【技术实现步骤摘要】
一种注入机四极透镜底座
本技术涉及半导体制造领域，特别是一种注入机四极透镜底座。
技术介绍
离子注入技术是当今半导体行业对半导体进行掺杂的最主要方法，离子注入机是此技术中的关键仪器，半导体制造设备离子注入机在生产中进行高能量铝注入时，在高压绝缘部件容易产生高压打火，影响工艺的稳定性，并经常把绝缘部件击穿，造成设备宕机，影响生产，并且绝缘备件更换和维修，成本很高。通过设计注入机四极透镜的支撑底座的结构，阻止了铝离子注入源腔产生等离子时，生产的带电铝粉末和注入管中的杂质进入高压绝缘体内，散落到绝缘体表面，造成绝缘体绝缘性能下降，引起高压打火。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种注入机四极透镜底座，该装置可以有效地阻止铝注入工艺中，带电铝粉末从前端进入绝缘管，造成绝缘效果降低，导致高压打火，损坏绝缘管，并且提高了工艺制程的离子束稳定性，保证了产品质量。为达到以上目的，提供以下技术方案：一种注入机四极透镜底座，其特征在于，结构包括本体和销钉，所述本体为中空的圆台型结构，所述本体的顶部设置有圆型凹槽，所述圆型凹槽的中心部位设有一圆型孔，所述销钉固定安装于圆型凹槽的底部，所述圆型凹槽上设置有两个螺纹孔一和一个螺纹孔二，所述两个螺纹孔一的尺寸相同，所述两个螺纹孔一的底部各设有一个圆形的凸台，所述本体的外侧面下部设置有六处向外凸起的长方块。优选地，所述圆型孔的中心与两个螺纹孔一中心连线的中点重合，所述螺纹孔二中心和圆型孔中心的连线与两个螺纹孔一中心的连线成45°夹角。优选地...
【技术保护点】
1.一种注入机四极透镜底座，其特征在于，结构包括本体和销钉，所述本体为中空的圆台型结构，所述本体的顶部设置有圆型凹槽，所述圆型凹槽的中心部位设有一圆型孔，所述销钉固定安装于圆型凹槽的底部，所述圆型凹槽上设置有两个螺纹孔一和一个螺纹孔二，所述两个螺纹孔一的尺寸相同，所述两个螺纹孔一的底部各设有一个圆形的凸台，所述本体的外侧面下部设置有六处向外凸起的长方块。/n
【技术特征摘要】
1.一种注入机四极透镜底座，其特征在于，结构包括本体和销钉，所述本体为中空的圆台型结构，所述本体的顶部设置有圆型凹槽，所述圆型凹槽的中心部位设有一圆型孔，所述销钉固定安装于圆型凹槽的底部，所述圆型凹槽上设置有两个螺纹孔一和一个螺纹孔二，所述两个螺纹孔一的尺寸相同，所述两个螺纹孔一的底部各设有一个圆形的凸台，所述本体的外侧面下部设置有六处向外凸起的长方块。
2.根据权利要求1所述的一种注入机四极透镜底座，其特征在于，所述圆型孔的中心与两个螺纹孔一中心连线的中点重合，所述螺纹孔二中心和圆型孔中心的连线与两个螺纹孔一中心的连线成45°夹角。
3.根据权利要求1所述的一种注入机四极透镜底座，其特征在于，以所述两个螺纹孔一的中心连线为对称轴，每三个长方块位于对称轴的一侧，且同侧相邻的两个长方块与圆型孔中心的连线...
【专利技术属性】
技术研发人员：李春财，郭宝军，
申请(专利权)人：吉林瑞能半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：吉林;22
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