一种高分子分散剂及其应用制造技术

本发明专利技术涉及一种高分子分散剂及其应用，所述高分子分散剂包括结构单元(A)、结构单元(B)和结构单元(C)，所述结构单元(A)和(B)两侧均连接结构单元(C)，结构单元(C)两侧连接结构单元(A)或(B)。本发明专利技术提供的高分子分散剂同时含有上述三种特定结构的结构单元，结构单元(A)具有锚固作用，使分散剂与颜料能紧密结合，配合结构单元(B)和结构单元(C)，三者结合能够促进炭黑在溶剂中的分散，同时提高材料的耐热性能，从而使感光树脂组合物在高温烘烤下能够保持较高的阻抗。

A polymer dispersant and its application

【技术实现步骤摘要】
一种高分子分散剂及其应用
本专利技术涉及液晶显示
，尤其在于提供一种高分子分散剂及其应用。
技术介绍
色滤光片作为液晶显示器的重要部件之一，彩色滤光片上黑矩阵具有更高的阻抗，能够避免各个像素之间的电信号干扰，使得液晶的偏转更加精确，从而提升显示器的显示效果，显示出更鲜明的图像。炭黑作为一种具有导电性的颜料，尽管可以通过对其进行一定的表面处理来提高阻抗，但是制成的涂层在高温烘烤下仍会不可避免地出现部分炭黑粒子团聚的现象，从而导致涂膜阻抗的降低。CN105408816B公开了一种感光性树脂组合物、使用其的永久掩模抗蚀剂、以及具备该永久掩模抗蚀剂的印刷配线板，所述感光性树脂组合物能够形成抗蚀剂形状优异、分辨率优异的图案，除了能够形成耐湿热性、耐回流性、电绝缘性和耐化学镀覆性以外，能够得到耐热性、耐溶剂性、耐化学试剂性和密合性也优异的图案。解决的方法是一种感光性树脂组合物、使用其的永久掩模抗蚀剂和印刷配线板，所述感光性树脂组合物含有酸改性含乙烯基环氧树脂、光聚合引发剂、含氮杂环化合物和光聚合性化合物。上述方案得到的感光树脂组合物虽然具有多项优异的性能，但是经过后烘的高温烘烤之后，其阻抗会明显降低。CN110573963A公开了一种能够热固化的感光性树脂组合物，其含有(A)成分、(B)成分和(C)溶剂和(D)感光剂，(A)成分和(B)成分中的至少一者具有酰胺基。(A)成分：具有下述基团(A1)和(A2)的聚合物，(A1)疏液性基团，(A2)选自羧基和酰胺基中的至少1种基团，(B)成分：具有选自羧基和酰胺基中的至少1种基团的碱溶性树脂。该树脂组合物即使在固化后也维持良好的图像并且即使不进行等离子体处理、UV臭氧处理等，固化膜表面也具有高疏液性，此外残渣少，基板具有高亲液性的固化膜的图像的感光性树脂组合物。但是在高温固化之后，阻抗会出现明显降低的情况，影响其后续的使用效果。因此，本领域亟待开发一种能够在高温烘烤下能保持高阻抗的感光树脂组合物。
技术实现思路
本专利技术的目的之一在于提供一种高分子分散剂，所述高分子分散剂能够促进炭黑的分散，从而使感光树脂组合物在高温烘烤下能够保持较高的阻抗。为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：本专利技术提供一种高分子分散剂，所述高分子分散剂包括结构单元(A)、结构单元(B)和结构单元(C)；所述R1选自-N+Ar3、-NAr2或含有至少两个N的芳胺基团中的任意一种；所述Ar选自C6-C12(C8、C10、C12)芳基；所述R2选自C5-C12(例如C6、C7、C8、C9、C10、C11等)烷基或C5-C12(例如C6、C7、C8、C9、C10、C11等)烷氧基；所述R3和R4各自独立地选自氢原子、卤素原子、C1-C5(例如C2、C3、C4等)烷基或C1-C5(例如C2、C3、C4等)烷氧基中的任意一种；所述结构单元(C)具有如下结构中的任意一种：所述结构单元(A)和(B)两侧均连接结构单元(C)，结构单元(C)两侧连接结构单元(A)或(B)。本专利技术提供了一种高分子分散剂，在结构中同时引入三种特定结构的结构单元，结构单元(A)具有锚固作用，使分散剂与颜料能紧密结合，配合结构单元(B)和结构单元(C)，三者结合能够促进炭黑在溶剂中的分散，同时提高材料的耐热性能，从而使感光树脂组合物在高温烘烤下能够保持较高的阻抗。当结构单元(C)为时，所述高分子分散剂的结构如下：制备方法如下：使在脱水剂N,N-二环己基碳酸二亚胺(DCC)/4-二甲基胺吡啶(DMAP)的作用下进行聚合反应，得到所述高分子分散剂，优选所述聚合物反应的温度为80-140℃。当结构单元(C)为时，所述高分子分散剂的结构如下：制备方法如下：使在脱水剂DCC/DMAP的作用下进行聚合反应，得到所述高分子分散剂，优选所述聚合物反应的温度为80-140℃。当结构单元(C)为时，所述高分子分散剂的结构如下：制备方法如下：使和丙二酸，在脱水剂DCC/DMAP的作用下进行聚合反应，得到所述高分子分散剂，优选所述聚合物反应的温度为80-140℃。优选地，所述结构单元(C)为本专利技术优选该结构能够与结构单元(A)和(B)配合，能够进一步提升材料的耐热性能，从而进一步提高感光树脂在烘烤之后的阻抗。优选地，所述高分子分散剂的重均分子量为10000～40000，例如11000、12000、13000、14000、15000、16000、17000、18000、19000、20000、21000、22000、23000、24000、25000、26000、27000、28000、29000、30000、31000、32000、33000、34000、35000、36000、37000、38000、39000等，优选15000～30000。本专利技术的目的之二在于提供一种炭黑分散液，所述炭黑分散液包括炭黑、目的之一所述的高分子分散剂、第一树脂和溶剂。优选地，所述炭黑分散液中炭黑的质量占比为10-40％，例如11％、12％、13％、14％、15％、16％、17％、18％、19％、20％、21％、22％、23％、24％、25％、26％、27％、28％、29％、30％、31％、32％、33％、34％、35％、36％、37％、38％、39％等。优选地，所述炭黑分散液中高分子分散剂的含量为1-10％，例如2％、3％、4％、5％、6％、7％、8％、9％等。优选地，所述炭黑包括灯黑、乙炔黑、热炭黑、槽法炭黑或炉法黑中的任意一种或至少两种组合。优选地，所述溶剂包括丙二醇单甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇单甲醚、乙二醇甲乙醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇甲乙醚、N-甲基吡咯烷酮或环己酮中的任意一种或至少两种组合。优选地，所述第一树脂包括芴树脂。本专利技术优选在炭黑分散液中加入芴树脂，该树脂与本专利技术的高分子分散剂配合，能够进一步提高炭黑的分散性，从而进一步感光树脂组合物在高温烘烤后的阻抗值。本专利技术的目的之三在于提供一种目的之二所述的炭黑分散液的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：将溶剂、高分子分散剂和第一树脂混合，搅拌，加入炭黑，进行分散处理，得到炭黑分散液。优选地，所述分散处理的方法包括研磨。优选地，所述研磨的介质包括锆珠。优选地，所述分散处理的仪器包括振荡器、研磨机、球磨机或超声设备中的任意一种。优选地，所述分散处理后，炭黑的分散粒径为50-120nm，例如60nm、70nm、80nm、90nm、100nm、110nm等。优选地，所述分散处理后，炭黑分散液的粘度为3.0-18.0cp，例如4.0cp、5.0cp、6.0cp、7.0cp、8.0cp、9.0cp、10.0cp、11.0cp、12.0cp、13.0cp、14.0cp、15.0cp、16.0cp、17.0cp等。优选本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高分子分散剂，其特征在于，所述高分子分散剂包括结构单元(A)、结构单元(B)和结构单元(C)；/n

【技术特征摘要】
1.一种高分子分散剂，其特征在于，所述高分子分散剂包括结构单元(A)、结构单元(B)和结构单元(C)；



所述R1选自-N+Ar3、-NAr2或含有至少两个N的芳胺基团中的任意一种；
所述Ar选自C6-C12芳基；
所述R2选自C5-C12烷基或C5-C12烷氧基；
所述R3和R4各自独立地选自氢原子、卤素原子、C1-C5烷基或C1-C5烷氧基中的任意一种；
所述结构单元(C)具有如下结构中的任意一种：



所述结构单元(A)和(B)两侧均连接结构单元(C)，结构单元(C)两侧连接结构单元(A)或(B)。


2.根据权利要求1所述的高分子分散剂，其特征在于，所述结构单元(C)为





3.根据权利要求1或2所述的高分子分散剂，其特征在于，所述高分子分散剂的重均分子量为10000～40000，优选15000～30000。


4.一种炭黑分散液，其特征在于，所述炭黑分散液包括炭黑、权利要求1～3中任一项所述的高分子分散剂、第一树脂和溶剂。


5.根据权利要求4所述的炭黑分散液，其特征在于，所述炭黑分散液中炭黑的质量占比为10-40％；
优选地，所述炭黑分散液中高分子分散剂的含量为1-10％；
优选地，所述炭黑包括灯黑、乙炔黑、热炭黑、槽法炭黑或炉法黑中的任意一种或至少两种组合。


6.根据权利要求4或5所述的炭黑分散液，其特征在于，所述溶剂包括丙二醇单甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇...

【专利技术属性】
技术研发人员：张盼，
申请(专利权)人：阜阳欣奕华材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34