本发明专利技术揭示了用于枢轴配合基体的研磨载具，包括研磨载座，研磨载座上设有若干承载基位，任意承载基位上设有条状沉槽，条状沉槽上设有用于对销轴穿接桩进行支承的支承部，条状沉槽的底部设有内沉槽，内沉槽内设有用于对枢轴配合基体进行磁吸附的磁条。本发明专利技术采用支承部能实现对销轴穿接桩的针对性支承限位，而磁条能对枢轴配合基体产生非抵接式的吸附限位，因此能消除研磨过程中所产生的不利应力，产品不易产生形变，研磨面平整可靠，产品合格率得到较大提升。能实现不同研磨面的研磨支承需求，实现枢轴配合基体的多面研磨生产。整体设计简洁巧妙，针对性较强，尤为适用于枢轴配合基体的批量化生产需求。
Grinding vehicle for pivot fit matrix
【技术实现步骤摘要】
用于枢轴配合基体的研磨载具
本专利技术涉及用于枢轴配合基体的研磨载具，属于枢轴配合基体研磨的
技术介绍
在机加工生产中，涉及到镭雕、研磨、清洗等工序，而根据工件的结构需要配套性设计载具，从而使得加工面外露。本案涉及一种枢轴配合基体，该枢轴配合基体包括枢轴配接部、及位于枢轴配接部两侧的销轴穿接桩，该销轴穿接桩包括第一研磨面和第二研磨面，需要对第一研磨面和第二研磨面进行平面研磨，从而便于枢轴配合基体的装配需求。该枢轴配合基体形态不规则，传统研磨治具为随型载具，一方面随型载槽加工繁琐成本较高，稍有误差均会造成产品研磨报废，另一方面研磨过程中产品会受到垂直方向压力及旋转方向的研磨旋转力，产品内部应力无法调整，成型后易产生形变从而造成精度缺失。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决上述现有技术的不足，针对枢轴配合基体装载治具成本较高且研磨精度较差的问题，提出用于枢轴配合基体的研磨载具。为了达到上述目的，本专利技术所采用的技术方案为：用于枢轴配合基体的研磨载具，所述枢轴配合基体包括枢轴配接部、与所述枢轴配接部相对的延伸部、及位于枢轴配接部两侧的销轴穿接桩，所述研磨载具包括研磨载座，所述研磨载座上设有若干承载基位，任意所述承载基位上设有条状沉槽，所述条状沉槽上设有用于对所述销轴穿接桩进行支承的支承部，所述条状沉槽的底部设有内沉槽，所述内沉槽内设有用于对所述枢轴配合基体进行磁吸附的磁条。优选地，所述销轴穿接桩包括第一研磨面和第二研磨面，所述研磨载具包括用于所述第一研磨面研磨成型的第一研磨载座和用于所述第二研磨面成型的第二研磨载座。优选地，所述销轴穿接桩包括与所述第一研磨面相对设置的支承面，所述第一研磨载座的支承部包括若干沿所述条状沉槽方向相间隔设置的延伸部避让槽，所述枢轴配合基体的延伸部穿过所述延伸部避让槽、并且所述支承面支承在第一研磨载座的条状沉槽的侧壁上，所述延伸部与所述第一研磨载座内的磁条相磁性吸附。优选地，所述销轴穿接桩包括与所述第二研磨面相对设置的支撑面，所述第二研磨载座的支承部包括设置在所述条状沉槽两侧壁上的承台，所述枢轴配接基体的支撑面限位支承在所述承台上，并且所述枢轴配接基体的枢轴配接部与所述第二研磨载座的磁条相磁性吸附。优选地，所述第二研磨载座上装载有若干所述枢轴配接基体，相邻所述枢轴配接基体的延伸部与第一研磨面相抵接。优选地，所述承台上设有用于对所述枢轴配接基体进行沿所述条状沉槽方向限位的限位桩。优选地，所述研磨载座上的若干承载基位呈中心对称结构。优选地，任意所述承载基位与所述研磨载座的径向相匹配设置或相垂直设置。本专利技术的有益效果主要体现在：1.采用支承部能实现对销轴穿接桩的针对性支承限位，而磁条能对枢轴配合基体产生非抵接式的吸附限位，因此能消除研磨过程中所产生的不利应力，产品不易产生形变，研磨面平整可靠，产品合格率得到较大提升。2.能实现不同研磨面的研磨支承需求，实现枢轴配合基体的多面研磨生产。3.整体设计简洁巧妙，针对性较强，尤为适用于枢轴配合基体的批量化生产需求。附图说明图1是本专利技术中第一研磨载座的结构示意图。图2是本专利技术中第一研磨载座的使用状态结构示意图。图3是本专利技术中第二研磨载座的结构示意图。图4是本专利技术中第二研磨载座的使用状态结构示意图。图5是本专利技术中枢轴配合基体的结构示意图。图6是本专利技术中枢轴配合基体的另一视角结构示意图。具体实施方式本专利技术提供用于枢轴配合基体的研磨载具。以下结合附图对本专利技术技术方案进行详细描述，以使其更易于理解和掌握。用于枢轴配合基体的研磨载具，如图5和图6所示，枢轴配合基体1包括枢轴配接部11、与枢轴配接部11相对的延伸部12、及位于枢轴配接部11两侧的销轴穿接桩13。如图1至图4所示，研磨载具包括研磨载座2，研磨载座2上设有若干承载基位3，任意承载基位3上设有条状沉槽4。条状沉槽4上设有用于对销轴穿接桩13进行支承的支承部5，条状沉槽4的底部设有内沉槽6，内沉槽6内设有用于对枢轴配合基体1进行磁吸附的磁条7。具体地实现过程及原理说明：通过支承部5对枢轴配合基体1的销轴穿接桩13进行限位支撑，而条状沉槽4用于支撑销轴穿接桩13时的枢轴配合基体1主体避让，从而使得枢轴配合基体1悬置在条状沉槽4内，销轴穿接桩13的待研磨面外露。而磁条7能实现对枢轴配合基体1的磁性吸附限位，两者并非抵接限位结构，磁条7主要用于研磨过程中对枢轴配合基体1的稳定性需求，避免销轴穿接桩13研磨过程中基体产生较大晃动对研磨面产生影响，同时该基体非固定卡接式，能实现一定地应力传递，研磨成品不易产生形变，精度较高。在一个具体实施例中，销轴穿接桩13包括第一研磨面14和第二研磨面15，研磨载具包括用于第一研磨面14研磨成型的第一研磨载座21和用于第二研磨面15成型的第二研磨载座22。即采用不同支承部5的设计能实现销轴穿接桩13的第一研磨面14和第二研磨面15分别研磨。具体地，如图1和图2所示，该销轴穿接桩13包括与第一研磨面14相对设置的支承面16。第一研磨载座21的支承部5包括若干沿条状沉槽4方向相间隔设置的延伸部避让槽211，枢轴配合基体1的延伸部12穿过延伸部避让槽211、并且支承面16支承在第一研磨载座21的条状沉槽的侧壁上，延伸部12与第一研磨载座21内的磁条7相磁性吸附。具体地实现说明：将枢轴配合基体1穿接在延伸部避让槽211中，并使得支承面16与条状沉槽4的侧壁顶面相抵接，而磁条7对枢轴配合基体1产生垂直向的磁力吸附，使得销轴穿接桩13的限位稳定可靠。在研磨过程中，当第一研磨面14受到研磨作用力内部产生应力时，该应力传递至延伸部12从而得到应力消除。在一个具体实施例中，如图3和图4所示，第二研磨面加工需要以第一研磨面作为基准，销轴穿接桩13包括与第二研磨面15相对设置的支撑面17。第二研磨载座22的支承部5包括设置在条状沉槽4两侧壁上的承台221，该承台221为下沉体结构，能对枢轴配合基体1的销轴穿接桩13进行两侧限位。枢轴配接基体1的支撑面17限位支承在承台221上，并且枢轴配接基体1的枢轴配接部11与第二研磨载座的磁条7相磁性吸附。与第一研磨载座原理相似，采用磁条7实现对基体的吸附稳定，同时该基体非固定限位，从而起到应力消除的作用。对该实施例进行优化，第二研磨载座22上装载有若干枢轴配接基体1，相邻枢轴配接基体1的延伸部12与第一研磨面14相抵接。即能通过枢轴配接基体1之间的相对配合实现整列式组装，相互之间存在关联，无需独立限位，节省成本。需要说明的是，承台221上设有用于对枢轴配接基体进行沿条状沉槽方向限位的限位桩222。即仅需要两个边侧限位桩222即可实现整列式组装的枢轴配接基体1整体限位。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.用于枢轴配合基体的研磨载具，所述枢轴配合基体包括枢轴配接部、与所述枢轴配接部相对的延伸部、及位于枢轴配接部两侧的销轴穿接桩，其特征在于：/n所述研磨载具包括研磨载座，所述研磨载座上设有若干承载基位，任意所述承载基位上设有条状沉槽，/n所述条状沉槽上设有用于对所述销轴穿接桩进行支承的支承部，所述条状沉槽的底部设有内沉槽，所述内沉槽内设有用于对所述枢轴配合基体进行磁吸附的磁条。/n
【技术特征摘要】
1.用于枢轴配合基体的研磨载具，所述枢轴配合基体包括枢轴配接部、与所述枢轴配接部相对的延伸部、及位于枢轴配接部两侧的销轴穿接桩，其特征在于：
所述研磨载具包括研磨载座，所述研磨载座上设有若干承载基位，任意所述承载基位上设有条状沉槽，
所述条状沉槽上设有用于对所述销轴穿接桩进行支承的支承部，所述条状沉槽的底部设有内沉槽，所述内沉槽内设有用于对所述枢轴配合基体进行磁吸附的磁条。
2.根据权利要求1所述用于枢轴配合基体的研磨载具，其特征在于：
所述销轴穿接桩包括第一研磨面和第二研磨面，所述研磨载具包括用于所述第一研磨面研磨成型的第一研磨载座和用于所述第二研磨面成型的第二研磨载座。
3.根据权利要求2所述用于枢轴配合基体的研磨载具，其特征在于：
所述销轴穿接桩包括与所述第一研磨面相对设置的支承面，
所述第一研磨载座的支承部包括若干沿所述条状沉槽方向相间隔设置的延伸部避让槽，
所述枢轴配合基体的延伸部穿过所述延伸部避让槽、并且所述支承面支承在第一研磨载座的条状沉槽的侧壁上，所述延伸部与所述第一研磨载座内的磁条相...
【专利技术属性】
技术研发人员：张亚，
申请(专利权)人：英展新能源科技昆山有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。