扫描式曝光设备制造技术

本发明专利技术公开了一种扫描式曝光设备，包含：一基座，该基座具有一平台，该平台可摆置一基板与一光罩的组合体以进行一微影制程；一控制电路板；一线形光源，电连接该控制电路板并配置数个发光组件，该数个发光组件可产生一线形准直光，该线形准直光用以执行该微影制程；至少一传动机构，配置于该基座上并连接该控制电路板，该线形光源配置于该至少一传动机构的其中之一上，该至少一传动机构可带动该线形光源进行作动；及至少一线形光侦测器，由数个光敏电阻所构成并电连接该控制电路板，用以侦测该线形光源强度；控制电路板依据线形光源强度补偿数个发光组件的发射强度；据此，可有效解决线形光源可能产生的发光不均匀的技术问题。

Scanning exposure equipment

【技术实现步骤摘要】
扫描式曝光设备
本专利技术是关于一种曝光装置，特别是关于一种在半导体产业中进行微影制程的扫描式曝光设备。
技术介绍
微影制程在半导体产业中是基本配备，而其为半导体产业成本中单一最大成本因素。根据“信息网络工业公司”所发布的评估方法，曝光系统占整个晶圆厂成本的20%。而微影设备主要掌握在Nikon、ASML和SVGL等光学设备厂手中。微影设备当中的曝光设备，目前是采用一次性曝光的方式，借由复杂的光学机构让对位好的光罩与基板进行曝光。这种一次性曝光的方式，由于需要达到光线的准直性需求、一次性(可控制时间长短)以及光罩与基板的紧密贴合，所以在对位机构上以及曝光光学机构上，要求极为严格。也因此，曝光设备的价格，动辄数百万美金。此外，对于不同大小的晶圆或基板来说，就需要不同大小的曝光设备。这也是曝光系统可以占整个晶圆厂成本的20%的主要原因。自半导体工业发展至今，曝光设备的成本始终居高不下，主因在于对曝光设备的光线准直性与定位等要求极高，一般厂商不具有光学设备，无法涉及与开发。由于此一需求强烈，而有相关业者已经着手开发相关技术，例如，中国台湾公开号M535867专利，其揭露了一种扫描式曝光设备，其运用了线形光源，以扫描的方式来制作曝光设备，大幅降低了曝光设备的成本与生产的复杂性。然而，此种采用线形准直光源的技术，面临着一个较大的问题，就是线形准直光源为多个发光二极管或者发光激光二极管所制作而成。而发光二极管或发光激光二极管的单体因生产质量或者任何因素造成其发射功率不均匀时，将可能导致线形准直光源发射的准直光的强度不均匀，进而可能导致曝光的效果不佳，而降低了生产优良率。因此，实有必要针对此种线形扫描式曝光设备可能存在的光源不均匀的问题加以解决，才能有效地提高此种低成本、高效率的线形扫描设备的性价比与产品稳定性。
技术实现思路
为达成上述目的，本专利技术运用配置在第一端点（起始点）的第一线形光敏电阻，来侦测线形光源当中的线形发光二极管当中个别的发光二极管的发光情形，进而掌握其发光强度后，再将其校正至标准的发光强度，即可有效地解决线形光源可能产生的发光不均匀的技术问题。本专利技术提供一种扫描式曝光设备，包含：一基座，该基座具有一平台，该平台可摆置一基板与一光罩的组合体以进行一微影制程；一控制电路板；一线形光源，电连接该控制电路板并配置数个发光组件，该数个发光组件可产生一线形准直光，该线形准直光用以执行该微影制程；至少一传动机构，配置于该基座上并电连接该控制电路板，该线形光源配置于该至少一传动机构的其中之一上，该至少一传动机构可带动该线形光源进行作动；及至少一线形光侦测器，由数个光敏电阻所构成并电连接该控制电路板，用以侦测该线形光源强度；其中，该控制电路板于接收该数个光敏电阻所侦测的该线形光源强度后，依据该线形光源强度补偿该数个发光组件的发射强度。为让本专利技术的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举数个较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。附图说明图1A-1B为本专利技术的扫描式曝光设备的一具体实施例的上视图与侧视图。图1C为本专利技术的扫描式曝光设备的线形光源与线形光侦测器的对应配置示意图。图1D为本专利技术的扫描式曝光设备的控制系统的一实施例的系统功能方块图。图2A-2B为本专利技术的扫描式曝光设备的另一具体实施例的上视图与侧视图。图2C为本专利技术的扫描式曝光设备的控制系统的另一实施例的系统功能方块图。附图中的符号说明：1基座；2传动机构；5a平台；10基板；20光阻层；30光罩；31图案；40线形光源；41线形准直光；42线形发光二极管；421发光二极管；50a传动机构；60控制电路板；61控制单元；64发光二极管驱动电路；70第一线形光侦测器；71第一线形光敏电阻；711光敏电阻；80第二线形光侦测器；81第二线形光敏电阻；811光敏电阻。