调色剂制造技术

本发明专利技术涉及调色剂。一种调色剂，其包括调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含调色剂基础颗粒和在调色剂基础颗粒的表面上的有机硅聚合物，其中有机硅聚合物在调色剂基础颗粒的表面上形成具有规定结构的凸部，并且在调色剂截面中，当凸起宽度w为凸部和调色剂基础颗粒形成连续界面的部分的长度，凸起直径D为凸部的最大长度，和凸起高度H为从凸部的顶点至沿调色剂基础颗粒表面的圆周的线的长度，凸起直径D与凸起宽度w的比D/w为0.33至0.80的这些凸部的个数比例为70个数％以上。

Toner

【技术实现步骤摘要】
调色剂
本专利技术涉及使用于如电子照相设备、和静电打印设备等图像形成设备的静电荷图像显影的调色剂。
技术介绍
激光打印机和复印机是使用调色剂的基于电子照相系统的装置的典型实例。近年来，着色以戏剧性的方式向前发展，并且需要质地更高水平的图像品质。转印性的改进是基于调色剂的电子照相术的问题。例如，当将在感光构件，即静电图像承载构件上形成的调色剂图像在转印步骤期间转印至转印材料时，在感光构件上会残留调色剂(未转印的调色剂)。对于改善调色剂的转印性，通常已知降低调色剂对静电图像承载构件的附着力是有效的。将外部添加剂附着至调色剂颗粒表面是用于降低调色剂的附着力的手段的实例。特别地，在用于改善转印效率的已知方法中，调色剂和静电图像承载构件之间的物理附着力通过由于具有大粒径的球状外部添加剂的添加而产生的间隔物效果而降低。然而，尽管这作为用于改善转印效率的方法是有效的，但是由于长期图像输出使得球状大粒径外部添加剂经历迁移、脱离、和包埋(burial)，于是不能用作间隔物。结果，难以稳定地获得改善转印效率的预期效果。因此，在日本专利申请特开No.2009-36980中提出了通过实现大粒径外部添加剂的半嵌入(semi-embedding)来抑制外部添加剂迁移和脱离的方法。另一方面，日本专利申请特开No.2008-257217提出了通过具有半球形状的大粒径外部添加剂的使用来抑制脱离和包埋的方法。另一方面，为了通过除外部添加以外的方法实现转印性的改进，还对其中调色剂颗粒表面用机硅化合物涂覆的方法进行了广泛的研究。作为用硅化合物涂覆调色剂颗粒表面的技术构思的实例，日本专利申请特开No.2001-75304公开了聚合调色剂的生产方法，该方法的特征在于，将硅烷偶联剂添加至反应体系中。在日本专利申请特开No.2017-138462中提出了使用大粒径外部添加剂与硅烷偶联剂的组合的方法。该方法使得可以在用硅烷偶联剂将大粒径外部添加剂固定在调色剂颗粒表面上的同时控制调色剂颗粒表面的粗糙度。结果，可以抑制大粒径外部添加剂的迁移、脱离和包埋，并且可以长期表现出高的转印性。
技术实现思路
通过实现大粒径外部添加剂的半嵌入，日本专利申请特开No.2009-36980中的专利技术能够抑制大粒径外部添加剂的迁移和脱离，从而提供长期表现的间隔物效果。然而，发现作为半嵌入的结果，在耐久试验的后半部分中包埋加速。另外，根据日本专利申请特开No.2008-257217使用半球形状的大粒径外部添加剂确实抑制了大粒径外部添加剂的迁移和包埋，因此提供长期表现的间隔物效果。然而，发现用该方法实现大粒径外部添加剂在调色剂颗粒表面上的均匀固定是有问题的，因此，用于适应使用寿命的进一步延长的转印效率改善效果的维持是有问题的。在日本专利申请特开No.2009-36980和2008-257217两者的情况下，还发现由于干式外部添加的使用而产生大粒径外部添加剂的固定的均匀性的问题。因此，在日本专利申请特开No.2009-36980的情况下，不会完全地抑制迁移和脱离，并且通过脱离的大粒径外部添加剂会产生构件污染。在日本专利申请特开No.2008-257217的情况下也产生构件污染，因为当半球形状的凸部面向调色剂颗粒表面时，促进了迁移和脱离的发生。另一方面，在日本专利申请特开No.2001-75304的情况下，由于由硅化合物在调色剂颗粒表面上的沉积量不充分而导致的通过硅化合物的不充分涂覆，使得未获得高的转印性。在日本专利申请特开No.2017-138462的情况下，发现因为所使用的大粒径外部添加剂是球体，所以由调色剂接收的沿法线方向的负荷最终集中在大粒径外部添加剂上的单个点处，并且产生关于抵抗包埋的能力的问题。结果，就获得使用寿命的进一步延长而言，这是不令人满意的。本专利技术的目的是解决这些问题。即，本专利技术提供显示高的转印性并且即使在长期使用期间也耐变化、由此维持高的转印性的调色剂。作为深入研究的结果，本专利技术人发现通过在调色剂颗粒表面上形成凸部并且通过控制这些凸部的形状来获得解决上述问题的调色剂。