能量集中式等离子弧割炬制造技术

本实用新型专利技术公开了一种能量集中式等离子弧割炬，其包括喷嘴以及套设在喷嘴外部的保护罩，喷嘴的底部开设有喷口，保护罩的底部对应喷口开设有出气孔，喷口与出气孔相连通，喷嘴的外壁与保护罩的内壁之间的空间构成保护气室，喷嘴的侧壁上开设有辅助气孔，辅助气孔及出气孔均与保护气室相连通，辅助气孔的轴线与喷口的轴线相互平行。本实用新型专利技术的能量集中式等离子弧割炬，通过设置辅助气孔，能够将经由喷口喷出的气体限制在一定的区域内，使弧柱能量更为集中，并且，由于辅助气孔的轴线与喷口的轴线相互平行，气体可垂直吹向工件表面，缩短了由辅助气孔流出的辅助气体吹向工件表面的行程，降低了弧柱的能量损耗，能量更集中，提升了切割质量。

Energy centralized plasma arc cutting torch

【技术实现步骤摘要】
能量集中式等离子弧割炬
本技术涉及等离子焊割
，特别地，涉及一种能量集中式等离子弧割炬。
技术介绍
割炬时气焊的重要工具，工作时，割炬产生等离子弧射向工件表面，等离子弧内部粒子对工件表面产生巨大的冲击力，释放出大量能量从而使工件材料局部融化并汽化，从而形成切口，以实现切割功能。但是，用于喷出等离子弧的喷口到工件表面具有一定的距离，在等离子弧射向工件表面的行程中会有部分能量损失，从而降低了切割质量，难以满足高质量切割需求。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是：为了克服现有技术中存在的上述问题，现提供一种弧柱能量集中的能量集中式等离子弧割炬。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种能量集中式等离子弧割炬，所述能量集中式等离子弧割炬包括喷嘴以及套设在所述喷嘴外部的保护罩，所述喷嘴的底部开设有喷口，所述保护罩的底部对应所述喷口开设有出气孔，所述喷口与所述出气孔相连通，所述喷嘴的外壁与所述保护罩的内壁之间的空间构成保护气室，所述喷嘴的侧壁上开设有辅助气孔，所述辅助气孔及所述出气孔均与所述保护气室相连通，所述辅助气孔的轴线与所述喷口的轴线相互平行。进一步地，所述辅助气孔具有多个，多个所述辅助气孔沿所述保护罩的轴向均匀分布。进一步地，所述保护罩与所述喷嘴同轴设置，所述喷口沿所述喷嘴的轴向设置，所述出气孔沿所述保护罩的轴向设置，所述出气孔的孔径大于所述喷口的孔径。进一步地，所述能量集中式等离子弧割炬还包括电极，所述喷嘴套设在所述电极的下端的外部，所述电极的外壁与所述喷嘴的内壁之间的空间形成离子气流室，所述离子气流室与所述喷口相连通。进一步地，所述能量集中式等离子弧割炬还包括电极底座和绝缘件，所述电极安装在所述电极底座的下端，所述电极底座收容于所述绝缘件内，所述电极底座的外壁与所述绝缘件的外壁相贴合，所述电极底座的底部的外壁上沿所述电极底座的轴向开设有导气槽，所述导气槽与所述离子气流室及所述保护气室均连通。进一步地，所述能量集中式等离子弧割炬还包括分配器，所述分配器套设在所述电极的外部，所述分配器上开设有分配孔，所述分配孔与所述导气槽及所述离子气流室均连通。进一步地，所述能量集中式等离子弧割炬还包括套管组件，所述套管组件包括内套管，所述内套管的上端套设在所述绝缘件的下端的外部，所述内套管的下端套设在所述喷嘴的上端的外部，所述分配器位于所述喷嘴与所述绝缘件之间，所述内套管、绝缘件、分配器及喷嘴之间夹设的空间构成气体分配室，所述气体分配室与所述导气槽、所述分配孔及所述保护气室均连通。进一步地，所述套管组件还包括绝缘套及外套管，所述绝缘套套设在所述内套管的外部，所述外套管套设在所述绝缘套下端的外部，所述保护罩压接在所述外套管的外部。进一步地，所述能量集中式等离子弧割炬还包括通气管，所述通气管的下端伸入至所述电极的空腔内，所述通气管的外壁与所述电极的内壁之间的空间构成第一冷却气腔，所述通气管的外壁与所述电极底座的内壁之间的空间构成第二冷却气腔，所述电极底座的侧壁上开设有与所述导气槽连通的通气口，所述第二冷却气腔与所述第一冷却气腔及所述通气口均连通。进一步地，所述电极的内底壁的中心处沿所述电极的轴向向上延伸形成有凸起，所述凸起的顶部伸入至所述通气管内。本技术的有益效果是：本技术提供的能量集中式等离子弧割炬，通过设置辅助气孔，能够将经由喷口喷出的气体限制在一定的区域内，减少了弧柱能量扩散，使弧柱能量更为集中；另外，由于辅助气孔的轴线与喷口的轴线相互平行，气体可垂直吹向工件表面，缩短了由辅助气孔流出的辅助气体吹向工件表面的行程，降低了弧柱的能量损耗，能量更集中，提升了切割质量。附图说明下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明。图1是本技术的能量集中式等离子弧割炬的结构示意图；图2是图1所示能量集中式等离子弧割炬中割炬本体的结构示意图；图3是图1所示能量集中式等离子弧割炬中A处的局部放大图；图4是图2所示割炬本体中分配器的结构示意图；图5是图4所示分配器沿B-B的剖视图；图6是图2所示割炬本体中喷嘴的结构示意图。图中零部件名称及编号分别为：割炬本体10外壳11割炬底座12第一抵持缘121出气口122进气口123引弧线124通气孔1211绝缘件13搭接部131出气室132电极底座14导气槽141通气口142供气管143通气管15第一冷却气室151第二冷却气室152电极16凸起161第二抵持缘162分配器17第三抵持缘172分配孔171喷嘴18限位凹槽185离子气流室181喷口182离子气流槽183第二凸缘184填充物19套管组件20内套管21第一凸缘213冷却气室211密封件212绝缘套22外套管23保护罩30出气孔301保护气室302辅助气孔303第四凸缘304固定套40第三凸缘401具体实施方式现在结合附图对本技术作详细的说明。此图为简化的示意图，仅以示意方式说明本技术的基本结构，因此其仅显示与本技术有关的构成。请参阅图1和图2，本技术提供了一种能量集中式等离子弧割炬，该能量集中式等离子弧割炬包括割炬本体10、套设在割炬本体10外部的套管组件20以及安装在割炬本体10下端的保护罩30，工作时，该能量集中式等离子弧割炬产生的等离子弧射向工件(例如，不锈钢或铝材)表面，等离子弧内部粒子对工件表面产生巨大的轰击力，释放出大量的热量，伴随电弧高温所产生的温度使得等离子弧作用处的工件材料局部融化、汽化，在高速运动离子的吹力下，熔化掉的金属和金属氧化物被吹除，从而形成切口。请参阅图2，割炬本体10包括外壳11、割炬底座12、绝缘件13、电极底座14、通气管15、电极16、分配器17以及喷嘴18，其中，割炬底座12安装在外壳11的下端，绝缘件13收容于割炬底座12内，电极底座14收容于绝缘件13内，通气管15收容于电极底座14内，电极16安装在电极底座14的下端且套设在通气管15的外部，分配器17及喷嘴18均套设在电极16的外部。在一个具体的实施方式中，外壳11大致呈上、下两端贯通的中空筒状结构，外壳11由不锈钢材料制成，以提高能量集中式等离子弧割炬的整体强度，同时增强了散热性。割炬底座12大致呈上、下两端贯通的中空筒状结构，割炬底座12的上端插接在外壳11的下端内，割炬底座12的外壁上沿割炬底座12的径向向外延伸形成有第一抵持缘121，当割炬底座12与外壳11安装到位时，第一抵持缘121与外壳11的下端面相抵持，从而对割炬底座12的安装起到限位作用。可以理解地，割炬底座12与外壳11之间还可以通过卡接、螺纹连接等方式连接，此处不作限制。另外，割炬底座12的侧壁上开设有两个相对设置的出气口122，出气口122的一端贯通割炬底座12的外壁后与外部大气连通，出气口122的另一端本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种能量集中式等离子弧割炬，其特征在于：所述能量集中式等离子弧割炬包括喷嘴以及套设在所述喷嘴外部的保护罩，所述喷嘴的底部开设有喷口，所述保护罩的底部对应所述喷口开设有出气孔，所述喷口与所述出气孔相连通，所述喷嘴的外壁与所述保护罩的内壁之间的空间构成保护气室，所述喷嘴的侧壁上开设有辅助气孔，所述辅助气孔及所述出气孔均与所述保护气室相连通，所述辅助气孔的轴线与所述喷口的轴线相互平行。/n

【技术特征摘要】
1.一种能量集中式等离子弧割炬，其特征在于：所述能量集中式等离子弧割炬包括喷嘴以及套设在所述喷嘴外部的保护罩，所述喷嘴的底部开设有喷口，所述保护罩的底部对应所述喷口开设有出气孔，所述喷口与所述出气孔相连通，所述喷嘴的外壁与所述保护罩的内壁之间的空间构成保护气室，所述喷嘴的侧壁上开设有辅助气孔，所述辅助气孔及所述出气孔均与所述保护气室相连通，所述辅助气孔的轴线与所述喷口的轴线相互平行。


2.如权利要求1所述的能量集中式等离子弧割炬，其特征在于：所述辅助气孔具有多个，多个所述辅助气孔沿所述保护罩的轴向均匀分布。


3.如权利要求1所述的能量集中式等离子弧割炬，其特征在于：所述保护罩与所述喷嘴同轴设置，所述喷口沿所述喷嘴的轴向设置，所述出气孔沿所述保护罩的轴向设置，所述出气孔的孔径大于所述喷口的孔径。


4.如权利要求1-3任一项所述的能量集中式等离子弧割炬，其特征在于：所述能量集中式等离子弧割炬还包括电极，所述喷嘴套设在所述电极的下端的外部，所述电极的外壁与所述喷嘴的内壁之间的空间形成离子气流室，所述离子气流室与所述喷口相连通。


5.如权利要求4所述的能量集中式等离子弧割炬，其特征在于：所述能量集中式等离子弧割炬还包括电极底座和绝缘件，所述电极安装在所述电极底座的下端，所述电极底座收容于所述绝缘件内，所述电极底座的外壁与所述绝缘件的外壁相贴合，所述电极底座的底部的外壁上沿所述电极底座的轴向开设有导气槽，所述导气槽与所述离子气流室及所述保护气室均连通。


6.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘宇锋，
申请(专利权)人：常州九圣焊割设备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32