一种电磁推力发射装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种电磁推力发射装置。装置包括：第一轨道；第二轨道，第一轨道和第二轨道相互平行和绝缘，并且由金属制成；电枢，电枢位于第一轨道和第二轨道之间且可沿其滑动并与第一轨道和第二轨道滑动电接触；弹丸，弹丸由电枢推动；高功率脉冲电源；以及开关；第一轨道和第二轨道和电枢以及开关、电源构成串联回路，当开关闭合时，电源向回路供电，在回路中通过第一轨道和第二轨道的电流产生磁场，流过电枢的电流在该磁场的作用下形成电磁力，该电磁力加速电枢和弹丸到超高速。本发明专利技术解决了电磁推力发射装置轨道的严重烧蚀的问题，使得降低对电枢和轨道的烧蚀，提高了轨道的使用寿命。

An electromagnetic thrust launcher

【技术实现步骤摘要】
一种电磁推力发射装置
本专利技术涉及电磁轨道
，具体地涉及一种电磁推力发射装置。
技术介绍
目前，电磁轨道炮概念提出已久，但多年来一直处于试验阶段未投入实际使用，这是因为电磁轨道炮还有一些问题没有得到很好的解决，其中一个便是弹体发射过程中系统会产生大量的热量，对轨道造成烧蚀磨损甚至失效，严重影响材料的使用寿命。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种电磁推力发射装置，解决了电磁推力发射装置轨道的严重烧蚀的问题，使得降低对电枢和轨道的烧蚀，提高了轨道的使用寿命。通过本专利技术可以实现的技术目的不限于上文已经特别描述的内容，并且本领域技术人员将从下面的详细描述中更加清楚地理解本文中未描述的其他技术目的。本专利技术解决上述技术问题的技术方案如下：根据本公开的一方面，本专利技术提供一种电磁推力发射装置，其特征在于，所述装置包括：第一轨道；第二轨道，所述第一轨道和第二轨道相互平行和绝缘，并且由金属制成；电枢，所述电枢位于所述第一轨道和第二轨道之间且可沿其滑动并与所述第一轨道和第二轨道滑动电接触；弹丸，所述弹丸由所述电枢推动；高功率脉冲电源；以及开关；其特征在于，所述第一轨道和第二轨道和电枢以及开关、电源构成串联回路，当所述开关闭合时，所述电源向回路供电，在所述回路中通过所述第一轨道和第二轨道的电流产生磁场，流过所述电枢的电流在该磁场的作用下形成电磁力，该电磁力加速所述电枢和弹丸到超高速。可选地，在如上所述的装置中，所述等离子层的厚度为0.001mm，相对磁导率为1，电导率为2000000s/m，密度为1.2kg/m3，热传导系数为0.5w/m·k，比热为1030J/kg·c，所述电源的通电时间为0.002s。可选地，在如上所述的装置中，所述等离子层的厚度为以下之一：0.001mm，0.005mm，0.01mm，0.05mm，0.1mm。可选地，在如上所述的装置中，所述等离子层的电导率为以下之一：200s/m，2000s/m，20000s/m，200000s/m，2000000s/m。可选地，在如上所述的装置中，所述等离子层的密度为以下之一：0.01kg/m3，0.05kg/m3，0.1kg/m3，0.5kg/m3，1kg/m3，10kg/m3，100kg/m3。可选地，在如上所述的装置中，所述等离子层的热传导系数为以下之一：0.01w/m·k，0.03w/m·k，0.05w/m·k，0.07w/m·k，0.09w/m·k，0.11w/m·k，0.13w/m·k，0.15w/m·k。可选地，在如上所述的装置中，所述等离子层的比热为以下之一：1J/kg·c，10J/kg·c，100J/kg·c，1000J/kg·c，10000J/kg·c。可选地，在如上所述的装置中，所述电源的通电时间为以下之一：1ms，2ms，5ms，10ms，50ms，100ms。上述技术方案仅为本专利技术实施例的一些部分，本领域技术人员从以下本专利技术的详细描述中可以导出和理解包含了本专利技术的技术特征的各种实施例。本领域技术人员将会理解，通过本专利技术可以实现的效果不限于上文已经具体描述的内容，并且从以下详细说明中将更清楚地理解本专利技术的其他优点。附图说明被包括以提供对本专利技术的进一步理解的附图示出本专利技术的实施例，并且与说明书一起用于解释本专利技术的原理。图1-27为本专利技术实施例提供的电磁推力发射装置在各种条件下的温度场的示意图表。具体实施方式现在将详细参考本专利技术的示例性实施例，其示例在附图中示出。下面将参考附图给出的详细描述旨在解释本专利技术的示例性实施例，而不是示出可以根据本专利技术实现的唯一实施例。以下详细描述包括具体细节以便提供对本专利技术的透彻理解。然而，对于本领域技术人员来说显而易见的是，可以在没有这些具体细节的情况下实践本专利技术。在一些情况下，已知的结构和设备被省略或以框图形式示出，集中于结构和设备的重要特征，以免模糊本专利技术的概念。在整个说明书中将使用相同的附图标记来表示相同或相似的部分。以下结合附图对本专利技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本专利技术，并非用于限定本专利技术的范围。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“中心”、“内”、“外”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。本专利技术提供了一种电磁推力发射装置，所述装置包括：第一轨道；第二轨道，所述第一轨道和第二轨道相互平行和绝缘，并且由金属制成；电枢，所述电枢位于所述第一轨道和第二轨道之间且可沿其滑动并与所述第一轨道和第二轨道滑动电接触；弹丸，所述弹丸由所述电枢推动；高功率脉冲电源；以及开关；其特征在于，所述第一轨道和第二轨道和电枢以及开关、电源构成串联回路，当所述开关闭合时，所述电源向回路供电，在所述回路中通过所述第一轨道和第二轨道的电流产生磁场，流过所述电枢的电流在该磁场的作用下形成电磁力，该电磁力加速所述电枢和弹丸到超高速。在如上所述的装置中，所述等离子层的厚度为0.001mm，相对磁导率为1，电导率为2000000s/m，密度为1.2kg/m3，热传导系数为0.5w/m·k，比热为1030J/kg·c，所述电源的通电时间为0.002s。在如上所述的装置中，所述等离子层的厚度为以下之一：0.001mm，0.005mm，0.01mm，0.05mm，0.1mm。在如上所述的装置中，所述等离子层的电导率为以下之一：200s/m，2000s/m，20000s/m，200000s/m，2000000s/m。在如上所述的装置中，所述等离子层的密度为以下之一：0.01kg/m3，0.05kg/m3，0.1kg/m3，0.5kg/m3，1kg/m3，10kg/m3，100kg/m3。在如上所述的装置中，所述等离子层的热传导系数为以下之一：0.01w/m·k，0.03w/m·k，0.05w/m·k，0.07w/m·k，0.09w/m·k，0.11w/m·k，0.13w/m·k，0.15w/m·k。在如上所述的装置中，所述等离子层的比热为以下之一：1J/kg·c，10J/kg·c，100J/kg·c，1000J/kg·c，10000J/kg·c。在如上所述的装置中，所述电源的通电时间为以下之一：1ms，2ms，5ms，10ms，50ms，100ms。根据本专利技术的技术方案借助相关有限元软件本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电磁推力发射装置，其特征在于，所述装置包括：/n第一轨道；/n第二轨道，所述第一轨道和第二轨道相互平行和绝缘，并且由金属制成；/n电枢，所述电枢位于所述第一轨道和第二轨道之间且可沿其滑动并与所述第一轨道和第二轨道滑动电接触；/n弹丸，所述弹丸由所述电枢推动；/n高功率脉冲电源；以及/n开关；/n其中，所述第一轨道和第二轨道和电枢以及开关、电源构成串联回路，当所述开关闭合时，所述电源向回路供电，在所述回路中通过所述第一轨道和第二轨道的电流产生磁场，流过所述电枢的电流在该磁场的作用下形成电磁力，该电磁力加速所述电枢和弹丸到超高速，所述装置还包括等离子体发生器，其位于所述装置上，产生等离子体，所述等离子体在所述第一轨道与电枢之间以及在所述第二轨道与电枢之间形成等离子层。/n

