灰度图像的处理曝光方法、装置、系统和设备制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种灰度图像的处理曝光方法、装置、系统和设备，该灰度图像的处理曝光方法包括：将三维图像或二维灰阶图像转换为待处理灰度图；根据所述待处理灰度图生成多层待曝光图形；根据预设曝光宽度将所述多层待曝光图形分割为具有预设曝光顺序的多个待曝光单元；按照所述预设曝光顺序曝光所述多个待曝光单元得到目标灰度图像。本发明专利技术具有如下优点可以对原始灰度图像进行高分辨率的灰度曝光，同时可以有效减少曝光次数，大幅降低制造成本和生产成本，提升生产效率。

Exposure method, device, system and equipment for gray image processing

【技术实现步骤摘要】
灰度图像的处理曝光方法、装置、系统和设备
本专利技术实施例涉及光学成像和图像处理
，具体涉及一种灰度图像的处理曝光方法、装置、系统和设备。
技术介绍
灰度曝光技术是生产各种精密器件的关键技术，由于需要曝光出灰度，灰度等级越高，渐变效果越好，微结构表现力越好。灰度等级的提高带来的图形曝光分辨率的提高，对曝光机的功能性指标、曝光分辨率要求越来越严格。但相关技术中的灰度曝光的分别率低，无法满足需求。
技术实现思路
为此，本专利技术实施例提供一种灰度图像的处理曝光方法、装置、系统和设备，以解决现有技术中灰度曝光的分别率低的问题。为了实现上述目的，本专利技术实施例提供如下技术方案：本专利技术第一方面的实施例公开了一种灰度图像的处理曝光方法，包括：将三维图像或二维灰阶图像转换为待处理灰度图；根据所述待处理灰度图生成多层待曝光图形；根据预设曝光宽度将所述多层待曝光图形分割为具有预设曝光顺序的多个待曝光单元；按照所述预设曝光顺序曝光所述多个待曝光单元得到目标灰度图像或是三维图像。进一步地，根据所述待处理灰度图生成所述多层待曝光图形，包括：提取所述待处理灰度图每层的比特建立比特平面图；提取所述比特平面图的每层比特图形，以生成所述多层待曝光图形。进一步地，根据所述待处理灰度图生成所述多层待曝光图形，包括：提供所述待处理灰度图的预设成像高度和所述曝光装置的预设焦深；根据所述预设成像高度和所述预设焦深将所述待处理灰度图拆分为所述多层待曝光图形。进一步地，按照所述预设曝光顺序曝光所述多个待曝光单元得到所述目标灰度图像中，包括：通过调整多个待曝光单元在曝光时出图控制和位置偏差，以实现有位置偏差的待曝光单元在曝光不同层灰度图形之间的对位。进一步地，所述将三维图像或二维灰阶图像转换为待处理灰度图，包括：获取三维图像；对所述三维图像进行图像处理得到所述待处理灰度图。本专利技术第二方面的实施例公开了一种灰度图像的处理曝光装置，包括：图像预处理模块，用于将三维图像或二维灰阶图像转换为待处理灰度图；待曝光图形生成模块，用于根据所述待处理灰度图生成多层待曝光图形；分割模块，用于根据预设曝光宽度将所述多层待曝光图形分割为具有预设曝光顺序的多个待曝光单元；曝光模块，用于按照所述预设曝光顺序曝光所述多个待曝光单元得到目标灰度图像。进一步地，所述待曝光图形生成模块具体用于提取所述待处理灰度图每层的比特建立比特平面图，并提取所述比特平面图的每层比特图形，以生成所述多层待曝光图形。进一步地，所述待曝光图形生成模块具体用于提供所述待处理灰度图的预设成像高度和所述曝光装置的预设焦深，并根据所述预设成像高度和所述预设焦深将所述待处理灰度图拆分为所述多层待曝光图形。进一步地，所述曝光模块具体用于通过调整多个待曝光单元在曝光时出图控制和位置偏差，以实现有位置偏差的待曝光单元在曝光不同层灰度图形之间的对位。进一步地，所述图像预处理模块具体用于获取三维图像，并对所述三维图像进行图像处理得到所述待处理灰度图。本专利技术第三方面的实施例公开了一种曝光灰度图像的处理曝光系统，所述曝光灰度图像的处理曝光包括至少一个处理器和至少一个存储器；所述存储器用于存储一个或多个程序指令；所述处理器，用于运行一个或多个程序指令，用以执行如本专利技术第一方面实施例所述的灰度图像的处理曝光方法。本专利技术第四方面的实施例公开了一种曝光设备，包括：位移平台，所述位移平台具有X、Y和Z三轴运动方向；光学引擎系统，所述光学引擎系统固定于所述位移平台上实现XY平面上的位移，所述光学引擎系统包括光源、反射镜、DMD阵列和扫描镜头；同步控制系统，用于控制所述位移平台和所述光学引擎系统，以执行如本专利技术第一方面实施例所述的灰度图像的处理曝光方法。本专利技术具有如下优点：可以对三维图形及原始灰度图像进行高分辨率的灰度曝光，同时可以有效减少曝光次数，大幅降低制造成本和生产成本，提升生产效率。附图说明为了更清楚地说明本专利技术的实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是示例性的，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图引伸获得其它的实施附图。本说明书所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本专利技术可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本专利技术所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本专利技术所揭示的
技术实现思路
得能涵盖的范围内。图1为本专利技术实施例的灰度图像的处理曝光方法的流程图；图2(A)-图2(E)为本专利技术实施例的扫描过程示意图；图3为本专利技术一个示例中进行偏差对准时多个待曝光单元的示意图；图4为本专利技术实施例的灰度图像的处理曝光装置的结构框图。具体实施方式以下由特定的具体实施例说明本专利技术的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本专利技术的其他优点及功效，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。图1为本专利技术实施例的灰度图像的处理曝光方法的流程图。如图1所示，本专利技术实施例的灰度图像的处理曝光方法，包括：S1：将三维图像或2D灰阶图像转换为待处理灰度图。其中，待处理灰度图可以是直接获取的，即采用各种画图软件或是绘图软件直接绘制的带渐变效果的灰度图像；也可是对其他图像进行处理得到的，比如：用三维绘图软件做出来的三维连续坡度结构图像，将该三维图像的连续坡度转换为2D灰度图像，再通过本专利技术的灰度曝光方法来实现三维结构的制作；另一方面也可以在三维结构产品上不同高度的图形曝光，从而实现三维结构的制作。在本专利技术的一个实施例中，步骤S1包括：获取三维图像；对三维图像进行处理得到待处理灰度图，即在本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种灰度图像的处理曝光方法，其特征在于，包括：/n将三维图像或二维灰阶图像转换为待处理灰度图；/n根据所述待处理灰度图生成多层待曝光图形；/n根据预设曝光宽度将所述多层待曝光图形分割为具有预设曝光顺序的多个待曝光单元；/n按照所述预设曝光顺序曝光所述多个待曝光单元得到目标灰度图像。/n

