一种可移动的光刻用真空基片夹具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种可移动的光刻用真空基片夹具，涉及半导体制备设备技术领域，包括一个与基片贴合的真空载物台；载物台内设有N组真空吸附结构；真空吸附结构在载物台平面上的投影面积小于待吸附基片的面积；每组真空吸附结构包括M个真空孔；真空孔为通孔；相邻的真空孔之间通过设在载物台内部的真空槽相连通；所述载物台底部设有与真空吸附结构配套的N个真空吸盘；真空吸附结构的底部被对应的真空吸盘覆盖；每个所述真空吸盘的根部设有真空管，N个真空管与设在真空管末端的一个共同的真空总开关连接；还包括可移动支撑座。该夹具不仅便于调整基片位置、而且能够一机多用，提高夹具利用率、降低成本，能根据需要随时移动到指定位置。

A movable vacuum substrate fixture for lithography

【技术实现步骤摘要】
一种可移动的光刻用真空基片夹具
本技术涉及半导体制备设备
，特别地，涉及到一种可移动的光刻用真空基片夹具。
技术介绍
在半导体制造中，芯片的制作一般都要采用基片的光刻技术；用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜板(也称作光刻板)，其作用是：在基片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。但是目前的实验和生产中，一旦遇到特殊形状和尺寸的基片，而掩膜版的位置又不能调整时，就需要通过调整夹具来调整基片的位置，或者按照需求定制特殊的基片夹具。但定制的基片夹具通常是一对一的设计(即一种基片夹具对应一种形状或尺寸的基片)，不同的基片要制作多种夹具、耗时耗财、并且利用率不高；而且通常的基片夹具均为机械硬性夹持方法，存在损伤基片的可能性。此外，普通的基片夹具位置固定，一旦掩膜版的位置又不能调整时，由于基片夹具部件数量较多，来回搬动非常不便，很可能破坏已经调整好的基片定位，因此迫切需要一种可移动的光刻用基片夹具。
技术实现思路
本技术针对现有技术中存在的上述技术问题，提供了一种结构简单合理、使用方便快捷的可移动的光刻用真空基片夹具。该夹具不仅便于调整基片位置、而且能够一机多用，提高夹具利用率、降低成本，能根据需要随时移动到指定位置。本技术为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：一种可移动的光刻用真空基片夹具，包括一个与基片贴合的真空载物台；所述载物台内设有N组真空吸附结构，N为自然数且N≧1；真空吸附结构在载物台平面上的投影面积略小于待吸附基片的面积；每组所述真空吸附结构包括沿载物台厚度方向设置的M个真空孔，M为自然数且M≧1；所述真空孔为通孔；相邻的真空孔之间通过设在载物台内部的真空槽相连通；所述载物台底部设有与真空吸附结构配套的N个真空吸盘；真空吸附结构的底部被对应的真空吸盘覆盖；真空吸盘与载物台相接处密封；每个所述真空吸盘的根部中心设有一根与真空吸附结构连通的真空管，N个真空管与设在真空管末端的一个共同的真空总开关连接。还包括可移动支撑座；所述可移动支撑座包括一个承载载物台的支撑体；支撑体下方相对的两侧设有万向轮；万向轮上设有锁定机构。进一步，所述载物台为圆柱形；所述支撑体的中心设有贯通上下端面的圆柱形阶梯孔；所述载物台通过所述阶梯孔卡合在所述可移动支撑座上。进一步，所述载物台为方块形；所述支撑体的中心设有贯通上下端面的方形阶梯孔；所述载物台通过所述阶梯孔卡合在所述支撑体上。进一步，所述真空吸盘均置于所述阶梯孔的下孔内；所有真空管贯通所述下孔并与外部连通。进一步，所述阶梯孔上孔的深度小于载物台的厚度。进一步，每个所述真空管上设有一个控制该真空管工作状态的真空分开关。进一步，N组真空吸附结构在载物台上的投影面积大小不等。进一步，M＝3。更进一步，3个所述真空孔呈等边三角形排列，待吸附基片的中心与该等边三角形的中心重合。本技术具有的优点和积极效果是：本技术的真空基片夹具结构简单合理易操作，可以满足同一个载物台对不同大小和形状基片的固定，可以高效的进行光刻操作；而且真空吸附的方法对基片不会造成损伤，相较于机械夹具的硬性接触，本技术利于提高成品芯片的合格率；而且能够一机多用、提高夹具利用率、避免了定制特殊夹具造成的成本浪费。真空分开关的设置可以满足对各个真空吸附结构有选择的开启。在光刻板不能移动的情况下，所述可移动支撑座能够快速方便的将真空基片夹具移动到指定位置，不会破坏已经完成的基片定位。附图说明：图1是本技术优选实施例中真空基片夹具的装配示意图；图2是本技术优选实施例中真空基片夹具的俯视图；图3是本技术优选实施例中可移动支撑座的俯视图(阶梯孔为圆形)；图4是本技术优选实施例中可移动支撑座的仰视图；图5是本技术另一优选实施例中可移动支撑座的俯视图(阶梯孔为方形)。其中：1、载物台；1-1、真空孔；1-2、真空槽；2、真空吸盘；3、真空管；4、真空总开关；5、真空分开关；6、基片；7、支撑体；8、万向轮；9、锁定机构；10、阶梯孔；10a、上孔；10b、下孔；11、手柄；11a、水平部；11b、竖直部。具体实施方式为能进一步了解本技术的
技术实现思路
、特点及功效，兹例举以下实施例，并配合附图详细说明如下：如图1至图5所示，本技术公开了一种可移动的光刻用真空基片夹具，包括一个可与基片紧密贴合的真空载物台1；所述载物台1内设有N组真空吸附结构,N为自然数且N≧1；真空吸附结构在载物台1平面上的投影面积略小于待吸附基片6的面积；每组所述真空吸附结构包括沿载物台1厚度方向设置的M个真空孔1-1，M为自然数且M≧1；所述真空孔1-1为通孔；相邻的真空孔1-1之间通过设在载物台1内部的真空槽1-2相连通；所述载物台1底部设有与真空吸附结构配套的N个真空吸盘2；为了保证真空吸附结构能有良好的真空环境，从而对基片6有较好的吸附力，真空吸附结构的底部被对应的真空吸盘2覆盖；真空吸盘2与载物台1相接处密封；每个所述真空吸盘2的根部中心设有一根与真空吸附结构连通的真空管3，N个真空管3与设在末端的一个共同的真空总开关4连接；当真空总开关4打开时，所有真空管3处于待工作状态；优选的，每个真空管3上设有一个控制该管工作状态的真空分开关5；使用时，可以根据使用情况打开需要的真空分开关5，避免了能源浪费。真空总开关4、真空分开关5是控制管路或某封闭空间的真空度的开关，又称真空继电器，该元件为现有技术，此处不再赘述。优选的，所有的真空孔1-1直径相等。优选的，M＝3；3个所述真空孔1-1呈等边三角形分布，待吸附基片6的中心与该等边三角形的中心重合，这样吸附效果更好。优选的，所述真空吸盘2通过粘接或其他现有的的方式固定在载物台1底部。优选的，N组真空吸附结构在载物台1上的投影面积大小不等；这样就可以根据基片6的大小选择合适的真空吸附结构，从而将基片6吸附在载物台1上。还包括一个承载所述载物台1的可移动支撑座；所述可移动支撑座包括一个方块形的承载载物台1的支撑体7；所述支撑体7下方相对的两侧设有万向轮8；所述万向轮8上设有锁定机构9；操作人员可以将支撑体7拖拽到指定区域，然后通过锁定机构9将万向轮8锁定，防止真空基片夹具移动；优选的，所述载物台1为圆柱形；所述支撑体7的中心设有贯通上下端面的圆柱形阶梯孔10；所述载物台1通过所述阶梯孔10卡合在所述支撑体7上；具体的，阶梯孔上孔10a的直径略大于载物台1的直径；阶梯孔10内的台阶与载物台1的下端面接触配合；阶梯孔下孔10b的直径略小于载物台1的直径从而使得所有真空吸盘2都置于所述下孔10b内；所有真空管3贯通所述下孔10b并与外部连通；同理，所述载物台1可以为方块形；所述支撑体7的中心设有贯通上下端本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可移动的光刻用真空基片夹具，其特征在于：包括一个与基片贴合的真空载物台；所述载物台内设有N组真空吸附结构，N为自然数且N≧1；真空吸附结构在载物台平面上的投影面积略小于待吸附基片的面积；/n每组所述真空吸附结构包括沿载物台厚度方向设置的M个真空孔，M为自然数且M≧1；所述真空孔为通孔；相邻的真空孔之间通过设在载物台内部的真空槽相连通；/n所述载物台底部设有与真空吸附结构配套的N个真空吸盘；真空吸附结构的底部被对应的真空吸盘覆盖；真空吸盘与载物台相接处密封；/n每个所述真空吸盘的根部中心设有一根与真空吸附结构连通的真空管，N个真空管与设在真空管末端的一个共同的真空总开关连接；/n还包括可移动支撑座；所述可移动支撑座包括一个承载载物台的支撑体；支撑体下方相对的两侧设有万向轮；万向轮上设有锁定机构。/n

