光罩及曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种光罩及曝光装置，光罩包括：依次层叠的玻璃基板，线路层和防指纹膜；其中，线路层和防指纹膜共同形成有多个图形单元，以及包围多个图形单元的无效区；无效区设有裸露区，裸露区未被防指纹膜覆盖，以使至少部分的线路层暴露，便于静电导出。技术效果：在无效区设有未被防指纹膜覆盖的裸露区，如此设置，能够使得该位置的线路层暴露出来，在曝光过程中，裸露区与曝光装置的导电夹持部接触，使得光罩上的静电经由线路层，从裸露区导入到曝光装置中，通过曝光装置接地处理，从而将静电导入大地，减少累积在光罩中的静电，尽量避免击伤防指纹膜及线路层，提高光罩的使用寿命。

Mask and exposure device

【技术实现步骤摘要】
光罩及曝光装置
本技术涉及半导体
，特别是涉及一种光罩及曝光装置。
技术介绍
在半导体
中，光罩为非常重要的构图工具，用于将光罩中的图形单元以1:1的比例转移到目标衬底上，形成目标衬底上可导电的图形。该图形转移过程主要包括涂胶、曝光、显影和剥离，才能得到目标衬底上可导电的图形。通常，双面触控板采用真空接触式双面曝光的方式进行制备。在传统的制备双面触控板的过程中，采用上光罩和下光罩对两面同时曝光的方式，具体为上光罩和下光罩将触控材料夹在中间并抽真空进行曝光，保证曝光过程中密闭的环境，两面同时曝光，每爆完一张上下光罩开合一次，触控材料滚动一个步长。在触控材料在曝光时，上下光罩与触控材料发生接触，该过程会产生静电。在实现传统技术的过程中，专利技术人发现至少存在以下技术问题：曝光过程中静电积累较多，容易击伤光罩。
技术实现思路
基于此，有必要针对曝光过程中静电累积较多，容易击伤光罩的问题，提供一种光罩及曝光装置。一种光罩，包括：依次层叠的玻璃基板，线路层和防指纹膜；其中，所述线路层和所述防指纹膜共同形成有多个图形单元，以及包围多个所述图形单元的无效区；所述无效区设有裸露区，所述裸露区未被所述防指纹膜覆盖，以使至少部分的所述线路层暴露，便于静电导出。上述技术方案至少具有以下技术效果：本技术方案所提供的光罩，防指纹膜能够在多次曝光和转运过程中起到防指纹的作用，在无效区设有未被防指纹膜覆盖的裸露区，如此设置，能够使得该位置的线路层暴露出来，在曝光过程中，裸露区与曝光装置的导电夹持部接触，使得光罩上的静电经由线路层，从裸露区导入到曝光装置中，通过曝光装置接地处理，从而将静电导入大地，减少累积在光罩中的静电，尽量避免击伤防指纹膜及线路层，提高光罩的使用寿命。在其中一个实施例中，相邻的所述图形单元之间具有间隙，每个所述图形单元外均围设有接地线环，每个所述接地线环均与相邻的所述接地线环相连接，所述接地线环形成于所述线路层背离所述玻璃基板的一侧。上述技术方案在防指纹膜损伤后，接地线环能够吸附更多的静电，通过线路层，从裸露区导入到曝光装置中，通过曝光装置接地处理，从而将静电导入大地。在图形单元周围设有接地线环，且相邻的接地线环相互连接，将所有的接地线环形成一个整体，将静电更加集中地导出。在其中一个实施例中，相邻的两个所述接地线环具有至少一个公共边。上述技术方案能够将相邻的接地线环连接在一起，使得所有的接地线环形成一个整体。在其中一个实施例中，相邻的两个所述接地线环通过第一连接线连接。上述技术方案能够将相邻的接地线环连接在一起，使得所有的接地线环形成一个整体。在其中一个实施例中，所述图形单元具有布线区，所述布线区具有金属PIN端，所述金属PIN端与邻近的所述接地线环通过第二连接线连接。上述技术方案在静电进入图形单元的布线区后，通过金属PIN端与接地线环之间连接，进而将进入布线区的静电经由第二连接线导入接地线环，再通过线路层、裸露区、曝光装置导出到大地。在其中一个实施例中，所述图形单元具有布线区，所述布线区的线路拐角至少为弧形拐角、直角拐角、钝角拐角中的一种。上述技术方案将图形单元的布线区中原始的尖端拐角改成弧形拐角、直角拐角或钝角拐角，从而避免在布线区形成尖端放电，减少对图形单元的损伤。在其中一个实施例中，所述无效区的线路层靠近所述防指纹膜的一侧形成有多个尖端放电块。