一种方便加工的锅具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种方便加工的锅具，属于电磁加热用锅具技术领域，包括铝制的锅体，所述锅体的底部设有凸台，所述凸台的底部设有熔射区和围绕在所述熔射区外侧的定位区，所述熔射区内熔射有导磁层，所述定位区用于在熔射导磁层时定位遮喷工装，遮喷工装遮挡定位区，以避免导磁层熔射到定位区外侧的锅体上。采用本实用新型专利技术中的锅具，在加工时能够通过定位遮喷工装，以保证熔射区内全部熔射导磁粉末，又能避免导磁粉末熔射到定位区外侧的锅体上，由此提高了产品合格率。

【技术实现步骤摘要】
一种方便加工的锅具
本技术涉及电磁加热用的锅具，尤其涉及一种方便加工的锅具。
技术介绍
目前市场上的铝锅等非导磁金属锅具因本身不具备导磁功能而无法适用于电磁炉，为了能使得铝锅或者其他非导磁金属锅具也能在电磁炉等电磁加热器具上使用，现有技术中一般是在锅底铆压有复底片或熔射有由导磁粉末形成的导磁层，相比设有复底片的锅具，熔射导磁层的锅具具有电磁噪声低和热传导性能好的特点，但由于目前锅具结构的限制，无法定位遮喷工装，由此一来，在熔射时，遮喷工装易产生位置偏移而遮挡熔射区，如此便会导致部分熔射区没有熔射导磁粉末，进而导致锅具报废，降低了产品合格率。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题在于克服现有技术的不足而提供一种方便加工的锅具，能够通过定位遮喷工装，可以保证熔射区内全部熔射导磁粉末，又能避免导磁粉末熔射到定位区外侧的锅体上，由此提高了产品合格率。为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：一种方便加工的锅具，包括铝制的锅体，所述锅体的底部设有凸台，所述凸台的底部设有熔射区和围绕在所述熔射区外侧的定位区，所述熔射区内熔射有导磁层，所述定位区用于在熔射导磁层时定位遮喷工装，遮喷工装遮挡定位区，以避免导磁层熔射到定位区外侧的锅体上。进一步的，所述熔射区的表面为凹凸不平的粗糙面，所述导磁层熔射于所述粗糙面上。更进一步的，所述熔射区的表面分布有凹槽和/或凸出的花纹，所述凹槽的深度为0.5mm～1mm，所述花纹的凸出高度为0.5mm～1mm。进一步的，所述熔射区为设在所述凸台底部的熔射槽，定位区为围绕在熔射区外侧的定位槽，所述熔射槽与定位槽之间形成台阶面，所述导磁层的底面与所述台阶面平齐。更进一步的，所述凸台的底部还具有围绕在所述定位槽外侧的支撑面，所述锅体外表面位于所述支撑面以外的区域喷涂有浅色耐高温涂料层，所述定位槽和导磁层底面喷涂有深色耐高温涂料层。更进一步的，所述支撑面为车削亮面。更进一步的，所述支撑面的径向宽度为3mm～5mm。更进一步的，所述锅体的底部还熔射有铝层，所述铝层位于所述导磁层与深色耐高温涂料层之间。进一步的，所述导磁层为熔射在所述熔射区内的铁砂层。进一步的，所述定位区的径向宽度为4mm～6mm。本技术的有益效果：本技术中锅体的底部设有凸台，凸台的底部设有熔射区和围绕在熔射区外侧的定位区，熔射区内熔射有导磁层，定位区用于在熔射导磁层时定位遮喷工装，遮喷工装遮挡定位区，如此一来，通过定位区定位遮喷工装，可以避免遮喷工装在熔射时发生位置偏移，从而保证熔射区内全部熔射有导磁粉末，又能避免导磁粉末熔射到定位区外侧的锅体上，如此便提高了锅具合格率；同时也能通过该定位区定位用于遮挡熔射区的遮喷工装，由此避免了采用其他额外辅助机构对两种遮喷工装进行定位，方便了锅具的加工。熔射区的表面为凹凸不平的粗糙面，导磁层熔射于粗糙面上。粗糙面的设计既可以增加导磁层与锅体的粘结度，避免导磁层遇热冷却后整体收缩造成脱底，提高产品合格率，又可以增大熔射面积，提高锅具功率。熔射区的表面分布有凹槽和/或凸出的花纹，凹槽的深度为0.5mm～1mm，花纹的凸出高度为0.5mm～1mm。凹槽和花纹的设计能够进一步增大导磁层的附着力以及熔射面积；而将凹槽的深度设为0.5mm～1mm，既可以便于凹槽的加工成型，又可以避免因凹槽过深导致锅底过薄而发生破裂现象；将花纹的凸出高度为0.5mm～1mm，既可以便于凸起的加工成型，又能避免锅底局部过厚导致导热性变差的现象发生。熔射区为设在凸台底部的熔射槽，定位区为围绕在熔射区外侧的定位槽，熔射槽与定位槽之间形成台阶面，导磁层的底面与台阶面平齐。如此设计，既能避免藏污纳垢，还能提升锅具底部的外观。凸台的底部还具有围绕在定位槽外侧的支撑面，锅体外表面位于支撑面以外的区域喷涂有浅色耐高温涂料层，定位槽和导磁层底面喷涂有深色耐高温涂料层。定位槽和导磁层底面喷涂深色耐高温涂料层，可以避免加热时外涂变色而影响产品外观，而外围锅身喷涂的浅色耐高温涂料层颜色可以和电磁炉任意搭配，提高产品外观。支撑面为车削亮面。如此设计，可以将两种颜色涂层的喷涂结合部位处理掉，工艺简单，同时也能提升产品的外观。支撑面的径向宽度为3mm～5mm。如此设计，在锅具底部尺寸不变的情况下，既能保证熔射区的面积，以此保证锅具的加热效果，又能保证支撑面与电磁炉的接触面积，进而保证了锅具放置的平稳性。当支撑面的径向宽度小于3mm时，支撑面与电磁炉的接触面积过小，锅具易发生滑动，而当支撑面的径向宽度大于5mm时，熔射区的面积会减少，导致锅具加热效果差。锅体的底部还熔射有铝层，铝层位于导磁层与深色耐高温涂料层之间。如此设计，在对功率影响不大情况下对导磁层进行防锈保护，后续喷涂工艺简单，铝层也不容易脱落，同时，铝层也能避免导磁层磨损，有效延长了锅具的使用寿命。定位区的径向宽度为4mm～6mm。如此设计，既能便于定位区的加工成型，又能在锅具底部尺寸不变的情况下，保证熔射区的面积，以此保证锅具的加热效果。本技术的这些特点和优点将会在下面的具体实施方式、附图中详细的揭露。【附图说明】下面结合附图对本技术做进一步的说明：图1为本技术实施例一中锅体的结构示意图；图2为本技术实施例一中锅体的剖视图；图3为图2中A的局部放大示意图；图4为本技术实施例一中锅体熔射有导磁层后的剖视图；图5为图4中B的局部放大示意图；图6为本技术实施例二中锅体的结构示意图。附图标记：1、锅体；11、凸台；12、熔射区；121、台阶面；13、定位区；14、环形凹槽；15、圆形凹槽；16、支撑面；17、花纹；2、导磁层；3、深色耐高温涂层。【具体实施方式】本技术提供了一种方便加工的锅具，包括铝制的锅体，所述锅体的底部设有凸台，所述凸台的底部设有熔射区和围绕在所述熔射区外侧的定位区，所述熔射区内熔射有导磁层，所述定位区用于在熔射导磁层时定位遮喷工装，遮喷工装遮挡定位区，以避免导磁层熔射到定位区外侧的锅体上。本技术中凸台底部设置的定位区用于在熔射导磁层时定位遮喷工装，遮喷工装遮挡定位区，如此一来，通过定位区定位遮喷工装，可以避免遮喷工装在熔射时发生位置偏移，从而保证熔射区内全部熔射有导磁粉末，又能避免导磁粉末熔射到定位区外侧的锅体上，如此便提高了锅具合格率；同时也能通过该定位区定位用于遮挡熔射区的遮喷工装，由此避免了采用其他额外辅助机构对两种遮喷工装进行定位，方便了锅具的加工。下面结合本技术实施例的附图对本技术实施例的技术方案进行解释和说明，但下述实施例仅为本技术的优选实施例，并非全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其他实施例，都属于本技术的保护范围。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种方便加工的锅具，包括铝制的锅体，其特征在于，所述锅体的底部设有凸台，所述凸台的底部设有熔射区和围绕在所述熔射区外侧的定位区，所述熔射区内熔射有导磁层，所述定位区用于在熔射导磁层时定位遮喷工装，遮喷工装遮挡定位区，以避免导磁层熔射到定位区外侧的锅体上。/n

【技术特征摘要】
1.一种方便加工的锅具，包括铝制的锅体，其特征在于，所述锅体的底部设有凸台，所述凸台的底部设有熔射区和围绕在所述熔射区外侧的定位区，所述熔射区内熔射有导磁层，所述定位区用于在熔射导磁层时定位遮喷工装，遮喷工装遮挡定位区，以避免导磁层熔射到定位区外侧的锅体上。


2.如权利要求1所述的锅具，其特征在于，所述熔射区的表面为凹凸不平的粗糙面，所述导磁层熔射于所述粗糙面上。


3.如权利要求2所述的锅具，其特征在于，所述熔射区的表面分布有凹槽和/或凸出的花纹，所述凹槽的深度为0.5mm～1mm，所述花纹的凸出高度为0.5mm～1mm。


4.如权利要求1所述的锅具，其特征在于，所述熔射区为设在所述凸台底部的熔射槽，定位区为围绕在熔射区外侧的定位槽，所述熔射槽与定位槽之间形成台阶面，所述导磁层的底面与所述台阶面平齐...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱泽春，徐磊阳，高朝岗，
申请(专利权)人：九阳股份有限公司，
类型：新型
国别省市：山东;37