对各固定磨粒施加的负荷不均匀,尤其在加工初期阶段加工进展不顺利,加工速度降低。特别对于通过浮法等制造的玻璃板来说,在直接进行基于使用了金刚石抛光垫的固定磨粒的磨削加工的情况下,当加工开始时玻璃基板表面是所谓的镜面,因此在加工初期,金刚石磨粒总是滑动而不陷入基板表面,产生无法磨削加工的时间(死区时间),因此显著地产生上述课题。另外,即使磨粒密度相同,也有固定磨粒的分散状态不同的情况,有时会因这些情况而对加工速度带来影响。本专利技术就是为了解决这样的现有课题而完成的,其目的在于提供在基于固定磨粒的磨削加工中能够提高加工速度而进行稳定的磨削加工、且能够制造高品质的玻璃基板的磁盘用玻璃基板的制造方法,以及使用了通过该磁盘用玻璃基板的制造方法获得的玻璃基板的磁盘的制造方法。用于解决课题的方案本专利技术人为了解决上述课题进行了深入研究,结果发现,在固定磨粒磨石的平均磨粒间距离与在使用该固定磨粒磨石对玻璃基板进行磨削加工的情况下的加工速度之间存在相关关系。因此发现,预先求出这样的相关关系,且根据该求出的相关关系选择具有能够获得期望的加工速度的平均磨粒间距离的固定磨粒磨石,使用该选择的固定磨粒磨石,由此能够提高加工速度而进行稳定的磨削加工。还发现特别适合于针对主表面为镜面状的玻璃基板的磨削加工。即,为了解决上述课题,本专利技术具有以下构成。(构成1)一种磁盘用玻璃基板的制造方法,其包括磨削加工处理,该磨削加工处理使用润滑液和在磨削面配备有固定磨粒磨石的定盘对玻璃基板的主表面进行磨削,其特征在于,所述固定磨粒磨石包含在支撑材料中含有的固定磨粒,预先求出所述固定磨粒磨石的磨削面处的所述固定磨粒的平均磨粒间距离与在使用该固定磨粒磨石对所述玻璃基板进行磨削加工的情况下的加工速度的相关关系,根据该求出的相关关系选择具有能够获得期望的加工速度的平均磨粒间距离的固定磨粒磨石,且使用该选择的固定磨粒磨石进行所述磨削加工处理。(构成2)一种磁盘用玻璃基板的制造方法,其包括磨削加工处理,该磨削加工处理使用润滑液和在磨削面上配备有固定磨粒磨石的定盘对玻璃基板的主表面进行磨削,其特征在于,所述固定磨粒磨石包含在支撑材料中含有的固定磨粒,所述固定磨粒磨石的磨削面处的所述固定磨粒的平均磨粒间距离是80μm~200μm。(构成3)如构成1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述平均磨粒间距离是80μm~200μm。(构成4)如构成1~3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述固定磨粒的平均粒径是15μm~50μm。(构成5)如构成1~4所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述固定磨粒包含金刚石磨粒颗粒。(构成6)如构成1~5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述固定磨粒是磨粒颗粒或者将多个磨粒颗粒用粘结剂固定的磨粒凝聚物。(构成7)如构成1~6所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述玻璃基板是当磨削加工开始时主表面为镜面状的玻璃基板。(构成8)如构成1~7所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,加工负荷是50g/cm2~200g/cm2。<本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种固定磨粒磨石,其用于磨削加工处理,其特征在于,/n所述固定磨粒磨石包含在支撑材料中含有的固定磨粒,/n所述固定磨粒包含金刚石磨粒颗粒,/n所述固定磨粒磨石的磨削面处的所述固定磨粒的平均磨粒间距离是80μm~200μm。/n

【技术特征摘要】
20130930 JP 2013-2039901.一种固定磨粒磨石,其用于磨削加工处理,其特征在于,
所述固定磨粒磨石包含在支撑材料中含有的固定磨粒,
所述固定磨粒包含金刚石磨粒颗粒,
所述固定磨粒磨石的磨削面处的所述固定磨粒的平均磨粒间距离是80μm~200μm。


2.如权利要求1所述的固定磨粒磨石,其特征在于,
所述固定磨粒是磨...

【专利技术属性】
技术研发人员:石井智
申请(专利权)人:HOYA株式会社HOYA玻璃磁盘菲律宾公司
类型:发明
国别省市:日本;JP

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