用于杂草控制的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及用于杂草控制的装置。描述了给处理单元提供（210）环境的至少一张图像。所述处理单元分析（220）所述至少一张图像以从植被控制技术的多个操作模式中确定要用于所述环境的至少第一部分的杂草控制的所述植被控制技术的至少一个操作模式。输出单元输出（230）可用于以所述至少一个操作模式激活所述植被控制技术的信息。

Devices for weed control

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于杂草控制的装置
本专利技术涉及用于杂草控制的装置，用于杂草控制的系统，用于杂草控制的方法，以及计算机程序元件和计算机可读介质。
技术介绍
本专利技术的总体背景是杂草控制。某些工业区域和铁路轨道周围的区域需要对植被进行控制。对于铁路来说，从火车上的人（例如驾驶员）的角度看这种控制改善了可见度，并且从在轨道上工作的人的角度看这种控制也改善了可见度。这种控制能导致安全得到提高。而且，植被能干扰或损坏轨道和相关的信号线和通信线。这时就要求对植被的控制来减缓这种现象。植被控制也被称为杂草控制，可能是非常好费时且耗资源的，尤其是如果用人工来执行的话。杂草喷雾火车带有被容纳在车上的化学品罐中的除草剂，除草剂可被喷洒到轨道和周围的区域上以控制植被。但是，这种杂草控制是昂贵的，并且普通大众越来越期望看到对环境影响的减少。
技术实现思路
具有改善的用于杂草控制的装置是有利的。本专利技术的目的是通过独立权利要求的主题实现，其中进一步的实施例被包含在从属权利要求中。应该注意，下面描述的本专利技术的各方面和示例也适用于用于杂草控制的装置、用于杂草控制的系统、用于杂草控制的方法，以及适用于计算机程序元件和计算机可读介质。根据第一方面，提供了一种用于杂草控制的装置，包括：-输入单元；-处理单元；以及-输出单元。该输入单元被构造成给处理单元提供环境的至少一张图像。该处理单元被构造成分析所述至少一张图像以从植被控制技术的多个操作模式中确定该植被控制技术的至少一个操作模式来用于对所述环境的至少第一部分进行杂草控制。输出单元被构造成输出可用于在所述至少一个操作模式中激活所述植被控制技术的信息。换句话说，已经获得了环境的一张或多张图像。有一种可用于杂草控制的植被控制技术。该植被控制技术可以以多种不同的操作模式操作。然后装置分析所述一张或多张图像以确定植被控制技术的可用多个操作模式中的一个或几个应该被用于在环境的一个或几个具体地点控制杂草。以这种方式，可在环境的不同区域中使用植被控制技术的最适合的操作模式。而且，在环境的不同区域中，可使用植被控制技术的不同操作模式，其中植被控制技术的每个操作模式都是对于每个不同区域来说是最适合的。以这种方式，植被控制技术操作模式可以考虑环境，例如它是湿、是沼泽、是干、是沙地，以及所选的最适合的操作模式。而且，可以由数种不同的可用杂草控制技术，例如一种或多种化学品；化学喷雾；化学液体；化学固体；高压水；高温水；高温高压水；蒸汽；电能；电感应；电流；高电压能；电磁辐射；x射线辐射；紫外线辐射；可见光辐射；微波辐射；脉冲激光辐射；火焰系统。这些中的每一个都能以数种不同的方式操作，例如使用多于一种的化学品或者在多于一种的能量水平上操作或者在多于一种的持续时间长度上激活。然后，对于一种具体的杂草控制技术，基于图像分析确定操作模式。对于具有这些杂草控制技术中的其中一种的一个装置来说，例如基于高电压的系统，其中使电流流过植物和大地并杀死植物，此时不同的操作模式可包括可被施加以杀死不同植物的不同操作能量水平和/或不同能量应用持续时间。因此，在环境中的不同地点处可以按要求施加高电能系统的不同能量水平。不同的操作模式也可包括在要被施加的高电压水平的具体水平上的不同持续时间。因此，在环境中的不同地点处可按要求施加高电压系统的不同持续时间。微波能量的不同能量水平和持续时间、激光辐射能量和持续时间以及波长变化例如能够构成特定杂草控制技术的不同操作模式。例如，在杂草控制技术是基于化学喷雾的杂草控制技术的情况下，此时不同的操作模式可包括一种特定除草剂的不同强度的喷雾和/或不同类型的具有不同强度的除草剂的喷雾。因此，在环境中的不同地点处可按要求施加不同强度的化学品。不同的操作模式也可包括要被施加的化学品的不同喷雾持续时间。因此，在环境中的不同地点处，可以按要求施加特定化学品的不同喷雾持续时间。以这种方式，可减少除草剂的环境影响，因为施加的仅仅是需要被施加的除草剂并且持续时间是需要被使用的持续时间。在示例中，分析至少一张图像以确定植被控制技术的至少一个操作模式包括确定植被在环境的至少第一部分中的至少一个地点。处理单元被构造成然后确定在那个至少一个地点处要被使用的所述植被控制技术的至少一个操作模式。换句话说，图像处理可被使用以确定在所获图像中的植被区域，根据所述植被区域可选择要用于那个植被区域的杂草控制的所述技术的最适合操作模式。而且，植被控制技术可仅被应用在植被的地点处，其中该植被控制技术的最适合操作模式可被用于每个植被地点。以这种方式，可为不同的植被区域选择植被控制技术的最适合操作模式，其中例如可通过与大植被区域不同的操作模式来控制小植被区域。在示例中，通过至少一个照相机获得至少一张图像。输入单元被构造成然后给处理单元提供与所述至少一个照相机相关的、在所述至少一张图像被获得时的至少一个地点。所述地点可以是地理地点，相对于地面上的精确地点，或者可以是在地面上的参照植被控制技术的位置的地点。换句话说，可利用绝对地理地点或者不必知道绝对意义上的地面上的地点，而是参照杂草控制技术的地点的地面上的地点。因此，通过将图像与该图像被获得时的地点相关联，植被控制技术可被精确地应用到该地点。在示例中，分析至少一张图像以确定植被控制技术的至少一个操作模式包括确定杂草的至少一个类型。换句话说，选择植被控制技术的适合操作模式时可考虑到要被控制的杂草的一个或多个类型。因此，例如一种类型的杂草可仅要求短持续时间的杂草控制技术应用以杀死那个杂草，但是不同类型的杂草可要求更长持续时间的相同的杂草控制技术应用以杀死该杂草。在示例中，处理单元被构造成确定至少一个类型的杂草的至少一个地点。换句话说，图像处理可被用于确定杂草类型和它的地点。该地点可以是图像中的地点。该地点可以是真实的地理地点。该地点可以在图像内并且能够参照植被控制技术的位置。以这种方式，通过确定特定类型的杂草的地点，可以向那个具体地点施加植被控制技术的最优操作模式，这也适用于在不同地点处的要求施加植被控制技术的不同操作模式的不同杂草。在示例中，分析至少一个图像以确定植被控制技术的至少一个操作模式包括确定环境的至少第一部分中的第一类型的杂草以及确定环境的至少第二部分中的第二类型杂草。因此可基于环境中的不同杂草类型确定植被控制技术的最适合操作模式。在示例中，处理单元被构造成分析至少一张图像以确定要被用于对环境的至少第一部分中的第一类型杂草的杂草控制的植被控制技术的第一操作模式。处理单元还被构造成分析至少一张图像以确定要被用于对环境的至少第二部分中的第二类型杂草的杂草控制的植被控制技术的第二操作模式。换句话说，可根据在环境的部分中会发现的杂草的类型的具体类型来选择植被控制技术的最适合操作模式，由此使得植被控制技术的具体操作模式能够被仅应用在会发现那些具体杂草的地点。在示例中，处理单元被构造成分析至少一张图像以确定要被用于对环境的至少第一部分的杂草控制的植被控制技本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于杂草控制的装置（10），包括：/n-输入单元（20）；/n-处理单元（30）；以及/n-输出单元（40）；/n其中，所述输入单元被构造成给所述处理单元提供环境的至少一张图像；其中，所述处理单元被构造成分析所述至少一张图像以从植被控制技术的多个操作模式中确定要用于所述环境的至少第一部分的杂草控制的所述植被控制技术的至少一个操作模式；并且其中所述输出单元被构造成输出可用于以所述至少一个操作模式激活所述植被控制技术的信息。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170706 EP 17180030.3;20170717 EP 17181582.2;20171.一种用于杂草控制的装置（10），包括：
-输入单元（20）；
-处理单元（30）；以及
-输出单元（40）；
其中，所述输入单元被构造成给所述处理单元提供环境的至少一张图像；其中，所述处理单元被构造成分析所述至少一张图像以从植被控制技术的多个操作模式中确定要用于所述环境的至少第一部分的杂草控制的所述植被控制技术的至少一个操作模式；并且其中所述输出单元被构造成输出可用于以所述至少一个操作模式激活所述植被控制技术的信息。


2.根据权利要求1所述的装置，其中分析所述至少一张图像以确定所述植被控制技术的所述至少一个操作模式包括确定所述环境的所述至少第一部分中的植被的至少一个地点，并且其中所述处理单元被构造成确定要在该至少一个地点使用的所述植被控制技术的所述至少一个操作模式。


3.根据权利要求1-2中任一项所述的装置，其中所述至少一张图像是由至少一个照相机获得的，并且其中所述输入单元被构造成给所述处理单元提供在获得所述至少一张图像时与所述至少一个照相机相关的至少一个地点。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，其中分析所述至少一张图像以确定所述植被控制技术的所述至少一个操作模式包括确定至少一个类型的杂草。


5.根据权利要求4所述的装置，其中所述处理单元被构造成确定所述至少一个类型的杂草的至少一个地点。


6.根据权利要求1-5中任一项所述的装置，其中分析所述至少一张图像以确定所述植被控制技术的所述至少一个操作模式包括确定所述环境的所述至少第一部分中的第一类型杂草和确定所述环境的至少第二部分中的第二类型杂草。


7.根据权利要求6所述的装置，其中所述处理单元被构造成分析所述至少一张图像以确定要用于所述环境的所述至少第一部分中的所述第一类型杂草的杂草控制的所述植被控制技术的第一操作模式；并且其中所述处理单元被构造成分析所述至少一张图像以确定要用于所述环境的至少第二部分中的所述第二类型杂草的杂草控制的所述植被控制技术的第二操作模式。


8.根据权利要求1-7中任一项所述的装置，其中所述处理单元被构造成分析所述至少一张图...

【专利技术属性】
技术研发人员：P戴，T阿里安斯，V吉鲁，J哈德洛，H巴斯费尔德，
申请(专利权)人：拜耳股份公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE