一种祛痘印组合物制造技术

技术编号：23301575 阅读：128 留言：0更新日期：2020-02-11 14:35

本发明专利技术公开了一种祛痘印组合物，其所用原料按重量百分数计为：丙二醇5%‑10.0%、皮傲宁0.001%‑0.002%、水杨酸0.5‑1.5%、黄芩提取物1%‑3%、75wt%乙醇溶液3%‑5%、余量为去离子水。本发明专利技术以皮傲宁、水杨酸、黄芩提取物为主要功效成分，制得一款对痤疮、痘印有较好祛除效果的组合物，其温和无刺激、无副作用，具有良好市场前景。

A acne removing composition

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【技术实现步骤摘要】
一种祛痘印组合物
本专利技术属于日化用品
，具体涉及一种祛痘印组合物。
技术介绍
正常情况下，皮脂腺会分泌油脂，然后顺着毛发，到达皮肤表面铺展开，滋润皮肤。而当肌肤皮脂分泌旺盛，过量的皮脂垃圾无法及时排除而滞留毛囊内，导致毛孔被堵塞的时候，就会形成油脂栓，导致毛囊角质化异常，而毛囊口闭塞会堵塞毛孔，加速厌氧菌——痤疮丙酸杆菌的繁殖，导致细胞红肿发炎，形成痤疮。痤疮俗称“粉刺”、“青春痘”等，是一种多因素综合作用所致的常见毛囊、皮脂腺慢性炎症疾病。痤疮不仅是一种躯体疾病，也是一种不容忽视的身心疾病，在社交、心理、情绪等方面对患者都有影响。目前市场上销售的许多祛除痤疮的产品大多有副作用，因此，提供一种温和无刺激、治疗效果好的祛痤疮产品是一项亟需解决的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种温和无刺激、无副作用的祛痘印组合物。为实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案：一种祛痘印组合物，以重量百分数之和为100%计，其所用原料的重量百分数为：丙二醇5%-10.0%、皮傲宁0.001%-0.002%、水杨酸0.5-1.5%、黄芩提取物1%-3%、75wt%乙醇溶液3%-5%、余量为去离子水。优选地，其所用原料的重量百分数为：丙二醇6%、皮傲宁0.001%、水杨酸1.2%、黄芩提取物2%、75wt%乙醇溶液4%、去离子水86.799%。所述祛痘印组合物的制备方法包括如下步骤：（1）在室温下用丙二醇溶解皮傲宁；（2）在室温下用75wt%乙醇溶液溶...

【技术保护点】
1.一种祛痘印组合物，其特征在于：以重量百分数之和为100%计，所用原料的重量百分数为：丙二醇5%-10.0%、皮傲宁0.001%-0.002%、水杨酸0.5-1.5%、黄芩提取物1%-3%、75wt%乙醇溶液3%-5%、余量为去离子水。/n

【技术特征摘要】
1.一种祛痘印组合物，其特征在于：以重量百分数之和为100%计，所用原料的重量百分数为：丙二醇5%-10.0%、皮傲宁0.001%-0.002%、水杨酸0.5-1.5%、黄芩提取物1%-3%、75wt%乙醇溶液3%-5%、余量为去离子水。

2.根据权利要求1所述的祛痘印组合物，其特征在于：其所用原料的重量百分数为：丙二醇6%、皮傲宁0.001%、水杨酸1.2%、黄芩提取物2%、75wt%乙醇溶液4%、去离子水86...

【专利技术属性】
技术研发人员：张英燕，林仲潘，
申请(专利权)人：厦门泽本健康管理有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35

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