蒸发源及真空蒸镀系统技术方案

本申请公开了一种蒸发源及真空蒸镀系统，属于显示技术领域。该蒸发源包括：腔体，设置在腔体内的坩埚和驱动组件，以及加热组件；其中，坩埚为可伸缩结构，用于放置蒸镀材料；该腔体的一侧设置有出气孔，该驱动组件位于坩埚远离出气孔的一侧，驱动组件用于驱动坩埚朝靠近出气孔的一侧收缩；该加热组件用于加热蒸镀材料。由于本申请中坩埚为可伸缩结构，该驱动组件可以驱动坩埚朝靠近出气孔的一侧收缩。因此在坩埚内的蒸镀材料逐渐减少的过程中，该蒸镀材料与出气孔的距离能够始终保持在较小的范围内，无需增加加热温度即可确保蒸镀材料的沉积速率保持稳定，进而避免了温度过高影响在基板上形成的膜层的品质。

Evaporation source and vacuum evaporation system

【技术实现步骤摘要】
蒸发源及真空蒸镀系统
本公开涉及显示
，特别涉及一种蒸发源及真空蒸镀系统。
技术介绍
在对基板进行真空蒸镀时，通常先将放置有蒸镀材料的蒸发源、掩膜版以及基板放在真空腔室内。之后，该蒸发源可以将蒸镀材料气化，该气化后的蒸镀材料透过掩膜版的镂空区域沉积到基板上，并在基板上形成膜层。相关技术中，该蒸发源可以包括腔体、设置在该腔体内的坩埚以及加热丝。该坩埚用于放置蒸镀材料，该腔体的顶部以及坩埚上均设置有出气孔。该加热丝可以对腔体加热，以使坩埚内的蒸镀材料气化，该气化后的蒸镀材料可以通过出气孔蒸发。随着坩埚内的蒸镀材料的逐渐减少，相应的，蒸镀材料与腔体的顶部的距离逐渐增加，加热丝需增加加热温度，以提高蒸镀材料气化的速率，进而确保气化后的蒸镀材料在基板上的沉积速率能够保持稳定。但是，由于蒸镀材料对温度具有较高的敏感性，因此在加热丝增加加热温度后，长时间处于高温状态下的蒸镀材料易发生变质，从而影响在基板上形成的膜层的品质。
技术实现思路
本公开实施例提供了一种蒸发源及真空蒸镀系统，可以解决相关技术中在加热丝增加加热温度后，长时间处于高温状态下的蒸镀材料易发生变质，从而影响在基板上形成的膜层的品质的问题。所述技术方案如下：一方面，提供了一种蒸发源，所述蒸发源包括：腔体，设置在所述腔体内的坩埚和驱动组件，以及加热组件；其中，所述坩埚为可伸缩结构，用于放置蒸镀材料；所述腔体的一侧设置有出气孔，所述驱动组件位于所述坩埚远离所述出气孔的一侧，所述驱动组件用于驱动所述坩埚朝靠近所述出气孔的一侧收缩；所述加热组件用于加热所述蒸镀材料。可选的，所述坩埚包括：相对设置的第一板体和第二板体，以及连接在所述第一板体和所述第二板体之间的弹性连接管；所述第一板体位于所述弹性连接管靠近所述出气孔的一侧，且所述第一板体上设置有通孔；所述驱动组件与所述第二板体连接，用于驱动所述第二板体朝靠近所述第一板体的一侧移动，以使所述弹性连接管朝靠近所述第一板体的一侧收缩。可选的，所述弹性连接管的制成材料为金属材料。可选的，所述弹性连接管为波纹状。可选的，所述驱动组件包括：相对设置的第一磁性块和第二磁性块，以及第一驱动电路；所述第一磁性块和所述第二磁性块均位于所述坩埚远离所述出气孔的一侧，且所述第一磁性块与所述坩埚连接，所述第二磁性块与所述腔体的另一侧连接；所述第一磁性块和所述第二磁性块中的至少一个磁性块与所述第一驱动电路电连接，所述第一驱动电路用于向其所连接的磁性块提供电流，以驱动所述第一磁性块向远离所述第二磁性块的方向移动。可选的，所述坩埚远离所述出气孔的一侧采用磁性材料制成；所述驱动组件包括：第三磁性块和第二驱动电路；所述第三磁性块位于所述坩埚远离所述出气孔的一侧，且与所述腔体的另一侧连接；所述第二驱动电路与所述第三磁性块电连接，所述第二驱动电路用于向所述第三磁性块提供电流，以驱动所述坩埚朝靠近所述出气孔的一侧移动。可选的，所述驱动组件包括：弹性承载件；所述弹性承载件的一端与所述坩埚远离所述出气孔的一侧连接，所述弹性承载件的另一端与所述腔体的另一侧连接。可选的，所述弹性承载件为弹簧。可选的，所述加热组件包括：沿所述腔体的轴向排布的多个加热件；多个所述加热件的加热温度沿远离所述出气孔的方向依次减小。可选的，每个所述加热件均为加热丝。另一方面，提供了一种真空蒸镀系统，所述真空蒸镀系统包括：真空腔室、掩膜版以及如上述方面所述的蒸发源；其中，所述掩膜版以及所述蒸发源均设置在所述真空腔室内，且所述掩膜版位于所述蒸发源中的腔体设置有出气孔的一侧。本公开实施例提供的技术方案带来的有益效果至少包括：本公开实施例提供了一种蒸发源及真空蒸镀系统，该蒸发源可以包括腔体，设置在腔体内的坩埚和驱动组件，以及加热组件。该腔体的一侧设置有出气孔，该驱动组件位于坩埚远离出气孔的一侧。由于该坩埚为可伸缩结构，该驱动组件可以驱动坩埚朝靠近出气孔的一侧收缩。因此在坩埚内的蒸镀材料逐渐减少的过程中，该蒸镀材料的顶部与出气孔的距离始终保持在一个较小的范围内，从而避免了由于蒸镀材料与出气孔的距离逐渐增大而需加热组件增加加热温度，进而导致蒸镀材料发生变质的情况，确保了在基板上形成的膜层的品质，进而确保了显示装置的性能。附图说明为了更清楚地说明本公开实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本公开实施例提供的一种蒸发源的截面示意图；图2是本公开实施例提供的另一种蒸发源的截面示意图；图3是本公开实施例提供的一种坩埚的截面示意图；图4是本公开实施例提供的又一种蒸发源的截面示意图；图5是图4所示的蒸发源中坩埚朝靠近出气孔的一侧收缩的截面示意图；图6是图4所示的蒸发源中坩埚朝靠近出气孔的一侧收缩的截面示意图；图7是本公开实施例提供的再一种蒸发源的截面示意图；图8是本公开实施例提供的再一种蒸发源的截面示意图；图9是本公开实施例提供的再一种蒸发源的截面示意图；图10是图9所示的蒸发源中坩埚朝靠近出气孔的一侧收缩的截面示意图；图11是图9所示的蒸发源中坩埚朝靠近出气孔的一侧收缩的截面示意图；图12是本公开实施例提供的再一种蒸发源的截面示意图；图13是本公开实施例提供的一种真空蒸镀系统的截面示意图。具体实施方式为使本公开的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本公开实施方式作进一步地详细描述。图1是本公开实施例提供的一种蒸发源的截面示意图。如图1所示，该蒸发源可以包括腔体10，设置在腔体10内的坩埚20和驱动组件30，以及加热组件40。其中，该坩埚20可以为可伸缩结构，用于放置蒸镀材料201。该腔体10的一侧(即腔体10的顶部)设置有出气孔101，该驱动组件30位于坩埚20远离出气孔101的一侧，该驱动组件30可以用于驱动坩埚20朝靠近出气孔101的一侧收缩。可选的，该腔体10和坩埚20可以为柱状结构，例如可以为圆柱状结构，或者棱柱状结构。该蒸镀材料201可以为有机材料。该加热组件40可以设置在腔体10外，且可以缠绕在腔体10的外壁上。该加热组件40可以用于加热腔体10，进而加热坩埚20中放置的蒸镀材料201，以使得该蒸镀材料201气化，该气化后的蒸镀材料201可以从该出气孔101蒸发。在本公开实施例中，由于坩埚20为可伸缩结构，驱动组件30可以驱动坩埚20朝靠近出气孔101的一侧收缩，从而确保了在蒸镀材料201逐渐减少的过程中，该蒸镀材料201与出气孔101的距离始终保持在较小的范围内，从而避免了由于蒸镀材料与出气孔的距离逐渐增大而需加热组件增加加热温度，进而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸发源，其特征在于，所述蒸发源包括：腔体，设置在所述腔体内的坩埚和驱动组件，以及加热组件；/n其中，所述坩埚为可伸缩结构，用于放置蒸镀材料；/n所述腔体的一侧设置有出气孔，所述驱动组件位于所述坩埚远离所述出气孔的一侧，所述驱动组件用于驱动所述坩埚朝靠近所述出气孔的一侧收缩；/n所述加热组件用于加热所述蒸镀材料。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸发源，其特征在于，所述蒸发源包括：腔体，设置在所述腔体内的坩埚和驱动组件，以及加热组件；
其中，所述坩埚为可伸缩结构，用于放置蒸镀材料；
所述腔体的一侧设置有出气孔，所述驱动组件位于所述坩埚远离所述出气孔的一侧，所述驱动组件用于驱动所述坩埚朝靠近所述出气孔的一侧收缩；
所述加热组件用于加热所述蒸镀材料。


2.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述坩埚包括：相对设置的第一板体和第二板体，以及连接在所述第一板体和所述第二板体之间的弹性连接管；
所述第一板体位于所述弹性连接管靠近所述出气孔的一侧，且所述第一板体上设置有通孔；
所述驱动组件与所述第二板体连接，用于驱动所述第二板体朝靠近所述第一板体的一侧移动，以使所述弹性连接管朝靠近所述第一板体的一侧收缩。


3.根据权利要求2所述的蒸发源，其特征在于，所述弹性连接管的制成材料为金属材料。


4.根据权利要求2所述的蒸发源，其特征在于，所述弹性连接管为波纹状。


5.根据权利要求1至4任一所述的蒸发源，其特征在于，所述驱动组件包括：相对设置的第一磁性块和第二磁性块，以及第一驱动电路；
所述第一磁性块和所述第二磁性块均位于所述坩埚远离所述出气孔的一侧，且所述第一磁性块与所述坩埚连接，所述第二磁性块与所述腔体的另一侧连接；
所述第一磁性块和所述第二磁性块中的至少一个磁性块与所述第一驱动电路电连接，所述第一驱动电路用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹清华，黄俊淞，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11