【技术特征摘要】
1.一种可移动的光刻用真空基片夹具，其特征在于：包括一个与基片贴合的真空载物台；所述载物台内设有N组真空吸附结构，N为自然数且N≧1；真空吸附结构在载物台平面上的投影面积略小于待吸附基片的面积；
每组所述真空吸附结构包括沿载物台厚度方向设置的M个真空孔，M为自然数且M≧1；所述真空孔为通孔；相邻的真空孔之间通过设在载物台内部的真空槽相连通；
所述载物台底部设有与真空吸附结构配套的N个真空吸盘；真空吸附结构的底部被对应的真空吸盘覆盖；真空吸盘与载物台相接处密封；
每个所述真空吸盘的根部中心设有一根与真空吸附结构连通的真空管，N个真空管与设在真空管末端的一个共同的真空总开关连接；
还包括可移动支撑座；所述可移动支撑座包括一个承载载物台的支撑体；支撑体下方相对的两侧设有万向轮；万向轮上设有锁定机构。


2.如权利要求1所述的可移动的光刻用真空基片夹具，其特征在于：所述载物台为圆柱形；所述支撑体的中心设有贯通上下端面的圆柱形阶梯孔；所述载物台通过所述阶梯孔卡合在所述可移动支撑座上。


3....

【专利技术属性】
技术研发人员：闫青芝，曲迪，陈墨，白国人，靳春艳，
申请(专利权)人：天津华慧芯科技集团有限公司，
类型：新型
国别省市：天津;12