因此，本专利技术涉及一种调色剂，其包括调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含调色剂基础颗粒和在调色剂基础颗粒的表面上的有机硅聚合物，其中有机硅聚合物具有由下式(1)给出的结构；有机硅聚合物在调色剂基础颗粒的表面上形成凸部；和在通过用扫描透射型电子显微镜STEM观察调色剂截面，沿调色剂基础颗粒表面的圆周绘制线，并且基于沿圆周的该线来转换而获得的平面图像中，和假设将对于凸部和调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿圆周的线的长度取作凸起宽度w，将凸部沿凸起宽度w的法线方向的最大长度取作凸起直径D，和将在形成凸起直径D的线段中从凸部的顶点至沿圆周的线的长度取作凸起高度H，则在凸起高度H为40nm至300nm的凸部中，凸起直径D与凸起宽度w的比D/w为0.33至0.80的凸部的个数比例P(D/w)为70个数％以上。R-SiO3/2(1)在式中，R表示具有1至6个碳的烷基、或苯基。由此本专利技术可以提供显示高的转印性并且即使在长期使用期间也耐变化、因此维持高的转印性的调色剂。参照附图从以下示例性实施方案的描述，本专利技术的其它特征将变得显而易见。附图说明图1为用STEM观察到的调色剂截面的示意图；图2为示出测量调色剂上的凸起形状的方法的示意图；图3为示出测量调色剂上的凸起形状的方法的示意图；和图4为示出测量调色剂上的凸起形状的方法的示意图。具体实施方式以下描述本专利技术的实施方案，但是本专利技术不限于以下实施方案或者不受以下实施方案限制。除非另外具体说明，否则表示数值范围的表述“XX以上且YY以下”和“XX至YY”在本专利技术中是指包括作为端点的下限和上限的数值范围。根据本专利技术的调色剂涉及包括调色剂颗粒的调色剂，所述调色剂颗粒包含调色剂基础颗粒和在调色剂基础颗粒的表面上的有机硅聚合物，其中有机硅聚合物具有由下式(1)给出的结构；有机硅聚合物在调色剂基础颗粒的表面上形成凸部；和在通过用扫描透射型电子显微镜STEM观察调色剂截面，沿调色剂基础颗粒表面的圆周绘制线，并且基于沿圆周的该线来转换而获得的平面图像中，和假设将对于凸部和调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿圆周的线的长度取作凸起宽度w，将凸部沿凸起宽度w的法线方向的最大长度取作凸起直径D，和将在形成凸起直径D的线段中从凸部的顶点至沿圆周的线的长度取作凸起高度H，则在凸起高度H为40nm至300nm的凸部中，凸起直径D与凸起宽度w的比D/w为0.33至0.80的凸部的个数比例P(D/w)为70个数％以上。R-SiO3/2(1)在式中，R表示具有1至6个碳的烷基、或苯基。以下详细描述上述条件和要求。根据本专利技术的调色剂在调色剂颗粒表面上具有包含有机硅聚合物的凸部。这些凸部与调色剂基础颗粒的表面面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种调色剂，其特征在于，其包括：/n调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含调色剂基础颗粒和在所述调色剂基础颗粒的表面上存在的有机硅聚合物，其中/n所述有机硅聚合物具有由下式(1)给出的结构；/n所述有机硅聚合物在所述调色剂基础颗粒的表面上形成凸部；和/n在通过用扫描透射型电子显微镜STEM观察所述调色剂的截面，沿所述调色剂基础颗粒表面的圆周绘制线，并且基于沿所述圆周的该线来转换而获得的平面图像中，和/n假设将对于所述凸部和所述调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿所述圆周的线的长度取作凸起宽度w，将所述凸部沿所述凸起宽度w的法线方向的最大长度取作凸起直径D，和将在形成所述凸起直径D的线段中从所述凸部的顶点至沿所述圆周的线的长度取作凸起高度H，/n则在所述凸起高度H为40nm至300nm的所述凸部中，所述凸起直径D与所述凸起宽度w的比D/w为0.33至0.80的凸部的个数比例P(D/w)为70个数％以上，/nR-SiO

【技术特征摘要】
20180717 JP 2018-1343681.一种调色剂，其特征在于，其包括：
调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含调色剂基础颗粒和在所述调色剂基础颗粒的表面上存在的有机硅聚合物，其中
所述有机硅聚合物具有由下式(1)给出的结构；
所述有机硅聚合物在所述调色剂基础颗粒的表面上形成凸部；和
在通过用扫描透射型电子显微镜STEM观察所述调色剂的截面，沿所述调色剂基础颗粒表面的圆周绘制线，并且基于沿所述圆周的该线来转换而获得的平面图像中，和
假设将对于所述凸部和所述调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿所述圆周的线的长度取作凸起宽度w，将所述凸部沿所述凸起宽度w的法线方向的最大长度取作凸起直径D，和将在形成所述凸起直径D的线段中从所述凸部的顶点至沿所述圆周的线的长度取作凸起高度H，
则在所述凸起高度H为40nm至300nm的所述凸部中，所述凸起直径D与所述凸起宽度w的比D/w为0.33至0.80的凸部的个数比...

【专利技术属性】
技术研发人员：照井雄平，梅田宜良，松永智教，琴谷昇平，佐藤正道，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP