触控面板制造技术

技术编号:23569249 阅读:28 留言:0更新日期:2020-03-25 10:05
一种触控面板,包括:第一轴向电极;设置于第一轴向电极上之感光层与金属纳米线层;及设置于周边区上之感光导电层,其中感光导电层与该光层经曝光后定义出第一去除区与第二去除区,位于第一去除区之感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出第二轴向电极;位于第二去除区之感光导电层、感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出周边线路,第一轴向电极与第二轴向电极相互绝缘,第一轴向电极与第二轴向电极电性连接于周边线路,其中第一轴向电极与第二轴向电极至少包括金属纳米线。

Touch panel

【技术实现步骤摘要】
触控面板
本技术是关于一种触控面板。
技术介绍
由于透明导体可同时具有光穿透性与适当的导电性,因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。传统技术中,透明导体可以由金属氧化物的薄膜所制成,例如氧化铟锡(IndiumTinOxide,ITO)、氧化铟锌(IndiumZincOxide,IZO)、氧化镉锡(CadmiumTinOxide,CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-dopedZincOxide,AZO)。在部份情况下,经图案化的金属氧化物薄膜有容易被观察到的问题;此外,金属氧化物薄膜不具有可挠性。因此,现今发展出了多种透明导体,例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。然而利用纳米线制作触控电极,纳米线与周边区的金属引线在工艺上及结构上都有许多待解决的问题,例如传统工艺将纳米线涂布在显示区及周边区,并覆盖周边区的金属引线,之后利用蚀刻液将纳米线进行图案化,以在显示区制作出触控感应电极。上述工艺所采用的蚀刻液大多为强酸性,故会导致金属引线受到蚀刻液的作用,使产品可靠度下降;另外,蚀刻液的残留问题也需要额外的清洁过程方能克服。此外,由于纳米线层与金属引线需要两道的黄光微影、蚀刻工艺才能进行图案化,故整体工艺复杂,且触控感应电极与金属引线需要对位,对位工艺需考虑到印刷设备的对位公差及基板的尺寸胀缩,故需预留对位误差空间,使得触控面板的边框无法缩减,因此无法满足窄边框的需求。再一方面,纳米线层与金属引线之间的接触阻抗过高也会影响触控面板的性能。
技术实现思路
本技术之部分实施方式,可提高触控面板的工艺效率/良率,且触控面板具有低阻抗的特性。本技术之部分实施方式提出一种触控面板的制作方法,包括:提供基板,基板具有显示区与周边区;制作感光导电层于周边区;制作由金属纳米线所组成之金属纳米线层于显示区与周边区,其中金属纳米线层的一部分覆盖于感光导电层;制作感光层于金属纳米线层上;进行图案化步骤,包括:将感光层与感光导电层进行曝光以定义出第一去除区与第二去除区;以及使用显影液将位于第一去除区之感光层与金属纳米线层去除,以制作出设置于显示区上之触控感应电极;同时使用显影液将位于第二去除区之感光导电层、感光层与金属纳米线层去除,以制作出设置于周边区上之周边线路,触控感应电极电性连接于周边线路,其中触控感应电极至少包括金属纳米线。于本技术之部分实施方式中,感光导电层包含负感光性的银浆。于本技术之部分实施方式中,更包含预固化/固化银浆的步骤。于本技术之部分实施方式中,感光层与该感光导电层为具有相同光波段吸收特性的材料,将该感光层与该感光导电层进行曝光包括利用一曝光源同时对该感光层与该感光导电层进行曝光。于本技术之部分实施方式中,更包括在图案化步骤后采用黏胶法完全移除位于第一去除区或第二去除区的金属纳米线。于本技术之部分实施方式中,感光层的厚度至少能包覆金属纳米线。于本技术之部分实施方式中,设置由金属纳米线所组成之金属纳米线层于显示区与周边区以及所述设置感光层于金属纳米线层上包括:将至少具有感光层与金属纳米线层的复合膜材贴附于该基板。本技术之部分实施方式提出一种触控面板的制作方法,包含:提供基板,其具有显示区与周边区,其中第一轴向电极设置于该显示区;制作感光层、由金属纳米线所组成之金属纳米线层与感光导电层于基板上;进行图案化步骤,包括:将感光层与感光导电层进行曝光以定义出第一去除区与第二去除区;以及使用显影液将位于第一去除区的感光层与金属纳米线层去除,以制作出设置于显示区上之第二轴向电极;同时使用显影液将位于第二去除区的感光导电层、感光层与金属纳米线层去除,以制作出设置于周边区上之周边线路,第一轴向电极与第二轴向电极相互绝缘,第一轴向电极与第二轴向电极相互绝缘,第一轴向电极与第二轴向电极电性连接于周边线路,其中第一轴向电极与第二轴向电极至少包括金属纳米线。于本技术之部分实施方式中,所述制作感光层、金属纳米线层与感光导电层于基板上包括:制作感光层于基板上;制作金属纳米线层于感光层上,其中金属纳米线层的第一部分位于显示区,金属纳米线层的第二部分位于周边区;制作感光导电层于周边区,其中感光导电层覆盖于第二部分。于本技术之部分实施方式中,感光导电层包含负感光性的银浆。于本技术之部分实施方式中,更包含预固化/固化银浆的步骤。于本技术之部分实施方式中,感光层与感光导电层为具有相同光波段吸收特性的材料。将感光层与感光导电层进行曝光包括利用一曝光源同时对感光层与感光导电层进行曝光。根据本技术之部分实施方式,更包括在图案化步骤之后采用黏胶法移除位于第一去除区或第二去除区的金属纳米线。于本技术之部分实施方式中,感光层的厚度至少能包覆该金属纳米线。于本技术之部分实施方式中,周边线路与另一周边线路之间具有非导电区,非导电区中的金属纳米线之浓度为零。于本技术之部分实施方式中,所述制作感光层、金属纳米线层与感光导电层于基板上包括:将至少具有感光层与金属纳米线层的复合膜材贴附于基板;以及制作该感光导电层于该周边区。本技术之部分实施方式提出一种触控面板,包含:基板,其中基板具有显示区与周边区;第一轴向电极,其设置于显示区;设置于第一轴向电极上之感光层与金属纳米线层;及设置于周边区上之感光导电层,其中感光导电层与感光层经曝光后定义出第一去除区与第二去除区,其中,位于第一去除区之感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于显示区的第二轴向电极;位于第二去除区之感光导电层、感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于周边区的周边线路,第一轴向电极与第二轴向电极电性连接于周边线路,其中第一轴向电极与第二轴向电极至少包括金属纳米线。本技术之部分实施方式提出一种触控面板,包含:基板,其中基板具有显示区与周边区;设置于基板上之感光层与金属纳米线层;及设置于周边区上之感光导电层,其中感光导电层与感光层经曝光后定义出第一去除区与第二去除区,其中,位于第一去除区之感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于显示区的触控感应电极;位于第二去除区之感光导电层、感光层与金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于周边区的周边线路,触控感应电极电性连接于周边线路,其中触控感应电极至少包括金属纳米线。于本技术之部分实施方式中,金属纳米线层包括金属纳米线,金属纳米线系嵌设于感光层中形成导电网络,而位于显示区的感光层与金属纳米线共同形成该第二轴向电极。于本技术之部分实施方式中,第一轴向电极具有连接电极,第二轴向电极具有桥接电极,感光层形成位于连接电极与桥接电极之间的绝缘层。于本技术之部分实施方式中,感光导电层包含负感光性的银浆。于本技术之部分实施方式中,周边线路与另一周边线路之间具有非导电区,非导电区中的金属纳米线之浓度小于渗透临限值,使非导电区中的金属纳米线形成非导电网络。第一去除区及/或第二去除区中的金属纳米线的浓度为零。该第一去本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控面板,其特征在于,包含:/n一基板,其中该基板具有一显示区与一周边区;/n一第一轴向电极,其设置于该显示区;/n设置于该第一轴向电极上之一感光层与一金属纳米线层;及/n一设置于该周边区上之感光导电层,其中该感光导电层与该感光层经曝光后定义出一第一去除区与一第二去除区,其中,位于该第一去除区之该感光层与该金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于该显示区的第二轴向电极;位于该第二去除区之该感光导电层、该感光层与该金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于该周边区的周边线路,该第一轴向电极与该第二轴向电极相互绝缘,该第一轴向电极与该第二轴向电极电性连接于该周边线路,其中该第一轴向电极与该第二轴向电极至少包括金属纳米线。/n

【技术特征摘要】
1.一种触控面板,其特征在于,包含:
一基板,其中该基板具有一显示区与一周边区;
一第一轴向电极,其设置于该显示区;
设置于该第一轴向电极上之一感光层与一金属纳米线层;及
一设置于该周边区上之感光导电层,其中该感光导电层与该感光层经曝光后定义出一第一去除区与一第二去除区,其中,位于该第一去除区之该感光层与该金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于该显示区的第二轴向电极;位于该第二去除区之该感光导电层、该感光层与该金属纳米线层被显影液移除而定义出一位于该周边区的周边线路,该第一轴向电极与该第二轴向电极相互绝缘,该第一轴向电极与该第二轴向电极电性连接于该周边线路,其中该第一轴向电极与该第二轴向电极至少包括金属纳米线。


2.如权利要求1所述的触控面板,其特征在于,该金属纳米线层包括金属纳米线,该金属纳米线系嵌设于该感光层中形成导电网络,而位于该显示区的该感光层与该金属纳米线共同形成该第二轴向电极。


3.如权利要求1所述的触控面板,其特征在于,该第一轴向电极具有一连接...

【专利技术属性】
技术研发人员:余建贤方芳甘艺鹏曹威娜黄振潘
申请(专利权)人:祥达光学厦门有限公司
类型:新型
国别省市:福建;35

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