【技术特征摘要】
1.一种灰度图像的处理曝光方法，其特征在于，包括：
将三维图像或二维灰阶图像转换为待处理灰度图；
根据所述待处理灰度图生成多层待曝光图形；
根据预设曝光宽度将所述多层待曝光图形分割为具有预设曝光顺序的多个待曝光单元；
按照所述预设曝光顺序曝光所述多个待曝光单元得到目标灰度图像。


2.根据权利要求1所述的灰度图像的处理曝光方法，其特征在于，根据所述待处理灰度图生成所述多层待曝光图形，包括：
提取所述待处理灰度图每层的比特建立比特平面图；
提取所述比特平面图的每层比特图形，以生成所述多层待曝光图形。


3.根据权利要求1所述的灰度图像的处理曝光方法，其特征在于，根据所述待处理灰度图生成所述多层待曝光图形，包括：
提供所述待处理灰度图的预设成像高度和所述曝光装置的预设焦深；
根据所述预设成像高度和所述预设焦深将所述待处理灰度图拆分为所述多层待曝光图形。


4.根据权利要求1所述的灰度图像的处理曝光方法，其特征在于，按照所述预设曝光顺序曝光所述多个待曝光单元得到所述目标灰度图像中，包括：
通过调整多个待曝光单元在曝光时出图控制和位置偏差，以实现有位置偏差的待曝光单元在曝光不同层灰度图形之间的对位。


5.根据权利要求1所述的灰度图像的处理曝光方法，其特征在于，所述将三维图像或二维灰阶图像转换为待处理灰度图，包括：
获取三维图像；
对所述三维图像进行图像处理得到所述待处理灰度图。


6.一种灰度图像的处理曝光装置，其特征在于，包括：
图像预处理模块，用于将三维图像或二维灰阶图像转换为待处理灰度图；
待曝光图形生成模块，用于根据所述待处理灰度图生成多层待曝光图形；
分割模块，用于根据预设曝光宽度将所述多层待曝光图形分割为具有预设曝光...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅文辉，敦士军，
申请(专利权)人：中山新诺科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44