一种清洁膏及其制备方法技术

一种真皮清洁膏及其制备方法，属于精细化工技术领域，所述清洁膏含有下列重量百分比的组分：烷基糖苷3‑8%，醇醚羧酸盐4‑8%，脂肪酸甲酯乙氧基化物5‑8%，乙二胺四乙酸二钠盐0.1‑0.4%，聚乙二醇0.5‑4%，椰油基二乙醇酰胺2‑3%，苯乙烯与丙烯酸共聚物0.2‑1%，防腐剂0.05‑0.2%，氯化钠盐0.5‑1%，去离子水70‑80%。该清洁膏不含磷，与皮肤接触不刺激，对天然皮革无腐蚀。对于难以去除的污垢有着较强的润湿、分散作用，去污效果显著。

A cleaning paste and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种清洁膏及其制备方法
本专利技术属于精细化工
，具体涉及一种真皮清洁膏及其制备方法。
技术介绍
皮具，如皮包，皮衣，真皮沙发等，一般在自然条件下都是很容易沾灰的，灰尘，汗渍，油污，茶水等沾到皮层上面后，如长期不做清洁不清除的话，容易造成皮层的霉烂，开裂，褶皱。采用洗衣粉、洗洁精去清洁，香蕉皮、牙膏清洁，之后再用湿毛巾擦拭的话，不仅达不到理想的清洁效果，反而会让您心爱的皮具寿命减少，皮具长期基础水分，会加减速皮层的老化。所以一般皮具保养宜选用清洁膏进行清洁。而现有清洁膏类产品大多含有磷酸盐，其在使用时会对环境产生很大的破坏，而且其产品在长期对皮革制品使用后会是皮革板结。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提出一种清洁膏，该清洁膏含有下列重量百分比的组分：烷基糖苷3-8%，醇醚羧酸盐4-8%，脂肪酸甲酯乙氧基化物5-8%，乙二胺四乙酸二钠盐0.1-0.4%，聚乙二醇0.5-4%，椰油基二乙醇酰胺2-3%，苯乙烯与丙烯酸共聚物0.2-1%，凯松0.05-0.2%，氯化钠盐0.5-1%，去离子水70-80%。该清洁膏不含磷，与皮肤接触不刺激，对天然皮革无腐蚀。对于难以去除的污垢有着较强的润湿、分散作用，去污效果显著。本专利技术采用如下技术方案：一种清洁膏，所述清洁膏含有下列重量百分比的组分：烷基糖苷3-8%，醇醚羧酸盐4-8%，脂肪酸甲酯乙氧基化物5-8%，乙二胺四乙酸二钠盐0.1-0.4%，聚乙二醇0.5-4%，椰油基二乙醇酰胺2-3%，苯乙烯与丙烯酸共聚物0.2-1%，防腐剂0.05-0.2%，氯化钠盐0.5-1%，去离子水70-80%。所述的一种清洁膏，所述清洁膏原料为水70-80%，PEG-08103-8%，AES4-8%，尼纳尔4-7%，PEG-80000.5-4%，EDTA-2Na0.1-0.4%，NaCl0.5-1%，苯乙烯与丙烯酸共聚物0.2-1%，防腐剂0.05-0.2%，香精0.01-0.1%。进一步地，所述防腐剂为凯松。进一步地，所述香精为水溶或油溶。所述的清洁膏的制备方法，其特征在于，所述方法包括如下制备步骤：1）按配方要求准确称量物料；2）将配方量的水加入合成釜；3）水进行加热，使水温达到60℃，将称量好的PEG-0810、AES、尼纳尔、PEG-8000、EDTA-2Na依次加入合成釜，反应10-50min；4）将称量好的NaCl缓慢加入，反应5-10min；5）对物料进行冷却降温，当温度达到40℃时加入防腐剂和遮光剂，反应3-5min，继续降温至30℃时加入香精，反应1-3min，继续降温至25℃，使物料温度均匀。本专利技术的有益效果为：本专利技术清洁膏为高浓缩产品，安全可靠，生态环保，不含磷，与皮肤接触不刺激，对天然皮革无腐蚀。对于难以去除的污垢有着较强的润湿、分散作用，去污效果显著。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术做进一步解释。实施例1称取原料：水386kg，PEG-081025kg，AES50kg，650130kg，PEG-80005kg，EDTA-2Na0.5kg，NaCl3kg，遮光剂0.5kg，防腐剂0.5kg，香精0.3kg，合计500kg。按如下制备方法制备：一、称量按配方要求准确称量物料要求：称量完成后反复核对，以免漏称。投料与混合按照配方称量好水并加入加热釜。打开无色出料阀，使水全部流入合成釜，开启合成釜搅拌器（变频器数显40）关闭无色出料阀。开启合成釜进气阀，对水进行加热，使水温达到60℃，关闭进气阀。将称量好的物料依次加入合成釜，开启循环阀后开启循环按钮，循环10分钟，关闭循环按钮。保持30分钟。将称量好的NaCl缓慢加入合成釜，开启循环按钮，循环5分钟，关闭循环按钮。降温开启出水阀后开启进水阀，对物料进行冷却降温，当温度达到40℃时加入防腐剂和遮光剂，并开启循环按钮，循环3分钟，关闭循环按钮。继续降温至30℃时加入香精，并开启循环按钮，循环2分钟，关闭循环按钮。继续降温至物料温度均匀，温度达到25℃后关闭出水阀。放料1、打开移动罐进料阀，开启循环按钮，缓慢关闭循环阀，待物料完全打入移动罐后，关闭合成釜搅拌器，关闭移动罐进料阀。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洁膏，其特征在于，所述清洁膏含有下列重量百分比的组分：烷基糖苷3-8%，醇醚羧酸盐4-8%，脂肪酸甲酯乙氧基化物5-8%，乙二胺四乙酸二钠盐0.1-0.4%，聚乙二醇0.5-4%，椰油基二乙醇酰胺2-3%，苯乙烯与丙烯酸共聚物0.2-1%，防腐剂0.05-0.2%，氯化钠盐0.5-1%，去离子水70-80%。/n

【技术特征摘要】
1.一种清洁膏，其特征在于，所述清洁膏含有下列重量百分比的组分：烷基糖苷3-8%，醇醚羧酸盐4-8%，脂肪酸甲酯乙氧基化物5-8%，乙二胺四乙酸二钠盐0.1-0.4%，聚乙二醇0.5-4%，椰油基二乙醇酰胺2-3%，苯乙烯与丙烯酸共聚物0.2-1%，防腐剂0.05-0.2%，氯化钠盐0.5-1%，去离子水70-80%。


2.根据权利要求1所述的一种清洁膏，其特征在于，所述清洁膏原料为水70-80%，PEG-08103-8%，AES4-8%，尼纳尔4-7%，PEG-80000.5-4%，EDTA-2Na0.1-0.4%，NaCl0.5-1%，苯乙烯与丙烯酸共聚物0.2-1%，防腐剂0.05-0.2%，香精0.01-0.1%。


3.根据权利要求2所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘庆来，
申请(专利权)人：沈阳翰皇日用品有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21