液体工艺装置制造方法及图纸

一种液体工艺装置，用以对一晶圆的表面供给一液体以进行液体工艺。液体工艺装置包括一基座、一旋转轴、一固定件、一液体供给件、一防漏件和一气体供应件。旋转轴连接基座且具有一轴内通道。固定件连接旋转轴且用以固定晶圆，固定件具有一穿设的通孔，通孔与轴内通道连通。液体供给件提供液体至晶圆的表面。防漏件与通孔连通。气体供应件连通防漏件且提供一气体源至固定件。当液体从固定件的通孔进入旋转轴时，液体流向防漏件中，以防止液体流向气体供应件。

Liquid process unit

【技术实现步骤摘要】
液体工艺装置
本专利技术是关于一种液体工艺装置，特别是一种可防止液体不当的流进液体工艺装置内部而造成设备毁损的液体工艺装置。
技术介绍
在制作半导体晶圆的过程中，会需要将晶圆放在液体工艺机台上，让晶圆在液体工艺机台上旋转，并且使液体工艺机台对晶圆的表面施加酸液以进行蚀刻；待蚀刻工艺结束后，会再使液体工艺机台对晶圆的表面施加清洗液以进行清洁。一般的液体工艺机台具有一旋转平台、一抽气通道和一抽气机。抽气通道的一端连通抽气机，另一端穿过旋转平台，如此一来，当抽气机抽气时，抽气通道设于旋转平台的一端会产生吸引力；藉此，放置在旋转平台上的晶圆会被该吸引力吸住，而不会在旋转时被甩出旋转平台。然而，若是晶圆上有裂缝，则液体工艺机台在对旋转的晶圆的表面施加液体时，液体可能会穿过裂缝而被抽气通道的吸引力吸住，此时，被抽气通道吸到的液体，便会经由抽气通道而渗入抽气机或液体工艺机台内部的其他元件内，而造成液体工艺机台的元件毁损。因此，有必要提供一种新的液体工艺机台，其可防止液体不当的流进液体工艺机台内部而造成设备毁损。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种可防止液体不当的流进液体工艺装置内部而造成设备毁损的液体工艺装置。为达成上述的目的，本专利技术的一种液体工艺装置，用以对一晶圆的表面供给一液体以进行液体工艺。液体工艺装置包括一基座、一旋转轴、一固定件、一液体供给件、一防漏件和一气体供应件。旋转轴连接基座且具有一轴内通道。固定件连接旋转轴且用以固定晶圆，固定件具有一穿设的通孔，通孔与轴内通道连通。液体供给件提供液体至晶圆的表面。防漏件与通孔连通。气体供应件连通防漏件且提供一气体源至固定件。当液体从固定件的通孔进入旋转轴时，液体流向防漏件中，以防止液体流向气体供应件。根据本专利技术之一实施例，防漏件包括一气液分离单元以及一开关件，气液分离单元与通孔连通，以使由通孔进入旋转轴的液体储存于气液分离单元。开关件包括一排液通道，开关件通过排液通道与气液分离单元连通，以控制由气液分离单元排出的液体流量。根据本专利技术之一实施例，气体供应件包括一气体通道以及一控制开关，气体供应件通过气体通道与气液分离单元连通，控制开关设置于气体通道，以控制气体通道内的一气体压力。根据本专利技术之一实施例，当液体从固定件的通孔进入旋转轴时，控制开关断开气体供应件与气液分离单元的连通。根据本专利技术之一实施例，其中当气体压力为一负压时，晶圆固定于固定件，当气体压力为一非负压时，晶圆自固定件移动。根据本专利技术之一实施例，防漏件更包括一侦测件，侦测件设置于气液分离单元的一侧以侦测气液分离单元内的液体的容量。根据本专利技术之一实施例，其中侦测件为一液位侦测器或一液重侦测器。根据本专利技术之一实施例，气液分离单元设置于轴内通道，防漏件包括一气液通道，且防漏件通过气液通道与通孔连通。根据本专利技术之一实施例，其中气液分离单元设置于基座远离旋转轴的一侧，防漏件包括一气液通道，防漏件通过气液通道与轴内通道的一端连通，其中防漏件通过气液通道与通孔连通。根据本专利技术之一实施例，其中气液通道远离通孔的一端具有一第一端口，气体通道接近通孔的一端具有一第二端口，第一端口和气液分离单元的底部相距一第一间距，第二端口和气液分离单元的底部相距一第二间距，第一间距小于第二间距。根据本专利技术之一实施例，其中该旋转轴为一旋转马达。根据本专利技术之一实施例，液体工艺装置更包括一液体收集件，液体收集件设置于基座且收集由旋转轴带动晶圆旋转时所喷出的液体。根据本专利技术之一实施例，液体工艺装置更包括一具有一缓冲空间的缓冲容器，缓冲容器设置于防漏件和气体供应件之间且彼此连通，其中液体工艺装置为多个，气体供应件提供气体源至缓冲空间，当其中至少一个液体工艺装置异常时，其余液体工艺装置通过缓冲空间的一缓冲气压维持正常运作。附图说明图1为本专利技术的第一实施例的液体工艺装置的示意图。图2为本专利技术的第一实施例的液体和气体在气液分离单元中分离的示意图。图3为本专利技术的第二实施例的液体工艺装置的示意图。图3a为本专利技术的第二实施例的具有另一态样的气液通道的液体工艺装置的示意图。图4为本专利技术的第三实施例的液体和气体在气液分离单元中分离的示意图。图5为本专利技术的第四实施例的液体和气体在气液分离单元中分离的示意图。图6为本专利技术的第五实施例的液体工艺装置的示意图。其中附图标记为：液体工艺装置1、1a、1b固定件10通孔11旋转轴20、20a轴内通道22、22a防漏件30、30a、30b、30c气液分离单元31、31a、31b、31c开关件33、33a排液通道331、331a、331b、331c检测件34、34b、34c气液通道35、36、36a第一端口351隔板37、37a气体供应件40、40a、40b、40c、40d气体通道41、41a、41b、41c、41d第二端口411控制开关42液体供给件50液体收集件60收集环61、61a基座70、70a侧壁71、71a缓冲容器80驱动件90气体流动方向A第一间距D第二间距E液体L晶圆W裂缝Y具体实施方式为能让贵审查委员能更了解本专利技术的
技术实现思路
，特举较佳具体实施例说明如下。以下请一并参考图1至图2关于本专利技术的第一实施例的液体工艺装置。图1为本专利技术的第一实施例的液体工艺装置的示意图；图2为本专利技术的第一实施例的液体和气体在气液分离单元中分离的示意图。在本专利技术的第一实施例之中，如图1和图2所示，本专利技术的液体工艺装置1是用以对一晶圆W的表面供给一液体L以进行液体工艺。液体L例如为酸液或清洗液，其可施加在晶圆W的表面以进行蚀刻或清洗的液体工艺。液体工艺装置1包括一固定件10、一旋转轴20、一防漏件30、一气体供应件40、一液体供给件50、一液体收集件60和一基座70。在本专利技术的第一实施例之中，固定件10是用以固定和承载晶圆W的平台。固定件10具有一穿设的通孔11，通孔11连通旋转轴20的内部。固定件10也可和旋转轴20、防漏件30及气体供应件40配合而在固定件10表面产生吸引力，该吸引力可吸引而固定晶圆W。然而，固定件10固定晶圆W的方式并不以上述为限，固定件10亦可设计为具有吹气效能，以通过习知的吹气悬浮方式来固定晶圆W，或是设计为具有爪夹，以夹取晶圆W周围来固定晶圆W。在本专利技术的第一实施例之中，旋转轴20连接固定件10的底部，旋转轴20用以带动固定件10旋转。旋转轴20包括一轴内通道22。轴内通道22用以容纳液体工艺装置1的一部分元件，轴内通道22顶端设有一开孔，开孔对齐通孔11，藉此，轴内通道22连通固定件10的通孔11。于本实施例中，仅以单个通孔11以及对齐设置作为举例，可依本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种液体工艺装置，用以对一晶圆的表面供给一液体以进行液体工艺，其特征在于，该液体工艺装置包括：/n一基座；/n一旋转轴，连接该基座且具有一轴内通道；/n一固定件，连接该旋转轴且用以固定该晶圆，该固定件具有一穿设的通孔，该通孔与该轴内通道连通；/n一液体供给件，提供该液体至该晶圆的表面；/n一防漏件，与该通孔连通，防漏件包括一气液分离单元以及一开关件，该气液分离单元与该通孔连通，该开关件包括一排液通道，该开关件通过该排液通道与该气液分离单元连通，以控制由该气液分离单元排出的该液体流量；以及/n一气体供应件，连通该防漏件且提供一气体源至该固定件；/n其中当该液体从该固定件的该通孔进入该旋转轴时，该液体流向该防漏件中，以防止该液体流向该气体供应件；藉由该气液分离单元与该通孔连通，使由该通孔进入该旋转轴的该液体储存于该气液分离单元。/n

【技术特征摘要】
20161110 US 62/420,1071.一种液体工艺装置，用以对一晶圆的表面供给一液体以进行液体工艺，其特征在于，该液体工艺装置包括：
一基座；
一旋转轴，连接该基座且具有一轴内通道；
一固定件，连接该旋转轴且用以固定该晶圆，该固定件具有一穿设的通孔，该通孔与该轴内通道连通；
一液体供给件，提供该液体至该晶圆的表面；
一防漏件，与该通孔连通，防漏件包括一气液分离单元以及一开关件，该气液分离单元与该通孔连通，该开关件包括一排液通道，该开关件通过该排液通道与该气液分离单元连通，以控制由该气液分离单元排出的该液体流量；以及
一气体供应件，连通该防漏件且提供一气体源至该固定件；
其中当该液体从该固定件的该通孔进入该旋转轴时，该液体流向该防漏件中，以防止该液体流向该气体供应件；藉由该气液分离单元与该通孔连通，使由该通孔进入该旋转轴的该液体储存于该气液分离单元。


2.如权利要求1所述的液体工艺装置，其特征在于，该气体供应件包括一气体通道以及一控制开关，该气体供应件通过该气体通道与该气液分离单元连通，该控制开关设置于该气体通道，以控制该气体通道内的一气体压力。


3.如权利要求2所述的液体工艺装置，其特征在于，当该液体从该固定件的该通孔进入该旋转轴时，该控制开关断开该气体供应件与该气液分离单元的连通。


4.如权利要求2所述的液体工艺装置，其特征在于，当该气体压力为一负压时，该晶圆固定于该固定件，当该气体压力为一非负压时，该晶圆自该固定件移动。


5.如权利要求1所述的液体工艺装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯傳彰，吴庭宇，蔡文平，刘茂林，李威震，
申请(专利权)人：辛耘企业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71