【技术特征摘要】
1.一种电磁推力发射装置，其特征在于，所述装置包括：
第一轨道；
第二轨道，所述第一轨道和第二轨道相互平行和绝缘，并且由金属制成；
电枢，所述电枢位于所述第一轨道和第二轨道之间且可沿其滑动并与所述第一轨道和第二轨道滑动电接触；
弹丸，所述弹丸由所述电枢推动；
高功率脉冲电源；以及
开关；
其中，所述第一轨道和第二轨道和电枢以及开关、电源构成串联回路，当所述开关闭合时，所述电源向回路供电，在所述回路中通过所述第一轨道和第二轨道的电流产生磁场，流过所述电枢的电流在该磁场的作用下形成电磁力，该电磁力加速所述电枢和弹丸到超高速，所述装置还包括等离子体发生器，其位于所述装置上，产生等离子体，所述等离子体在所述第一轨道与电枢之间以及在所述第二轨道与电枢之间形成等离子层。


2.根据权利要求1所述的装置，
其特征在于，所述等离子层的厚度为0.001mm，相对磁导率为1，电导率为2000000s/m，密度为1.2kg/m3，热传导系数为0.5w/m·k，比热为1030J/kg·c，所述电源的通电时间为0.002s。


3.根据权利要求1所述的装置，
其特征在于，所述等离子层的厚度为以下之一：0.001mm，0.0...

【专利技术属性】
技术研发人员：白向华，宋瑞亮，张天意，赵其进，尚菲菲，陈春林，路磊，
申请(专利权)人：中国人民解放军陆军装甲兵学院，
类型：发明
国别省市：北京;11