抛光剂、铜件及其抛光处理方法技术

一种抛光剂、铜件及其抛光处理方法。抛光剂用于铜件表面预处理，以200重量份计，包括如下重量份数的成分：5‑20份磨料，2‑10份乙二胺四乙酸，2‑10份硫酸，2‑10份过硫酸铵，2‑10份聚乙二醇和余量水。经过上述抛光剂处理后，铜件表面清洁光亮，而且整个抛光处理方法工艺简单、安全环保，无气味，操作方便，使用成本低。

Polishing agent, copper parts and their polishing methods

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抛光剂、铜件及其抛光处理方法
[0001]本专利技术涉及铁表面处理
，具体涉及一种抛光剂、铜件及其抛光处理方法。
技术介绍
[0002]为提高产品表面性能或者外观，通常对工件表面处理技术。例如，铜、铝、铁及其合金的表面处理工艺深入各行各业中。而且，大多数工件在进行表面处理前还需要经过预处理，例如，进行清洗，除污除油，某些用途的金属工件还需要进行抛光化处理。[0003]一般在机械加工及电子电气行业，常见的有铜及铜合金清洁光亮处理，即抛光处理。传统的抛光剂一般采用机械抛光或三酸抛光，其中机械抛光对于工件几何形状复杂的抛光效果很差，三酸抛光中的三酸即浓硫酸，浓硝酸，浓磷酸在高温条件下剧烈反应，气体挥发很大，不安全也不环保，能耗大危险也大。技术问题[0004]有鉴于此，提供一种常温下使用，安全环保、操作简单的抛光剂，以及铜件抛光处理方法和经过抛光处理后制得的铜件。问题的解决方案技术解决方案[0005]一种抛光剂，以200重量份计，包括如下重量份数的成分：5-20份磨料，2-10份乙二胺四乙酸，2-10份硫酸，2-10份过硫酸铵，2-10份聚乙二醇和余量水。[0006]一种铜件抛光处理方法，其包括下列步骤：配制如上所述的抛光剂；将抛光剂溶于水中配制成抛光剂溶液，在抛光剂溶液中抛光剂与水配制比例为1:1-2；将铜件浸入抛光剂溶液中，经过预定吋间处理后，水洗铜件。[0007]以及，一种铜件，其表面通过如上所述的铜件抛光处理方法进行抛光。专利技术的有益效果有益效果[0008]经过上述抛光剂处理后，铜件表面清洁光亮，而且整个抛光处理方法工艺简单、安全环保，无气味，操作方便，使用成本低。本专利技术的实施方式[0009]以下将结合具体实施例对本专利技术进行详细说明。[0010]本专利技术实施例提供一种抛光剂，用于铜件表面预处理，以200重量份计，包括如下重量份数的成分：5-20份磨料，2-10份乙二胺四乙酸，2-10份硫酸，2-10份过硫酸铵，2-10份聚乙二醇和余量水。[0011]具体地，所述磨料的重量份数为10-20份。所述乙二胺四乙酸的重量份数优选为4-8份，所述硫酸的重量份数优选为4-8份，所述过硫酸铵的重量份数优选为4-8份。所述聚乙二醇的重量份数优选为4-8份，抛光剂使用吋与水配制比例为1:1-2。[0012]在上述抛光剂中，通过控制各成分配比平衡，以达到较佳抛光效果。粒径为20-150nm的磨料减低工件表面粗糙度，硫酸、过硫酸铵为抛光主要反应成分，聚乙二醇和乙二胺四乙酸使工件能够均匀的被抛光。[0013]本专利技术实施例还提供一种铜件抛光处理方法，其包括下列步骤：配制如上所述的抛光剂；将抛光剂溶于水中配制成抛光剂溶液，在抛光剂溶液中抛光剂与水配制比例为1:1-2；将铜件浸入抛光剂溶液中，经过预定吋间处理后，水洗铜件，干燥。[0014]具体地，在抛光剂溶液中抛光剂与水配制比例为1:1，所述预定吋间为1-10分钟。进一步地，在经过抛光后，再钝化，然后水洗，干燥。抛光处理吋，温度控制在20°C-25°C，即常温下进行抛光处理。更进一步地，在抛光前，先进行除油脱脂等预处理。[0015]经过上述抛光剂处理后，铜件表面清洁光亮，而且整个抛光处理方法工艺简单、安全环保，无气味，操作方便，使用成本低。[0016]本专利技术实施例还提供一种铜件，其通过如上所述的铜件抛光处理方法进行抛光处理，使铜件形成清洁光亮的表面。[0017]实施例1[0018]按照下列重量份数混合各成分（总量为200重量份）：5份磨料，2份乙二胺四乙酸，2份硫酸，2份过硫酸铵，2份聚乙二醇和余量水。[0019]处理方法：配制好抛光剂；将抛光剂溶于水中配制成抛光剂溶液，在抛光剂溶液中抛光剂与水配制比例为1:1;铜件应先除油和除氧化皮，然后水洗，再将处理好的铜件浸入抛光剂溶液中，经震机震动10分钟后，水洗铜件，再钝化，水洗，干燥。[0020]经过上述抛光剂溶液处理后，观察工件表面，整个表面清洁光亮，颜色一致，亮度比抛光之前提高20%以上。[0021]实施例2[0022]按照下列重量份数混合各成分（总量为200重量份）：10份磨料，4份乙二胺四乙酸，4份硫酸，4份过硫酸铵，5份聚乙二醇和余量水。[0023]处理方法：配制好抛光剂；将抛光剂溶于水中配制成抛光剂溶液，在抛光剂溶液中抛光剂与水配制比例为1:1;铜件应先除油和除氧化皮，然后水洗，再将处理好的铜件浸入抛光剂溶液中，经震机震动5分钟后，水洗铜件，再钝化，水洗，干燥。[0024]经过上述抛光剂溶液处理后，观察工件表面，整个表面清洁光亮，颜色一致，亮度比抛光之前提高40%以上。[0025]实施例3[0026]按照下列重量份数混合各成分（总量为200重量份）：15份磨料，7份乙二胺四乙酸，7份硫酸，8份过硫酸铵，6份聚乙二醇和余量水。[0027]处理方法：配制好抛光剂；将抛光剂溶于水中配制成抛光剂溶液，在抛光剂溶液中抛光剂与水配制比例为1:1;铜件应先除油和除氧化皮，然后水洗，再将处理好的铜件浸入抛光剂溶液中，经震机震动5分钟后，水洗铜件，再钝化，水洗，干燥。[0028]经过上述抛光剂溶液处理后，观察工件表面，整个表面清洁光亮，颜色一致，亮度比抛光之前提高60%以上。[0029]实施例4[0030]按照下列重量份数混合各成分（总量为200重量份）：20份磨料，10份乙二胺四乙酸，9份硫酸，9份过硫酸铵，10份聚乙二醇和余量水。[0031]处理方法：配制好抛光剂；将抛光剂溶于水中配制成抛光剂溶液，在抛光剂溶液中抛光剂与水配制比例为1:1;铜件应先除油和除氧化皮，然后水洗，再将处理好的铜件浸入抛光剂溶液中，经震机震动3分钟后，水洗铜件，再钝化，水洗，干燥。[0032]经过上述抛光剂溶液处理后，观察工件表面，整个表面清洁光亮，颜色一致，亮度比抛光之前提高60%以上。[0033]需要说明的是，本专利技术并不局限于上述实施方式，根据本专利技术的创造精神，本领域技术人员还可以做出其他变化，这些依据本专利技术的创造精神所做的变化，都应包含在本专利技术所要求保护的范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
权利要求书 /n [权利要求 1] 一种抛光剂， 其特征在于， 以 200重量份计， 包括如下重量份数的成 分： 5-20份磨料， 2-10份乙二胺四乙酸， 2-10份硫酸， 2-10份过硫酸 铵， 2-10份聚乙二醇和余量水。 /n[权利要求 2] 如权利要求 1所述的抛光剂， 其特征在于， 所述磨料为粒径为 20-150n m的水溶性二氧化硅， 的重量份数为 10-20份。 /n[权利要求 3] 如权利要求 1所述的抛光剂， 其特征在于， 所述乙二胺四乙酸的重量 份数为 4-8份。 /n [权利要求 4] 如权利要求 1所述的抛光剂， 其特征在于， 所述硫酸的重量份数为 4-8 份。 /n [权利要求 5] 如权利要求 1所述的抛光剂， 其特征在于， 所述过硫酸铵的重量份数 为 4-8份。 /n [权利要求 6] 如权利要求 1所述的抛光剂， 其特征在于， 所述聚乙二醇的重量份数 为 4-8份。 /n [权利要求 7] 如权利要求 1所述的抛光剂， 其特征在于， 所述抛光剂使用吋与水配 制比例为 1 : 1-2。 /n [权利要求 8] —种铜件抛光处理方法， 其包括下列步骤： 配制如权利要求 1-6任一 项所述的抛光剂； 将抛光剂溶于水中配制成抛光剂溶液， 在抛光剂溶 液中抛光剂与水配制比例为 1 : 1-2； 将铜件浸入抛光剂溶液中， 使用 震机不断的震动， 经过预定吋间处理后， 水洗铜件， 进入下一道工序 /n[权利要求 9] 如权利要求 7所述的铜件抛光处理方法， 其特征在于， 在经过抛光后 ， 再钝化， 然后水洗干燥， 在抛光剂溶液中抛光剂与水配制比例为 1 ： 1-2， 所述预定吋间为 1-10分钟。 /n [权利要求 10] 一种铜件， 其特征在于， 所述铜件表面通过如权利要求 8所述的铜件 抛光处理方法进行抛光。 /n...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】权利要求书
[权利要求1]一种抛光剂，其特征在于，以200重量份计，包括如下重量份数的成分：5-20份磨料，2-10份乙二胺四乙酸，2-10份硫酸，2-10份过硫酸铵，2-10份聚乙二醇和余量水。
[权利要求2]如权利要求1所述的抛光剂，其特征在于，所述磨料为粒径为20-150nm的水溶性二氧化硅，的重量份数为10-20份。
[权利要求3]如权利要求1所述的抛光剂，其特征在于，所述乙二胺四乙酸的重量份数为4-8份。
[权利要求4]如权利要求1所述的抛光剂，其特征在于，所述硫酸的重量份数为4-8份。
[权利要求5]如权利要求1所述的抛光剂，其特征在于，所述过硫酸铵的重量份数为4-8份。
[权利要求6]如权利要求1所述的抛光剂，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘国平，
申请(专利权)人：深圳市宏昌发科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44