光学防伪元件及其制备方法和光学防伪产品技术

本发明专利技术实施例提供一种光学防伪元件及其制备方法和光学防伪产品，属于光学防伪领域。该光学防伪元件包括：透明的起伏结构层，包括第一起伏结构和第二起伏结构，所述第一起伏结构和所述第二起伏结构满足以下条件：所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比，和/或所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积；以及干涉光变镀层，形成在所述第一起伏结构上，其中，所述干涉光变镀层在被从两侧观察时均呈现光学变色效果，所述光学防伪元件被透射观察时呈现所述第二起伏结构的边界形成的图像。藉此，实现了光学防伪元件在被从两侧进行观察时均能同时呈现图像效果和光学变色效果，并且透射观察时具有镂空效果。

Optical anti counterfeiting element and its preparation method and optical anti counterfeiting product

【技术实现步骤摘要】
光学防伪元件及其制备方法和光学防伪产品
本专利技术涉及光学防伪领域，具体地涉及一种光学防伪元件及其制备方法和光学防伪产品。
技术介绍
为了防止利用扫描和复印等手段产生的伪造，钞票、信用卡、护照、有价证券等各类高安全或高附加值印刷品中广泛采用了光学防伪技术，并且取得了非常好的效果。例如钞票中的安全线、防伪宽条等。近年来，具有视窗结构的光学防伪产品，得到了广泛的应用。这类产品一般正反两侧观察甚至透射观察均具有不同的视觉效果，大大增强了抗伪造力度。例如，新版20欧元采用具有视窗结构的防伪宽条，正反两侧观察可见不同的全息数字图像，透射观察可见镂空的欧罗巴人物头像，具有强烈的视觉冲击，因而具有优异的防伪效果。再如，新版5英镑塑料钞上的防伪宽条，视窗部分的塔楼正反观察具有不同的颜色，透视观察塔楼的背景具有镂空透明效果。另一方面，多层镀层干涉光变技术因在不同的观察视角下呈现出强烈的光学变色效果而越来越受到人们的重视。多层镀层干涉光变技术一般采用气相沉积的方法实现反射层、介电层和部分透明层(或称吸收层)的蒸镀。反射层、介电层和部分透明层构成的三层结构为常见的干涉光变镀层的基本单元。从部分透明层一侧观察，不同的角度呈现出不同的颜色特征。例如，第五套2015版100元人民币安全线就是采用了多层干涉光变技术，垂直角度观察呈现洋红色，倾斜角度观察呈现绿色。如果将微结构光学防伪技术和多层干涉光变技术相结合则能有效发挥微结构呈现的光学图像(例如全息图像)和多层镀层呈现的光变效果双重优势，可进一步增强防伪效果。2015年发行的航天纪念钞中的安全线，就采用了光学微结构和多层干涉光变相结合的光学防伪技术。可以预期，如果产品两侧观察均具有图像效果和光变效果，并且透射观察具有局部镂空效果，且镂空区域与图像准确对位，则能大大提高防伪效果，在具有视窗特征的场合中(例如钞票上的视窗)具有良好的应用前景但是，目前尚未见到此类产品。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种光学防伪元件及其制备方法和光学防伪产品，其可实现光学防伪元件在被从两侧进行观察时均能同时呈现图像效果和光学变色效果，并且透射观察具有局部镂空效果，且镂空区域与图像准确对位。为了实现上述目的，本专利技术的一个方面提供一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括：透明的起伏结构层，包括第一起伏结构和第二起伏结构，所述第一起伏结构和所述第二起伏结构满足以下条件：所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比，和/或所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积；以及干涉光变镀层，形成在所述第一起伏结构上，其中，所述干涉光变镀层在被从两侧观察时均呈现光学变色效果，所述光学防伪元件被透射观察时呈现所述第二起伏结构的边界形成的图像。可选地，该光学防伪元件还包括：透明的基材，所述起伏结构层形成在所述基材的至少部分区域上。可选地，所述干涉光变镀层包括依次层叠的第一部分透明层、第一介电层、反射层、第二介电层和第二部分透明层。可选地，所述第一部分透明层与所述第二部分透明层不同，和/或所述第一介电层与所述第二介电层不同。可选地，所述干涉光变镀层包括依次层叠的第一部分透明层、介电层和第二部分透明层。可选地，所述第一部分透明与所述第二部分透明层不同。此外，本专利技术的另一方面提供一种光学防伪产品，该光学防伪产品包括上述的光学防伪元件。另外，本专利技术的另一方面提供一种光学防伪元件的制备方法，该制备方法包括：在基材的至少部分区域上形成透明的起伏结构层，其中，所述起伏结构层包括第一起伏结构和第二起伏结构，所述第一起伏结构和所述第二起伏结构满足以下条件：所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比，和/或所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积；以及在所述第一起伏结构上形成干涉光变镀层，其中，所述干涉光变镀层在被从两侧观察时均呈现光学变色效果，所述光学防伪元件被透射观察时呈现所述第二起伏结构的边界形成的图像。可选地，在所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比且所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积以及所述干涉光变镀层远离所述第一起伏结构的最外层不与腐蚀氛围发生反应的情况下，所述在所述第一起伏结构上形成干涉光变镀层包括：在所述起伏结构层上形成所述干涉光变镀层，其中所述干涉光变镀层至少覆盖所述第一起伏结构；以及将所述基材、所述起伏结构层和所述干涉光变镀层形成的结构放置于所述腐蚀氛围中，直到覆盖在所述第二区域上的所述干涉光变镀层被完全或者部分腐蚀为止；或在所述起伏结构层上形成所述干涉光变镀层，其中所述干涉光变镀层至少覆盖所述第一起伏结构；在所述干涉光变镀层上涂布涂层，其中，所述涂层至少覆盖所述干涉光变镀层的与所述第一起伏结构对应的部分，所述涂层使得覆盖所述第一起伏结构的所述干涉光变镀层免受所述腐蚀氛围的腐蚀；以及将所述基材、所述起伏结构层和所述干涉光变镀层形成的结构放置于所述腐蚀氛围中，直到覆盖在所述第二区域上的所述干涉光变镀层被完全或者部分腐蚀为止。可选地，在所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比且所述第一起伏结构的比体积大于所述第二起伏结构的比体积以及所述干涉光变镀层远离所述第一起伏结构的最外层不与腐蚀氛围发生反应的情况下，所述在所述第一起伏结构上形成干涉光变镀层包括：在所述起伏结构层上形成所述干涉光变镀层，其中所述干涉光变镀层至少覆盖所述第一起伏结构；以及将所述基材、所述起伏结构层和所述干涉光变镀层形成的结构放置于所述腐蚀氛围中，直到覆盖在所述第二区域上的所述干涉光变镀层被完全或者部分腐蚀为止。可选地，在所述第一起伏结构的深宽比大于所述第二起伏结构的深宽比，和/或所述干涉光变镀层的远离所述第一起伏结构的最外层与腐蚀氛围发生反应的情况下，所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积，所述在所述第一起伏结构上形成干涉光变镀层包括：在所述起伏结构层上形成所述干涉光变镀层，其中所述干涉光变镀层至少覆盖所述第一起伏结构；在所述干涉光变镀层上涂布涂层，其中，所述涂层至少覆盖所述干涉光变镀层的与所述第一起伏结构对应的部分，所述涂层使得覆盖所述第一起伏结构的所述干涉光变镀层免受所述腐蚀氛围的腐蚀；以及将所述基材、所述起伏结构层和所述干涉光变镀层形成的结构放置于所述腐蚀氛围中，直到覆盖在所述第二区域上的所述干涉光变镀层被完全或者部分腐蚀为止。可选地，所述干涉光变镀层包括依次层叠的第一部分透明层、第一介电层、反射层、第二介电层和第二部分透明层。可选地，所述第一部分透明层与所述第二部分透明层不同，和/或所述第一介电层与所述第二介电层不同。可选地，所述干涉光变镀层包括依次层叠的第一部分透明层、介电层和第二部分透明层。可选地，所述第一部分透明层与所述第二部分透明层不同。通过上述技术方案，透明的起伏结构层使得光学防伪元件在被从两侧观察时呈现图像效果，干涉光变镀层使得光学防伪元件在被从两侧观察时呈现光学变色效果，如此，实现了使得光学防伪元件在被从两侧观察时均能同时呈现本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件包括：/n透明的起伏结构层，包括第一起伏结构和第二起伏结构，所述第一起伏结构和所述第二起伏结构满足以下条件：所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比，和/或所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积；以及/n干涉光变镀层，形成在所述第一起伏结构上，其中，所述干涉光变镀层在被从两侧观察时均呈现光学变色效果，所述光学防伪元件被透射观察时呈现所述第二起伏结构的边界形成的图像。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件包括：
透明的起伏结构层，包括第一起伏结构和第二起伏结构，所述第一起伏结构和所述第二起伏结构满足以下条件：所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比，和/或所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积；以及
干涉光变镀层，形成在所述第一起伏结构上，其中，所述干涉光变镀层在被从两侧观察时均呈现光学变色效果，所述光学防伪元件被透射观察时呈现所述第二起伏结构的边界形成的图像。


2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，该光学防伪元件还包括：透明的基材，所述起伏结构层形成在所述基材的至少部分区域上。


3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述干涉光变镀层包括依次层叠的第一部分透明层、第一介电层、反射层、第二介电层和第二部分透明层。


4.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第一部分透明层与所述第二部分透明层不同，和/或所述第一介电层与所述第二介电层不同。


5.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述干涉光变镀层包括依次层叠的第一部分透明层、介电层和第二部分透明层。


6.根据权利要求5所述的光学防伪元件，其特征在于，所述第一部分透明与所述第二部分透明层不同。


7.一种光学防伪产品，其特征在于，该光学防伪产品包括权利要求1-6中任一项所述的光学防伪元件。


8.一种光学防伪元件的制备方法，其特征在于，该制备方法包括：
在基材的至少部分区域上形成透明的起伏结构层，其中，所述起伏结构层包括第一起伏结构和第二起伏结构，所述第一起伏结构和所述第二起伏结构满足以下条件：所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比，和/或所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积；以及
在所述第一起伏结构上形成干涉光变镀层，其中，所述干涉光变镀层在被从两侧观察时均呈现光学变色效果，所述光学防伪元件被透射观察时呈现所述第二起伏结构的边界形成的图像。


9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，在所述第一起伏结构的深宽比小于所述第二起伏结构的深宽比且所述第一起伏结构的比体积小于所述第二起伏结构的比体积以及所述干涉光变镀层远离所述第一起伏结构的最外层不与腐蚀氛围发生反应的情况下，所述在所述第一起伏结构上形成干涉光变镀层包括：
在所述起伏结构层上形成所述干涉光变镀层，其中所述干涉光变镀层至少覆盖所述第一起伏结构；以及将所述基材、所述起伏结构层和所述干涉光变镀层形成的结构放置于所述腐蚀氛围中，直到覆盖在所述第二区域上...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡春华，朱军，张巍巍，张宝利，李妍，
申请(专利权)人：中钞特种防伪科技有限公司，中国印钞造币总公司，
类型：发明
国别省市：北京;11