一种清扫系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种清扫系统。本实用新型专利技术的清扫系统，包括待清扫的反应室和残留物处理系统，残留物处理系统包括抽气系统、回收装置和控制阀门；抽气系统包括并联设置的第一抽气组件和第二抽气组件，第一抽气组件的进气端和第二抽气组件的进气端均和反应室的排气端连通，第一抽气组件的排气端和第二抽气组件的排气端均和回收装置的进气端连通；控制阀门包括第一阀门和第二阀门，第一阀门设置在第一抽气组件的进气端，第二阀门设置在第二抽气组件的进气端；在反应室工作时，第一阀门开启，第二阀门关闭；在反应室进行清扫时，第一阀门和第二阀门均开启。本实用新型专利技术的清扫系统，去除反应室残留物的效率较高，对反应系统运行效率的影响较小。

A cleaning system

【技术实现步骤摘要】
一种清扫系统
本技术涉及反应室残留物处理
，尤其涉及一种清扫系统。
技术介绍
化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition，CVD)，指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸汽及反应所需其它气体引入反应室，在基底表面发生化学反应生成薄膜的过程。CVD通常存在高温分解和合成反应，高温分解反应是固态化合物升温分解为固态目标产物和气态副产物的过程，合成反应是多种反应气体在基底表面相互反应沉积生成固体薄膜的过程。由于CVD中上述高温分解和合成反应的存在，必然导致反应室生成大量的副产物，其中一部分副产物会随着反应气体流向尾气端，而另一部分副产物则残留在反应室，残留的这部分副产物会对反应室的状态造成较大影响。通常情况下需要定期将反应室拆解进行维护，通过吸尘器等除尘工具除去反应室内壁、台面等部位吸附的灰尘，清除反应室内的残留物，然后再将反应室重新装配完整。但是，由于需要定期拆解反应室，比较耗费时间和劳动力，且过程中不能进行CVD反应，这会影响CVD系统的运行效率。
技术实现思路
本技术提供一种清扫系统，去除反应室残留物的效率较高，对反应系统运行效率的影响较小。本技术提供一种清扫系统，包括待清扫的反应室和残留物处理系统，残留物处理系统包括抽气系统、回收装置和控制阀门；抽气系统包括并联设置的第一抽气组件和第二抽气组件，第一抽气组件的进气端和第二抽气组件的进气端均和反应室的排气端连通，第一抽气组件的排气端和第二抽气组件的排气端均和回收装置的进气端连通；控制阀门包括第一阀门和第二阀门，第一阀门设置在第一抽气组件的进气端，第二阀门设置在第二抽气组件的进气端；在反应室工作时，第一阀门开启，第二阀门关闭；在反应室进行清扫时，第一阀门和第二阀门均开启。可选的，第一抽气组件和第二抽气组件分别包括至少一个抽气泵，且第一抽气组件或第二抽气组件中包括至少两个抽气泵时，至少两个抽气泵并列设置。可选的，第一抽气组件的抽气泵数量为一个或两个。可选的，反应室包括至少一个反应室；其中，每个反应室的排气端均设置有第三阀门。可选的，抽气系统的进气端设置有第一过滤件。可选的，第一抽气组件和第二抽气组件的进气端均设置有第二过滤件，且第二过滤件位于抽气泵之前。可选的，清扫系统还包括行走装置，行走装置连接在抽气系统和回收装置的至少一者上，用于带动残留物处理系统相对于待清扫的反应室移动。可选的，第一抽气组件的排气端设置有第四阀门，第二抽气组件的排气端设置有第五阀门；在反应室工作时，第四阀门开启，第五阀门关闭；在反应室进行清扫时，第四阀门和第五阀门均开启。可选的，清扫系统还包括控制器，控制器和控制阀门电连接，用于控制控制阀门的开闭，以使反应室工作时，与第二抽气组件连通的控制阀门关闭。可选的，反应室至少包括化学气相沉积反应室。本技术提供的清扫系统，主要由待清扫的反应室和残留物处理系统组成，残留物处理系统由抽气系统和回收装置组成，通过抽气系统抽走反应室在反应过程中产生的残留物，抽气系统在将残留物输送至回收装置储存，抽气系统和反应室之间设置控制阀门以控制抽气系统和反应室之间的通断。其中，抽气系统包括并联设置的第一抽气组件和第二抽气组件，控制阀门包括第一阀门和第二阀门，通过在第一抽气组件的进气端设置第一阀门，在第二抽气组件的进气端设置第二阀门，进而可在反应室工作时控制第一阀门开启而第二阀门关闭，从而仅控制第一抽气组件工作以维持反应室工作时所需压力；在需要对反应室进行清扫时控制第一阀门和第二阀门均开启，从而控制第一抽气组件和第二抽气组件同时工作，在第一抽气组件的基础上通过增加第二抽气组件来增大抽气系统的抽气压力，可快速抽走反应室的残留物，去除反应室残留物的效率较高，对反应系统的运行效率的影响较小。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例。对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例提供的一种清扫系统的结构示意图；图2为本技术实施例提供的第二种清扫系统的结构示意图；图3为本技术实施例提供的第三种清扫系统的结构示意图；图4为本技术实施例提供的第四种清扫系统的结构示意图；图5为本技术实施例提供的第五种清扫系统的结构示意图。附图标记说明：100-清扫系统；110-反应室；120-抽气系统；121-第一抽气组件；122-第二抽气组件；123-抽气泵；124-第一过滤件；125-第二过滤件；130-回收装置；141-第一阀门；142-第二阀门；143-第三阀门；144-第四阀门；145-第五阀门。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。对于一些进行高温分解和合成反应等反应过程中会产生副产物的化学反应，反应室内会生成大量的副产物，一部分副产物会随着反应气体流向尾气端，被尾气收集装置收集，还存在一部分副产物未随反应气体进入尾气收集装置，这部分副产物通常会残留在反应室，吸附在反应室内壁上。残留在反应室的副产物会对反应室的状态造成较大影响，会对反应室沉积的材料的性质产生影响，尤其随着反应室进行的反应次数的增加，残留的副产物增多，造成的影响也随之增大，也会导致多次连续反应之间的稳定性变差，影响需要多次反应才能沉积完成的材料的性状。通常需要定期将反应室拆开对反应室进行维护，通过吸尘器等吸尘工具吸出残留在反应室的内壁等处的副产物。由于需要拆开反应室清理残留的副产物，这会耗费较多时间，并且劳动强度较大，另外拆开反应室会使反应室暴露于空气中，也会导致反应室能够恢复正常状态的恢复期较长，这些都会影响反应系统的运行效率，且花费的劳动力较多。有鉴于此，下述实施例提供一种清扫系统，以提高清扫反应室残留物的效率，减小清扫过程对反应室的影响，提高反应室的运行效率，同时能够降低清扫反应室的劳动强度。图1为本技术实施例提供的一种清扫系统的结构示意图。如图1所示，本实施例提供一种清扫系统100，包括待清扫的反应室110和残留物处理系统，残留物处理系统包括抽气系统120、回收装置130和控制阀门；抽气系统120包括并联设置的第一抽气组件121和第二抽气组件122，第一抽气组件121的进气端和第二抽气组件122的进气端均和反应室110的排气端连通，第一抽气组件121的排气端和第二抽气组件122的排气端均和回本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清扫系统，其特征在于，包括待清扫的反应室和残留物处理系统，所述残留物处理系统包括抽气系统、回收装置和控制阀门；/n所述抽气系统包括并联设置的第一抽气组件和第二抽气组件，所述第一抽气组件的进气端和所述第二抽气组件的进气端均和所述反应室的排气端连通，所述第一抽气组件的排气端和所述第二抽气组件的排气端均和所述回收装置的进气端连通；所述控制阀门包括第一阀门和第二阀门，所述第一阀门设置在所述第一抽气组件的进气端，所述第二阀门设置在所述第二抽气组件的进气端；/n在所述反应室工作时，所述第一阀门开启，所述第二阀门关闭；/n在所述反应室进行清扫时，所述第一阀门和所述第二阀门均开启。/n

【技术特征摘要】
1.一种清扫系统，其特征在于，包括待清扫的反应室和残留物处理系统，所述残留物处理系统包括抽气系统、回收装置和控制阀门；
所述抽气系统包括并联设置的第一抽气组件和第二抽气组件，所述第一抽气组件的进气端和所述第二抽气组件的进气端均和所述反应室的排气端连通，所述第一抽气组件的排气端和所述第二抽气组件的排气端均和所述回收装置的进气端连通；所述控制阀门包括第一阀门和第二阀门，所述第一阀门设置在所述第一抽气组件的进气端，所述第二阀门设置在所述第二抽气组件的进气端；
在所述反应室工作时，所述第一阀门开启，所述第二阀门关闭；
在所述反应室进行清扫时，所述第一阀门和所述第二阀门均开启。


2.根据权利要求1所述的清扫系统，其特征在于，所述第一抽气组件和所述第二抽气组件分别包括至少一个抽气泵，且所述第一抽气组件或所述第二抽气组件中包括至少两个所述抽气泵时，至少两个所述抽气泵并列设置。


3.根据权利要求2所述的清扫系统，其特征在于，所述第一抽气组件的所述抽气泵数量为一个或两个。


4.根据权利要求1所述的清扫系统，其特征在于，所述反应室包括至少一个反应室；其中，每个所述反应室的排气端均设置有第三阀门。

【专利技术属性】
技术研发人员：康建，黄小辉，杨彬斌，
申请(专利权)人：圆融光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34