具有含硫取代基的杀有害生物活性杂环衍生物制造技术

具有式I的化合物

Heterocyclic derivatives with sulfur-containing substituents

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有含硫取代基的杀有害生物活性杂环衍生物本专利技术涉及包含硫取代基的杀有害生物活性(特别是杀昆虫活性)杂环衍生物、涉及其制备方法、涉及包含那些化合物的组合物、并且涉及它们用于控制动物有害生物(包括节肢动物并且特别是昆虫或蜱螨目的代表)的用途。具有杀有害生物作用的杂环化合物是已知的并描述于例如WO2014/123206、WO2014/132972和WO2015/121136。现已发现具有含硫苯基和吡啶基取代基的新型杀有害生物活性杂环酰基硫亚胺和亚砜亚胺衍生物。本专利技术因此涉及具有式I的化合物，其中A是CH或N；X是S、SO或SO2；R1是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C3-C6环烷基-C1-C4烷基；R7和R8彼此独立地是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6环烷基、C1-C6氰基烷基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、吡啶基或苯基，其中所述吡啶基或苯基可以被选自由以下组成的组的取代基单取代或多取代：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或者R7和R8与它们所连的硫原子一起形成四至六元饱和环系统，所述环系统可以被选自由以下组成的组的取代基单取代或多取代：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷基；并且所述环系统可以包含一个选自由以下组成的组的杂原子：氮、硫和氧；n是0或1；Q是选自由以下组成的组的基团：式Q1至Q4其中箭头指示与掺入了基团A的环的附接点；并且其中X1是O、S或NR3，其中R3是C1-C4烷基；R2是卤素、C1-C6卤代烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基或C1-C6卤代烷氧基；G1是N或CH；G2和G3彼此独立地是N或CH；并且所述具有式I的化合物的农用化学上可接受的盐、立体异构体、对映异构体、互变异构体和N-氧化物。具有至少一个碱性中心的具有式I的化合物可以例如与以下形成例如酸加成盐：强无机酸(例如矿物酸，例如高氯酸、硫酸、硝酸、硝酸类酸(nitroseacid)、磷酸或氢卤酸)，强有机羧酸(例如未取代的或例如被卤素取代的C1-C4烷羧酸，例如乙酸，例如饱和或不饱和的二羧酸，例如草酸、丙二酸、琥珀酸、马来酸、富马酸或邻苯二甲酸，例如羟基羧酸，例如抗坏血酸、乳酸、苹果酸、酒石酸或柠檬酸，或例如苯甲酸)，或有机磺酸(例如未取代的或例如被卤素取代的C1-C4烷磺酸或芳基磺酸，例如甲烷磺酸或对甲苯磺酸)。具有至少一个酸性基团的具有式I的化合物可以例如与碱形成盐，例如矿物盐，例如碱金属或碱土金属盐，例如钠盐、钾盐或镁盐；或与氨或有机胺(例如吗啉，哌啶，吡咯烷，单、二或三低级烷基胺，例如乙胺、二乙胺、三乙胺或二甲基丙基胺，或单、二或三羟基低级烷基胺，例如单乙醇胺、二乙醇胺或三乙醇胺)形成盐。在取代基定义中出现的烷基可以是直链的或支链的，并且是例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、壬基、癸基以及它们的支链异构体。烷基硫烷基、烷基亚磺酰基、烷基磺酰基、烷氧基、烯基和炔基基团衍生自所提及的烷基基团。烯基和炔基可以是单不饱和的或多不饱和的。卤素通常是氟、氯、溴或碘。相应地，这也适用于与其他含义结合的卤素，例如卤代烷基或卤代苯基。卤代烷基优选地具有从1至6个碳原子的链长。卤代烷基是例如氟甲基、二氟甲基、三氟甲基、氯甲基、二氯甲基、三氯甲基、2,2,2-三氟乙基、2-氟乙基、2-氯乙基、五氟乙基、1,1-二氟-2,2,2-三氯乙基、2,2,3,3-四氟乙基和2,2,2-三氯乙基；优选地是三氯甲基、二氟氯甲基、二氟甲基、三氟甲基和二氯氟甲基。烷氧基优选地具有从1至6个碳原子的优选的链长。烷氧基是例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、正丁氧基、异丁氧基、仲丁氧基和叔丁氧基并且还是同分异构的戊氧基和己氧基基团；优选地是甲氧基和乙氧基。烷氧基烷基基团优选地具有1至6个碳原子的链长，更优选地1至4个碳原子的链长。烷氧基烷基是例如甲氧基甲基、甲氧基乙基、乙氧基甲基、乙氧基乙基、正丙氧基甲基、正丙氧基乙基、异丙氧基甲基或异丙氧基乙基。烷基硫烷基是例如甲基硫烷基、乙基硫烷基、丙基硫烷基、异丙基硫烷基、丁基硫烷基、戊基硫烷基、以及己基硫烷基。烷基亚磺酰基是例如甲基亚磺酰基、乙基亚磺酰基、丙基亚磺酰基、异丙基亚磺酰基、丁基亚磺酰基、戊基亚磺酰基和己基亚磺酰基。烷基磺酰基是例如甲基磺酰基、乙基磺酰基、丙基磺酰基、异丙基磺酰基、丁基磺酰基、戊基磺酰基和己基磺酰基。环烷基优选地具有从3至6个环碳原子，例如环丙基、环丁基、环戊基和环己基。卤代烷氧基基团优选具有从1至4个碳原子的链长。卤代烷氧基是例如二氟甲氧基、三氟甲氧基或2,2,2-三氟乙氧基。卤代烷基硫烷基基团优选地具有从1至4个碳原子的链长。卤代烷基硫烷基是例如二氟甲基硫烷基、三氟甲基硫烷基或2,2,2-三氟乙基硫烷基。类似的考虑适用于基团C1-C4卤代烷基亚磺酰基和C1-C4卤代烷基磺酰基，它们可以是例如三氟甲基亚磺酰基、三氟甲基磺酰基或2,2,2-三氟乙基磺酰基。在本专利技术的上下文中，取代基定义中的“单到多取代的”典型地意指，取决于取代基的化学结构，单取代的到四次取代的，优选是单取代的到三次取代的，更优选是单或二取代的。自由基表示甲基。根据本专利技术的具有式I的化合物还包括在盐形成期间可能形成的水合物。X1、Q、R1、R2、R7、R8、X、A和n的优选值以其任何组合如下所示：优选地，X1是NR3，其中R3是C1-C4烷基。最优选地X1是NCH3。优选地，Q是选自由以下组成的组的基团：式Q1a、Q1b、Q2a、Q3a和Q4a其中箭头指示与掺入了基团A的环的附接点。最优选地Q是基团Q1a、Q1b或Q2a。优选地，R1是C1-C4烷基或C3-C6环烷基-C1-C4烷基。更优选地，R1是C1-C4烷基或环丙基甲基。甚至更优选地，R1是甲基、乙基、正丙基、异丙基或环丙基甲基。最优选地R1是乙基。优选地，R2是卤素、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基或C1-C4卤代烷基磺酰基。更优选地，R2是卤素或C1-C3卤代烷基。甚至更优选地，R2是C1-C2卤代烷基。最优选地R2是三氟甲基。优选地，R7和R8各自独立地是C1-C6烷基；或R7和R8与它们所附接的硫原子一起形成四至六元饱和环系统，所述环系统可以含有一个氧原子。更优选地，R7和R8各自独立地是C1-C4烷基；或R7和R8与它们所附接的硫原子一起形成没有氧原子的四元或五元饱和环系统，或形成可以包含一个氧原子本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有式I的化合物/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170502 IN 2017110155151.一种具有式I的化合物



其中
A是CH或N；
X是S、SO或SO2；
R1是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基或C3-C6环烷基-C1-C4烷基；
R7和R8彼此独立地是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6环烷基、C1-C6氰基烷基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、吡啶基或苯基，其中所述吡啶基或苯基可以被选自下组的取代基单取代或多取代，该组由以下组成：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和–C(O)C1-C4卤代烷基；或者
R7和R8与它们所附接的硫原子一起形成四至六元饱和环系统，所述环系统可以被选自由以下组成的组的取代基单取代或多取代：卤素、氰基、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基和C1-C4卤代烷基；并且所述环系统可以包含一个选自由以下组成的组的杂原子：氮、硫和氧；
n是0或1；
Q是选自由以下组成的组的基团：式Q1至Q4



其中箭头指示与掺入了基团A的环的附接点；
并且其中
X1是O、S或NR3，其中R3是C1-C4烷基；
R2是卤素、C1-C6卤代烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基或C1-C6卤代烷氧基；
G1是N或CH；
G2和G3彼此独立地是N或CH；以及
所述具有式I的化合物的农用化学上可接受的盐、立体异构体、对映异构体、互变异构体和N-氧化物。


2.根据权利要求1所述的具有式I的化合物，所述化合物由具有式I-1的化合物表示



其中Q、A、n、R7和R8是如权利要求1中在式I下所定义的；
Xa1是S、SO或SO2；并且
Ra1是甲基、乙基、正丙基、异丙基或环丙基甲基。


3.根据权利要求1所述的具有式I的化合物，所述化合物由具有式I-2的化合物表示



其中X1、R2、G1、A、n、R7和R8是如权利要求1中在式I下所定义的；
Xa2是S、SO或SO2；并且
Ra2是甲基、乙基、正丙基、异丙基或环丙基甲基。


4.根据权利要求1所述的具有式I的化合物，所述化合物由具有式I-3的化合物表示



其中
A是N；
R2是C1-C6卤代烷基；
G1是N或CH；
n是0或1；
R7和R8彼此独立地是C1-C6烷基；或者
R7和R8与它们所附接的硫原子一起形成六元饱和环系统，所述环系统可以含有一个氧原子。


5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·米尔巴赫，A·埃德蒙兹，S·伦德勒，V·斯科瓦尔，G·拉瓦尔，I·森，
申请(专利权)人：先正达参股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士;CH