具体实施方式根据本专利技术的实施例，本专利技术提供了一种扫描式曝光设备，其运用可提供线形准直光的线形光源，再结合扫描技术将线形准直光调整为可扫描整面的准直光，不需要复杂的光学机构，且设备结构简单，可达到大幅降低曝光设备成本的目的。此外，本专利技术运用配置在第一端点（起始点）的第一线形光敏电阻来侦测线形光源当中的线形发光二极管当中个别发光二极管的发光情形，进而掌握其发光强度后，再将其校正至标准的发光强度，即可有效地解决线形光源可能产生的发光不均匀的技术问题。请先参考图1A所示，本专利技术的扫描式曝光设备的一具体实施例的上视图，图1B为图1A中从A方向看进去的侧视图。在图1A、1B中，扫描式曝光设备包含：基座1、控制电路板60、传动机构2、传动机构(3、50a、51)、线形光源40、线形发光二极管42、发光二极管421、第一线形光侦测器70、第一线形光敏电阻71、光敏电阻711。其中基座1具有平台5a，可摆置基板10与光罩30的组合体以进行微影制程，基板10上已形成有光阻层20。传动机构2、50a配置于基座1上并连接控制电路板60，线形光源40配置于传动机构50a上，传动机构50a可带动线形光源40进行作动，其以垂直于线形光源40的轴向方式作动，线形光源40所发出的线形准直光41可以扫描的方式构成面的曝光。线形光源40电连接控制电路板60，并配置线形发光二极管42，线形发光二极管42当中包含了多个发光二极管421，其可分别产生线形准直光41，线形准直光41用以执行微影制程，如图1C所示。线形光源40的制作方式很多，发光组件可采用发光二极管421，而发光二极管421的排列可采用单排发光二极管或者多排发光二极管的方式，并于出光部制作透镜，使发光二极管421的光源形成线形准直光41。其中，控制电路板60控制传动机构50a带动线形光源40移动第一距离，并控制线形光源40于第一距离的移动期间持续产生线形准直光41，以对基板10与光罩30(包括了图案31)的组合体进行至少一次曝光，据以完成微影制程。接着，请参考图1D所示，本专利技术的扫描式曝光设备的控制系统的系统功能方块图，其包含了：控制单元61、发光二极管驱动电路64、线形发光二极管42、传动机构50a、第一线形光敏电阻71等。第一线形光敏电阻71装置于第一线形光侦测器70上，第一线形光侦测器70配置于扫描式曝光设备的第一端点(起始点)，如图1A、1B所示。第一线形光侦测器70由多个光敏电阻711所构成，可侦测线形发光二极管42当中的发光二极管421所发射的线形准直光41。其中，线形准直光41的波长介于280纳米至550纳米之间，例如365纳米、375纳米、385纳米、405纳米、437纳米等，而光敏电阻711所侦测的光源范围也相对应。此外，线形光源40的长度介于5公分至300公分。此外，线形准直光41的波长可介于280纳米至550纳米之间。第一线形光敏电阻71当中的光敏电阻711所侦测到的光强度信息，经控制单元61判断后，可使发光二极管驱动电路64调整线形发光二极管42当中的发光二极管421发光的强度，直到第一线形光敏电阻71的光敏本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种扫描式曝光设备，其特征在于，包含：/n一基座，该基座具有一平台，该平台摆置一基板与一光罩的组合体以进行一微影制程；/n一控制电路板；/n一线形光源，电连接该控制电路板并配置数个发光组件，该数个发光组件产生一线形准直光，该线形准直光用以执行该微影制程；/n至少一传动机构，配置于该基座上并电连接该控制电路板，该线形光源配置于该至少一传动机构的其中之一上，该至少一传动机构带动该线形光源进行作动；及/n至少一线形光侦测器，由数个光敏电阻所构成并电连接该控制电路板，用以侦测该线形光源强度；/n其中，该控制电路板于接收该数个光敏电阻所侦测的该线形光源强度后，依据该线形光源强度补偿该数个发光组件的发射强度。/n

【技术特征摘要】
1.一种扫描式曝光设备，其特征在于，包含：
一基座，该基座具有一平台，该平台摆置一基板与一光罩的组合体以进行一微影制程；
一控制电路板；
一线形光源，电连接该控制电路板并配置数个发光组件，该数个发光组件产生一线形准直光，该线形准直光用以执行该微影制程；
至少一传动机构，配置于该基座上并电连接该控制电路板，该线形光源配置于该至少一传动机构的其中之一上，该至少一传动机构带动该线形光源进行作动；及
至少一线形光侦测器，由数个光敏电阻所构成并电连接该控制电路板，用以侦测该线形光源强度；
其中，该控制电路板于接收该数个光敏电阻所侦测的该线形光源强度后，依据该线形光源强度补偿该数个发光组件的发射强度。

【专利技术属性】
技术研发人员：许铭案，
申请(专利权)人：许铭案，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71