一种用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件及其晶圆研磨机制造技术

技术编号:23715799 阅读:37 留言:0更新日期:2020-04-08 13:13
本实用新型专利技术揭示了一种用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件及其晶圆研磨机,所述防呆组件包括:基板、控制装置、第一传感器和第二传感器;其中,第一传感器和第二传感器安装于基板上,第一传感器和第二传感器其中之一用于感测安装于基板上的第一类晶舟盒,以及第一传感器和第二传感器配合用于感测安装于基板上的第二类晶舟盒。本实用新型专利技术通过传感器和控制装置的配套使用,对晶舟盒与研磨机匹配与否进行判断;当晶舟盒与研磨机匹配错误时,控制装置对研磨机和警报装置发出控制指令,使研磨机停止工作、警报装置发出警示信号,从而避免因人员失误所导致的晶圆研磨破片情况;本实验新型的防呆组件还具有结构简单、使用方便、成本低的特点。

A kind of crystal boat box anti daze component for wafer grinder and its wafer grinder

【技术实现步骤摘要】
一种用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件及其晶圆研磨机
本技术涉及晶圆研磨
,具体涉及一种用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件及其晶圆研磨机。
技术介绍
近年来,随着半导体的高集成化,图案的细微化也随之进展,尤其是为了能更容易地进行多层构造的细微图案的形成,而使得制造制程中的半导体晶圆的表面平坦化就显得重要起来。现在通常使用研磨机对晶圆表面进行研磨处理,使其表面平坦化,且研磨时通常对晶圆的厚度具有不同要求。因此,在研磨作业的现场需采用不同规格的晶舟盒装载不同厚度要求的晶圆。例如,对厚度300μm以上的晶圆,通常采用25槽的晶舟盒;而对厚度300μm以下的晶圆,通常采用13槽的晶舟盒。研磨时,工作人员需要根据晶圆研磨厚度选择对应规格的晶舟盒,将其放到对应的研磨机上研磨。由于现场有多种规格的晶舟盒,且不同规格的晶舟盒在外形上相似,因此容易造成工作人员将晶舟盒与研磨机匹配失误的情况,从而导致晶圆研磨时发生破片。如何避免上述情况的发生,是一个急需解决的问题。
技术实现思路
本技术提供一种用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件,用于解决现有技术中因工作人员的失误,造成晶圆研磨破片的问题。为实现前述目的,本技术所采用的技术方案为:一种用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件,所述防呆组件包括:基板、控制装置、第一传感器和第二传感器;所述第一传感器和第二传感器安装于所述基板上,所述第一传感器和第二传感器其中之一用于感测安装于所述基板上的第一类晶舟盒,以及所述第一传感器和第二传感器配合用于感测安装于所述基板上的第二类晶舟盒;所述控制装置和所述第一传感器、第二传感器、研磨机通信连接,所述控制装置至少用于接收和处理所述传感器反馈的感测信息,并根据所述感测信息向所述研磨机发出控制指令。进一步地,所述基板上设有与所述晶舟盒相配合的定位装置,所述定位装置用于将第一类晶舟盒、第二类晶舟盒固定于一预设位置上。进一步地,所述定位装置包括第一侧和第二侧,所述第一侧和第二侧固定于所述基板上。进一步地,所述第一侧上具有第一凸部,所述第二侧上具有第二凸部。进一步地,所述第一凸部由第一侧凸起形成,所述第二凸部由第二侧凸起形成。进一步地,所述第一凸部和第二凸部相互平行。进一步地,所述第一凸部和/或第二凸部上设有定位槽,所述定位槽用于定位第一类晶舟盒和第二类晶舟盒。进一步地,所述控制装置为PLC控制器。进一步地,所述传感器为光电传感器。进一步地,所述光电传感器为漫反射式光电传感器、对射式光电传感器、镜面反射式光电传感器中的一种。进一步地,所述基板安装于所述研磨机上。进一步地,所述防呆组件还包括警报装置,所述警报装置与所述控制装置通信连接;所述警报装置可以根据控制装置发出的指令发出灯光和/或声音警示信号。一种晶圆研磨机,所述研磨机上设有前述防呆组件。进一步的,所述防呆组件的基板设于所述研磨机的机台上。本技术有益效果:与现有技术相比,本技术提供的防呆组件,通过传感器和控制装置的配套使用,对晶舟盒与研磨机匹配与否进行判断;当晶舟盒与研磨机匹配错误时,控制装置对研磨机和警报装置发出控制指令,使研磨机停止工作、警报装置发出警示信号,从而避免因人员失误所导致的晶圆研磨破片情况;本实验新型的防呆组件还具有结构简单、使用方便、成本低的特点。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术防呆组件一种实施方式的结构示意图;图2是本技术图1所示的防呆组件的一种使用场景示意图;图3是本技术图1所示的防呆组件的另一种使用场景示意图;图4是本技术防呆组件一种实施方式的逻辑结构示意图。附图标记说明:1、基板;2、第一传感器;3、第二传感器;4、第一侧;5、第二侧;6、第一凸部;7、第二凸部;8、第一定位槽;9、第二定位槽;10、安装孔;11、第一类晶舟盒;12、第一底壁;13、第二类晶舟盒;14、第二底壁;15、隔板。具体实施方式下面将结合具体实施例和附图,对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述。需要说明的是,当元件被称为“安装于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。在所示出的实施例中,方向表示即上、下、左、右、前和后等是相对的,用于解释本技术中不同部件的结构和运动是相对的。当部件处于图中所示的位置时,这些表示是恰当的。但是,如果元件位置的说明发生变化,那么认为这些表示也将相应地发生变化。除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在限制本专利技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。参照图1-4所示,本技术一种实施例中用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件,包括:基板1、定位装置、PLC控制器、警报装置、第一传感器2和第二传感器3。在本实施例中,基板1大体上呈长方形板状,基板1上设有若干与研磨机机台相配合的安装孔10,且基板1通过安装孔10安装于研磨机机台上,第一传感器2和第二传感器3安装于基板1上。其中,第一传感器2被配置为用于感测安装于基板1上的第一类晶舟盒11;第一传感器2和第二传感器3配合用于感测安装于基板1上的第二类晶舟盒13。第一传感器2和第二传感器3均为漫反射式光电传感器,且第一传感器2具有第一感测区,第二传感器3具有第二感测区。所述定位装置固定设于基板1上,其具有与第一类晶舟盒11、第二类晶舟盒13相配合的第一侧4和第二侧5,第一侧4和第二侧5均设于所述基板1的上表面,并且在第一侧4和第二侧5之间界定形成一间距。其中,第一侧4上具有第一凸部6,第二侧5上具有第二凸部7,且第一凸部6和第二凸部7被配置成相互平行。具体的,第一凸部6由第一侧4的上表面向上凸起形成,第二凸部7由第二侧5的上表面向上凸起形成,并且在第一凸部6上开设有第一定位槽8,在第二凸部7上开设有第二定位槽9。第一凸部6、第二凸部7、第一定位槽8、第二定位槽9相配合,使得第一类晶舟盒11或第二类晶舟盒13安装于基板1上时,能将其固定于一预设位置上。所述PLC控制器与研磨机、第一传感器2、第二传感器3、警报装置通信连接,所述PLC控制器能够接收第一传感器2和第二传感器3反馈的感测信息,并对所述感测信息进行处理形成控制指令,所述控制指令再传输到研磨机和警报装置上,从而实现对研磨机和警报装置的控制。所述控制指令包括研磨机的启动本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件,其特征在于,所述防呆组件包括:基板、控制装置、第一传感器和第二传感器;/n所述第一传感器和第二传感器安装于所述基板上,所述第一传感器和第二传感器其中之一用于感测安装于所述基板上的第一类晶舟盒,以及所述第一传感器和第二传感器配合用于感测安装于所述基板上的第二类晶舟盒;/n所述控制装置和所述第一传感器、第二传感器、研磨机通信连接,所述控制装置至少用于接收和处理所述传感器反馈的感测信息,并根据所述感测信息向所述研磨机发出控制指令。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件,其特征在于,所述防呆组件包括:基板、控制装置、第一传感器和第二传感器;
所述第一传感器和第二传感器安装于所述基板上,所述第一传感器和第二传感器其中之一用于感测安装于所述基板上的第一类晶舟盒,以及所述第一传感器和第二传感器配合用于感测安装于所述基板上的第二类晶舟盒;
所述控制装置和所述第一传感器、第二传感器、研磨机通信连接,所述控制装置至少用于接收和处理所述传感器反馈的感测信息,并根据所述感测信息向所述研磨机发出控制指令。


2.根据权利要求1所述的用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件,其特征在于,所述基板上设有与所述晶舟盒相配合的定位装置,所述定位装置用于将第一类晶舟盒、第二类晶舟盒固定于一预设位置上。


3.根据权利要求2所述的用于晶圆研磨机的晶舟盒防呆组件,其特征在于,所述定位装置包括第一侧和第二侧,所述第一侧和第二侧固定于所述基板上。


4.根据权利要求3所述的用于晶圆研...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭利民
申请(专利权)人:京隆科技苏州有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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