上述技术方案在无效区的线路层形成尖端放电块，在防指纹膜损伤后，尖端放电块能够将静电释放。在其中一个实施例中，所述裸露区设置于所述无效区靠近边缘的位置。上述技术方案可以在曝光过程中方便导电夹持部夹持裸露区。在其中一个实施例中，所述线路层包括形成于所述玻璃基板的铬层和形成于所述铬层的氧化铬层。上述技术方案中线路层包括铬层和氧化铬层，铬层的遮光性和刻蚀性能较强，氧化铬层能够减少甚至避免光线的衍射。一种曝光装置，包括：如上任一实施例所述的光罩，定义为第一光罩，所述第一光罩具有第一图形单元；另一如上任一实施例所述的光罩，定义为第二光罩，所述第二光罩具有第二图形单元；操作台，具有导电夹持部，以夹持所述第一光罩的裸露区和所述第二光罩的裸露区。上述技术方案至少具有以下技术效果：本技术方案所提供的曝光装置采用如上任一实施例所提供的光罩，防指纹膜能够在多次曝光和转运过程中起到防指纹的作用，在无效区设有未被防指纹膜覆盖的裸露区，如此设置，能够使得该位置的线路层暴露出来，在曝光过程中，裸露区与曝光装置的导电夹持部接触，使得光罩上的静电经由线路层，从裸露区导入到曝光装置中，通过曝光装置接地处理，从而将静电导入大地，减少累积在光罩中的静电，尽量避免击伤防指纹膜及线路层，提高光罩的使用寿命。附图说明图1为本技术一实施例的光罩的结构示意图；图2为本技术另一实施例的光罩的结构示意图；图3为图1和图2所示光罩的层叠示意图；图4为图1和图2所示A的局部放大示意图；图5为图1和图2所示的图形单元的结构示意图；图6为图5所示B的局部放大示意图；图7为本技术一实施例曝光装置的结构示意图；图8为图7所示曝光装置的俯视图。其中：100、光罩110、玻璃基板120、线路层122、铬层124、氧化铬层130、防指纹膜140、图形单元142、布线区144、金属PIN端146、第二连接线148、弧形拐角150、无效区152、裸露区154、尖端放电块160、接地线环162、第一连接线200、曝光装置210、第一光罩220、第二光罩230、导电夹持部240、上料滚轮250、原材料260、抽真空线管具体实施方式为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。传统的真空接触式双面曝光过程中，上下光罩与产品原材料及空气摩擦容易产生静电，由于光罩为连续作业，曝光时间约为26秒至35秒，进而使得摩擦产生的静电一直累积，停留在光罩本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光罩，其特征在于，包括：/n依次层叠的玻璃基板，线路层和防指纹膜；/n其中，所述线路层和所述防指纹膜共同形成有多个图形单元，以及包围多个所述图形单元的无效区；/n所述无效区设有裸露区，所述裸露区未被所述防指纹膜覆盖，以使至少部分的所述线路层暴露，便于静电导出。/n

【技术特征摘要】
1.一种光罩，其特征在于，包括：
依次层叠的玻璃基板，线路层和防指纹膜；
其中，所述线路层和所述防指纹膜共同形成有多个图形单元，以及包围多个所述图形单元的无效区；
所述无效区设有裸露区，所述裸露区未被所述防指纹膜覆盖，以使至少部分的所述线路层暴露，便于静电导出。


2.根据权利要求1所述的光罩，其特征在于，相邻的所述图形单元之间具有间隙，每个所述图形单元外均围设有接地线环，每个所述接地线环均与相邻的所述接地线环相连接，所述接地线环形成于所述线路层背离所述玻璃基板的一侧。


3.根据权利要求2所述的光罩，其特征在于，相邻的两个所述接地线环具有至少一个公共边。


4.根据权利要求2所述的光罩，其特征在于，相邻的两个所述接地线环通过第一连接线连接。


5.根据权利要求2所述的光罩，其特征在于，所述图形单元具有布线区，所述布线区具有金属PIN端，所述金属PIN端与邻近的所述接地...

【专利技术属性】
技术研发人员：李艳强，王平，王震，于国华，
申请(专利权)人：南昌欧菲显示科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江西;36