图案形成方法、层叠体及触摸面板制造方法技术

本发明专利技术提供一种图案形成方法、层叠体或触摸面板制造方法，所述图案形成方法依次具有：准备在两面具有对于曝光波长为透明的被蚀刻层的、对于曝光波长为透明的基材的工序；在上述基材的两面的上述被蚀刻层上分别形成对于曝光波长而言的光密度为0.50以上且2.50以下的感光性树脂层的工序；对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；通过对上述感光性树脂层进行显影而在两面形成抗蚀剂图案的工序；去除未被上述抗蚀剂图案被覆的部分的上述被蚀刻层的工序；及剥离上述抗蚀剂图案的工序。

Pattern forming method, lamination and touch panel manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】图案形成方法、层叠体及触摸面板制造方法
本专利技术涉及一种图案形成方法、层叠体及触摸面板制造方法。
技术介绍
以往，已知有通过光刻法对基材上的被蚀刻层进行图案加工的图案形成方法。在此，近年来，有时将形成于基材的两面上的被蚀刻层作为各自独立的图案而进行图案加工。例如，在触摸面板的领域中，为了制造触摸传感器用配线，有时进行如下加工：在基材的其中一面上对X轴方向的位置检测用电极进行图案加工，且在基材的另一面上对Y轴方向的位置检测用电极进行图案加工等。作为在基材的两面形成不同形状的图案的方法，已知有专利文献1～专利文献3中所记载的方法。在专利文献1中记载有：“一种触摸传感器的形成方法，其具备：在具有UV截止性能的基材膜的两面形成遮光性金属层，在上述遮光性金属层上分别形成第1感光性树脂层的工序；对上述遮光性金属层上的上述第1感光性树脂层，在两面隔着不同的图案掩膜，照射UV光的曝光工序；通过对所曝光的上述第1感光性树脂层进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；通过去除未被上述抗蚀剂图案被覆的部分的上述遮光性金属层来形成引绕电路图案的蚀刻工序；至少在连接部剥离去除覆盖上述引绕电路图案的上述第1感光性树脂层的工序；将感光性导电膜层叠于上述基材膜的形成有上述引绕电路图案的两面，以使上述第2感光性树脂层密合的工序，所述感光性导电膜具备支承膜、设置于上述支承膜上且含有导电性纤维的导电层及设置于上述导电层上的第2感光性树脂层；在两面隔着不同的图案掩膜，对层叠于上述基材膜的两面的上述感光性导电膜的上述第2感光性树脂层，照射UV光的曝光工序；及通过对所曝光的上述第2感光性树脂层进行显影，一并去除层叠于上述第2感光性树脂层的被去除的部分的上述导电层，而形成与上述引绕电路图案电连接的电极图案的显影工序。”。在专利文献2中记载有：“一种触摸面板传感器的制造方法，其特征在于，具备：准备层叠体的工序，所述层叠体具有透明的基材膜、设置于上述基材膜的其中一侧的面上的第1透明导电层、设置于上述基材膜的另一侧的面上的第2透明导电层、以及设置于上述第1透明导电层上且具有遮光性及导电性的被覆导电层；通过曝光及显影处理在上述被覆导电层上形成具有规定图案的第1感光层，并且通过曝光及显影处理在上述第2透明导电层上形成具有与上述第1感光层不同的图案的第2感光层的工序；将上述第1感光层作为掩膜而蚀刻上述被覆导电层，并对上述被覆导电层进行图案化的工序；将上述第1感光层及上述被覆导电层作为掩膜而蚀刻上述第1透明导电层，并且将上述第2感光层作为掩膜而蚀刻上述第2透明导电层，并对上述第1透明导电层及上述第2透明导电层进行图案化的工序；通过曝光及显影处理形成仅配置于上述被覆导电层的一部分上的第3感光层的工序；将上述第3感光层作为掩膜而蚀刻上述被覆导电层，去除被覆导电层中除上述一部分以外的被覆导电层，由此形成与被图案化的上述第1透明导电层电连接的第1提取导电体的工序；及在上述基材膜的另一侧的面上形成与被图案化的上述第2透明导电层电连接的第2提取导电体的工序，上述第2提取导电体通过网版印刷法而形成。”。在专利文献3中记载有：“一种透明基材两面上的图案形成方法，其特征在于，在设置于透明基材的表面和背面这两面的透明金属膜的图案形成中，在上述透明金属膜的至少一个透明金属膜上形成遮蔽曝光光的不透明层，在上述透明基材的表面和背面这两面涂布光致抗试剂而形成光致抗试膜。”。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2016-224735号公报专利文献2：日本特开2011-197754号公报专利文献3：日本特开2011-154080号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题在专利文献1及2中所记载的方法中，在两面具有被蚀刻层的基材的两面上，形成使用了感光性树脂层的蚀刻抗蚀剂，从而在两面分别形成有图案。在专利文献1或2中所记载的方法中，由于在被蚀刻层中包含遮光性的金属层，因此来自基材的一面的图案曝光光不会到达与其相反的一侧的感光性树脂层，因此认为能够在两面分别形成独立的图案。但是，在触摸面板显示装置等领域中，就显示图像的画质等观点而言，有时要求形成配置于两面上的透明的被蚀刻层的图案。本专利技术人等发现了，在基材及被蚀刻层为透明的情况下，若通过专利文献1或2中所记载的方法形成图案，则通过用于在其中一面形成蚀刻抗蚀剂的相对于其中一面的曝光光，另一面的感光性树脂层也被曝光，由此存在难以在其中一面和另一面形成独立的图案的问题。本专利技术中，这种相对于其中一面的曝光光也对另一面的感光性树脂层进行曝光的现象也称为在另一面产生曝光雾。通过抑制上述曝光雾，能够对其中一面和另一面上的感光性树脂层进行基于各自不同的曝光图案的曝光，能够在其中一面和另一面形成独立且不同的抗蚀剂图案。其结果，能够在其中一面和另一面形成独立且不同的被蚀刻层的图案。并且，在专利文献3中，在基材的至少一面形成遮蔽曝光光的不透明层，之后形成蚀刻抗蚀剂，进行被蚀刻层的图案形成。本专利技术人等发现了，在专利文献3中所记载的方法中，由于需要另外形成不透明层的工序，因此存在图案形成方法中的工序数量增加且生产率下降的问题。本专利技术所涉及的实施方式所要解决的课题为提供一种图案形成方法或触摸面板制造方法，该图案形成方法中，所获得的蚀刻抗蚀剂的图案形状优异，且由相对于其中一面的曝光光产生的另一面的曝光雾得到抑制。并且，本专利技术所涉及的另一实施方式所要解决的课题为提供一种层叠体，所述层叠体的所获得的蚀刻抗蚀剂的图案形状优异，且由相对于其中一面的曝光光产生的另一面的曝光雾得到抑制。用于解决技术课题的手段用于解决课题的具体方式中包含以下方式。＜1＞一种图案形成方法，其依次具有：准备在两面具有对于曝光波长为透明的被蚀刻层的、对于曝光波长为透明的基材的工序；在上述基材的两面的上述被蚀刻层上分别形成对于曝光波长而言的光密度为0.50以上且2.50以下的感光性树脂层的工序；对上述感光性树脂层进行图案曝光的工序；通过对上述感光性树脂层进行显影而在两面形成抗蚀剂图案的工序；去除未被上述抗蚀剂图案被覆的部分的上述被蚀刻层的工序；及剥离上述抗蚀剂图案的工序。＜2＞如上述＜1＞所述的图案形成方法，其中，上述曝光工序中的曝光量为10(n-0.5)mJ/cm2以上且10(n+1.5)mJ/cm2以下。n：上述感光性树脂层的对于曝光波长而言的光密度＜3＞如上述＜1＞所述的图案形成方法，其中，上述曝光工序中的曝光量为10nmJ/cm2以上且10(n+1.0)mJ/cm2以下。n：上述感光性树脂层的对于曝光波长而言的光密度＜4＞如上述＜1＞～＜3＞中任一项所述的图案形成方法，其中，上述感光性树脂层的膜厚为8.0μm以下。＜5＞如上述＜1＞～＜4＞中任一项所述的图案形成方法，其中，上述曝光工序中的曝光光在波长365nm处具有极大波长。＜6＞如上述＜1＞～＜5＞中任一项所述的图案形成方法，其中，形成上述感光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案形成方法，其依次具有：/n准备在两面具有对于曝光波长为透明的被蚀刻层的、对于曝光波长为透明的基材的工序；/n在所述基材的两面的所述被蚀刻层上分别形成对于曝光波长而言的光密度为0.50以上且2.50以下的感光性树脂层的工序；/n对所述感光性树脂层进行图案曝光的工序；/n通过对所述感光性树脂层进行显影而在两面形成抗蚀剂图案的工序；/n去除未被所述抗蚀剂图案被覆的部分的所述被蚀刻层的工序；及/n剥离所述抗蚀剂图案的工序。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170728 JP 2017-1471521.一种图案形成方法，其依次具有：
准备在两面具有对于曝光波长为透明的被蚀刻层的、对于曝光波长为透明的基材的工序；
在所述基材的两面的所述被蚀刻层上分别形成对于曝光波长而言的光密度为0.50以上且2.50以下的感光性树脂层的工序；
对所述感光性树脂层进行图案曝光的工序；
通过对所述感光性树脂层进行显影而在两面形成抗蚀剂图案的工序；
去除未被所述抗蚀剂图案被覆的部分的所述被蚀刻层的工序；及
剥离所述抗蚀剂图案的工序。


2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中，
所述曝光的工序中的曝光量为10(n-0.5)mJ/cm2以上且10(n+1.5)mJ/cm2以下，
n表示所述感光性树脂层的对于曝光波长而言的光密度。


3.根据权利要求2所述的图案形成方法，其中，
所述曝光的工序中的曝光量为10nmJ/cm2以上且10(n+1.0)mJ/cm2以下。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的图案形成方法，其中，
所述感光性树脂层的膜厚为8.0μm以下。


5.根据权利要求1至4中任一项所述的图案形成方法，其中，
所述曝光的工序中的曝光光在波长365nm处具有极大波长。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的图案形成方法，其中，
形成所述感光性树脂层的工序为将转印膜层压于所述被蚀刻层的工序，所述转印膜具有临时支承体及在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：汉那慎一，有富隆志，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP