图案描绘装置制造方法及图纸

一种基板处理装置，具备：旋转圆筒DR，以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置11，具有多个描绘模块UW1～UW5，将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上，以通过多个描绘模块UW1～UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式，将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔；调整机构24，调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜；以及旋转位置检测机构，检测出基板P的搬送速度；根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度，通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。

Pattern drawing device

【技术实现步骤摘要】
图案描绘装置本专利技术是申请日为2016年02月26日、申请号为201680006570.9、专利技术名称为“基板处理装置、元件制造系统及元件制造方法”的分案申请。
本专利技术关于图案描绘装置。
技术介绍
以往，作为基板处理装置，已知有一种对片状媒体(基板)上的既定位置进行描绘的扫描式描绘装置(参照例如文献1)。扫描式描绘装置具备描绘台、激光光源、光调变器、以及扫描光学系。描绘台在载置有媒体的状态搬送于搬送方向(副扫描方向)。激光光源往光调变器照射激光。光调变器例如使用声光调变元件(AOM：AcoustoOpticModulator)，将从激光源照射的激光予以调变。光调变器，在被切换成ON后，通过绕射使激光偏向，将激光投射于媒体上。另一方面，光调变器，在被切换成OFF后，不使激光偏向而成为不将激光投射于媒体上的状态。扫描光学系，将从光调变器射出的激光从媒体上的扫描开始端至扫描结束端为止沿着既定扫描线扫描于扫描方向。接着，扫描式描绘装置，一边通过描绘台使媒体搬送于副扫描方向、一边以光调变器调变激光，通过使以扫描光学系调变后的激光的点光扫描于扫描方向，以对媒体进行描绘。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2000－227661号公报
技术实现思路
专利技术解决的技术问题此外，作为描绘对象的基板，会伴随元件大型化而变大。若基板变大，描绘于基板的图案亦变大。此处，专利文献1的扫描式描绘装置，由于系以一条扫描线进行描绘，因此在描绘于基板的图案变大的情形时，激光的点光所形成的扫描线变长。然而，专利文献1的扫描式描绘装置，由于扫描线长度有其极限，因此描绘于基板的图案的大小受到扫描线长度限制。因此，可考量以多条扫描线(描绘线)将图案描绘于基板的所谓多光束型的描绘方式。此种多光束型描绘方式，将多条描绘线于扫描线的方向排列配置，通过将以各扫描线形成的各个图案在与基板的搬送方向正交的宽度方向相接合，而能对基板描绘较大图案。即使多光束型描绘方式，由于亦一边将基板搬送于搬送方向、一边以多条描绘线将图案描绘于基板，因此从各描绘线的描绘开始位置描绘至描绘结束位置的图案，于基板的搬送速度产生速度不均等的情形时，描绘开始位置与描绘结束位置会在搬送方向以微米等级的差异位于不同位置。因此，可能产生在基板宽度方向相邻的图案彼此的相接合精度恶化的现象、亦即产生接合误差。本专利技术的实施态样，有鉴于上述问题点，即使连结有多条描绘线的多光束型的描绘方式，亦可良好地减低在基板宽度方向相接合的图案彼此的接合误差。解决问题采用的技术手段依据本专利技术的第1实施态样，提供一种基板处理装置，具备：基板搬送装置，一边支承既定宽度的基板、一边将其以既定速度往与前述基板宽度方向交叉的搬送方向搬送；描绘装置，具有多个描绘模块，沿着将投射于前述基板的描绘光束于较前述基板的宽度窄的范围扫描于前述宽度方向而得到的描绘线将既定图案描绘于前述基板上，以通过前述多个描绘模块的各个而描绘于前述基板上的图案彼此在前述基板宽度方向相接合的方式，将彼此在前述宽度方向相邻的前述描绘线于前述搬送方向相隔既定间隔配置；倾斜调整机构，调整前述描绘线相对于前述基板宽度方向的倾斜；以及基板速度检测装置，检测出前述基板的搬送速度；根据以前述基板速度检测装置检测出的前述基板的搬送速度，通过前述倾斜调整机构调整前述描绘线的相对倾斜。依据本专利技术的第2实施态样，提供一种元件制造系统，具备本专利技术的第1态样的基板处理装置。依据本专利技术的第3实施态样，提供一种元件制造方法，包含：使用第1态样的基板处理装置，将来自前述多个描绘模块的各个的前述描绘光束扫描于形成在前述基板上的光感应层以描绘相接合的图案的动作；以及通过处理前述基板以于前述基板上形成与前述相接合的图案对应的元件的层构造的动作。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1显示第1实施形态的曝光装置(基板处理装置)的全体构成的图。图2显示图1的曝光装置主要部的配置的立体图。图3显示在基板上的对准显微镜与描绘线的配置关系的图。图4显示图1的曝光装置的旋转圆筒及描绘装置的构成的图。图5显示图1的曝光装置主要部的配置的俯视图。图6显示图1的曝光装置的分歧光学系的构成的立体图。图7显示图1的曝光装置所设的多个描绘模块内的各扫描器的配置关系的图。图8显示在基板上的对准显微镜与描绘线与编码器读头的配置关系的立体图。图9显示图1的曝光装置的旋转圆筒的表面构造的立体图。图10显示以第1实施形态的曝光装置描绘在基板上的图案与描绘线的配置关系一例的图。图11显示以第1实施形态的曝光装置描绘在基板上的图案与描绘线的配置关系一例的图。图12显示在第1实施形态的曝光装置所使用的CAD信息的影像的图。图13显示第2实施形态的曝光装置的f－θ透镜系的一部分构成的图。图14显示图13的f－θ透镜系的圆柱透镜构成的图。图15显示以第2实施形态的曝光装置描绘在基板上的图案与描绘线的配置关系一例的图。图16显示以第2实施形态的曝光装置描绘在基板上的图案与描绘线的配置关系一例的图。图17显示以第3实施形态的曝光装置描绘在基板上的图案与描绘线的配置关系一例的图。图18显示以第4实施形态的曝光装置在不进行描绘线的倾斜修正的情形时描绘在基板上的图案与描绘线的配置关系一例的图。图19显示以第4实施形态的曝光装置在进行描绘线的倾斜修正后描绘在基板上的图案与描绘线的配置关系一例的图。图20是以第4实施形态的曝光装置在将描绘线的倾斜修正依据基板的搬送速度不均而修正后的情形时描绘在基板上的图案与描绘线的配置关系一例的图。图21显示使用了第1～第4实施形态的曝光装置的元件制造方法的流程图。附图标号1元件制造系统11描绘装置12基板搬送机构13装置框架14旋转位置检测机构16控制装置21本体框架22三点座支承部23第1光学平台24旋转机构25第2光学平台31校准检测系44XY整体二等分调整机构45XY单侧二等分调整机构511/2波长板52偏光分束器53散光器60第1分束器62第2分束器63第3分束器73第4分束器81光偏向器821/4波长板83扫描器84弯折镜85f－θ透镜系86Y倍率修正用光学构件92遮光板96反射镜97旋转多面镜98原点检测器100驱动部P基板U1,U2处本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案描绘装置，在既定宽度的具有可挠性的基板上，投射根据与电子元件用的图案相应的描绘数据而被调变强度的描绘光束来描绘前述图案，其具备：/n基板搬送机构，支承前述基板以既定速度往与前述基板的宽度方向交叉的搬送方向进行搬送；/n描绘装置，具有多个描绘模块，前述描绘模块沿着将投射于前述基板的前述描绘光束的点光于较前述基板的宽度窄的范围于前述宽度方向进行扫描而得到的描绘线来将前述图案描绘于前述基板上；并具备平台，前述平台以通过前述多个描绘模块的各个而描绘于前述基板上的前述图案彼此在前述基板的宽度方向相接合的方式保持前述多个描绘模块；/n第1旋转机构，在包含以前述多个描绘模块的各个形成的前述描绘线的描绘面内，使前述平台与前述基板搬送机构可相对旋转；以及/n第2旋转机构，设于前述多个描绘模块的各个，并个别地调整以前述多个描绘模块的各个形成的前述描绘线的各个的倾斜。/n

【技术特征摘要】
20150227 JP 2015-0392431.一种图案描绘装置，在既定宽度的具有可挠性的基板上，投射根据与电子元件用的图案相应的描绘数据而被调变强度的描绘光束来描绘前述图案，其具备：
基板搬送机构，支承前述基板以既定速度往与前述基板的宽度方向交叉的搬送方向进行搬送；
描绘装置，具有多个描绘模块，前述描绘模块沿着将投射于前述基板的前述描绘光束的点光于较前述基板的宽度窄的范围于前述宽度方向进行扫描而得到的描绘线来将前述图案描绘于前述基板上；并具备平台，前述平台以通过前述多个描绘模块的各个而描绘于前述基板上的前述图案彼此在前述基板的宽度方向相接合的方式保持前述多个描绘模块；
第1旋转机构，在包含以前述多个描绘模块的各个形成的前述描绘线的描绘面内，使前述平台与前述基板搬送机构可相对旋转；以及
第2旋转机构，设于前述多个描绘模块的各个，并个别地调整以前述多个描绘模块的各个形成的前述描绘线的各个的倾斜。


2.如权利要求1所述的图案描绘装置，其中前述基板于前述搬送方向为长条的片状基板；
前述基板搬送机构具有将前述片状基板的长条方向的一部分支承为圆筒面状的外周面，并具有绕既定的中心轴旋转以将前述片状基板往长条方向搬送的旋转圆筒。


3.如权利要求2所述的图案描绘装置，其进一步具备；
旋转位置检测机构，其由标尺部和编码器读头构成，前述标尺部于从前述旋转圆筒的中心轴起一定半径的外周面，具有沿着周方向以一定间距刻设的刻度，并与前述旋转圆筒一起绕前述中心轴旋转；前述编码器读头与前述标尺部的外周面对向配置，检测前述标尺部的前述刻度的周方向的位置变化；以及
控制装置，根据以前述旋转位置检测机构检测的前述刻度的位置变化，对前述片状基板的相对于预先设定的基准速度的搬送速度的变化进行测量。


4.如权利要求3所述的图案描绘装置，其中设于前述多个描绘模块的各个的前述第2旋转机构，根据测量到的前述搬送速度的变化并通过前述控制装置而被驱动控制。


5.如权利要求3所述的图案描绘装置，其中前述第1旋转机构根据测量到的前述搬送速度的变化并通过前述控制装置而被驱动控制。


6.如权利要求4或5所述的图案描绘装置，其中前述控制装置根据前述第1旋转机构或前述第2旋转机构的前述描绘线的倾斜，来调整前述多个描绘模块的各个的描绘时点。


7.如权利要求3所述的图案描绘装置，其中前述多个描绘模块的各个具有；
旋转多面镜，使投射于前述片状基板的前述描绘光束的点光往一方向偏向扫描；
f－θ透镜，将以前述旋转多面镜偏向扫描的前述描绘光束引导至前述片状基板上的前述...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木智也，奈良圭，加藤正纪，渡辺智行，鬼头义昭，堀正和，林田洋祐，小宫山弘树，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP